[發(fā)明專利]保護(hù)膜覆蓋方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610997931.2
• 申請(qǐng)日: 2016-11-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN106952871A
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-07-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 巖本拓;吉田博斗;九鬼潤(rùn)一
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社迪思科
• 主分類號(hào): H01L21/78
• 分類號(hào): H01L21/78;H01L21/02
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11127
• 代理人: 李輝,于靖帥

1.一種保護(hù)膜覆蓋方法，利用水溶性樹(shù)脂在晶片的正面上覆蓋保護(hù)膜，該晶片在正面上呈格子狀形成有多條分割預(yù)定線并且在由該多條分割預(yù)定線劃分出的多個(gè)區(qū)域內(nèi)形成有器件，該保護(hù)膜覆蓋方法的特征在于，

具有如下的工序：

晶片支承工序，在具有對(duì)晶片進(jìn)行收容的開(kāi)口的環(huán)狀的框架的該開(kāi)口中經(jīng)由粘合帶而粘接晶片的背面，從而利用環(huán)狀的框架對(duì)晶片進(jìn)行支承；

晶片保持工序，在經(jīng)由粘合帶將晶片支承在環(huán)狀的框架上的狀態(tài)下以晶片的正面作為上側(cè)而保持在旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)上；

保護(hù)膜覆蓋工序，一邊使旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)一邊向旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)所保持的晶片的正面中央?yún)^(qū)域滴下水溶性樹(shù)脂，從而在晶片的正面上覆蓋由水溶性樹(shù)脂形成的保護(hù)膜；以及

水溶性樹(shù)脂去除工序，將在該保護(hù)膜覆蓋工序中飛散到環(huán)狀的框架的上表面的水溶性樹(shù)脂去除，

在該水溶性樹(shù)脂去除工序中，一邊使旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)一邊將清洗噴嘴定位在旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)所保持的環(huán)狀的框架的上表面而向環(huán)狀的框架的上表面提供清洗水，并且將空氣噴嘴與該清洗噴嘴相鄰地定位在旋轉(zhuǎn)方向下游側(cè)，提供空氣以使該空氣逆著被提供到環(huán)狀的框架的上表面的清洗水的移動(dòng)而使清洗水暫時(shí)滯留并且將清洗水排出到環(huán)狀的框架的外側(cè)。