[發(fā)明專利]具有至少一個視錯覺圖案的硅基部件的制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610990311.6 | 申請日: | 2016-11-10 |
| 公開(公告)號: | CN107215846B | 公開(公告)日: | 2020-10-20 |
| 發(fā)明(設計)人: | P·屈贊;A·甘德爾曼;M·穆西 | 申請(專利權)人: | 尼瓦洛克斯-法爾股份有限公司 |
| 主分類號: | B81C1/00 | 分類號: | B81C1/00 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人: | 黃麗娜;吳鵬 |
| 地址: | 瑞士勒*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 至少 一個 錯覺 圖案 基部 制造 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種提供經(jīng)刻面和/或斜切過的錯覺的形狀簡單的一件式、硅基部件的制造方法,所述硅基部件用于形成鐘表外部部分的全部或一部分。
技術領域
本發(fā)明涉及一種具有平整表面的硅基部件的制造方法,所述平整表面包括至少一個視錯覺圖案,更具體地,包括使得平整表面看上去不平整和/或包含兩種類型的材料的至少一個圖案。
背景技術
已知形成上表面經(jīng)刻面和/或斜切過的外部部件以便改善鐘表的美觀性。專利EP1722281公開了一種用于在不需要進行精加工步驟的情況下制造經(jīng)刻面的硅部件的方法。
發(fā)明內容
本發(fā)明的目標在于通過提出一種既不需要進行刻面也不需要進行精加工的制造方法來獲得一種提供經(jīng)刻面和/或斜切過的和/或復合部件的錯覺的更簡單的硅基部件,從而克服上述缺陷中的全部或一部分。
為此,本發(fā)明涉及一種具有至少一個視錯覺圖案的至少一個硅基部件的制造方法,該方法包括如下步驟:
a)形成包括硅基層的襯底;
b)貫穿所述硅基層的厚度蝕刻至少一個孔以形成所述至少一個硅基部件的輪廓,并且在所述硅基層的厚度中蝕刻盲凹部以形成具有平整表面的所述至少一個硅基部件,所述平整表面包括使得所述表面看上去不平整的至少一個視錯覺圖案;
c)釋放由襯底由此形成的所述至少一個部件。
由此應當理解,作為硅基層的平整度的結果,所述制造方法允許部件形成為具有平整表面,而不再需要隨后進行刻面或者更普遍地隨后進行精加工。
此外,所述制造方法提供了極高精度的尺寸以及同一襯底上的同一類型的一件式硅基部件或多個不同的一件式硅基部件的極高再現(xiàn)性。
最后有利地根據(jù)本發(fā)明,所述制造方法的極高精度與極高再現(xiàn)性使得能夠獲得設置有至少一個非常精細且易于再制造的圖案的極簡單的部件,所述圖案使得平整表面即使例如通過切斜邊或斜切而進行加工后仍然看上去不平整。
根據(jù)本發(fā)明的其它有利變型:
-根據(jù)第一實施例,所述盲凹部形成由平行部段構成的至少兩個組,第一組平行部段以10°至170°的角度接合第二組平行部段,使得所述至少一個硅基部件給出所述平整表面包括形成邊緣的兩個傾斜表面的錯覺;
-根據(jù)第二實施例,所述盲凹部形成至少一組彎曲部段,使得所述至少一個硅基部件給出所述平整表面呈穹頂形的錯覺;
-根據(jù)第三實施例,所述盲凹部形成彼此對稱布置的至少一組凹部,所述至少一組凹部毗鄰其中所述至少一個硅基部件的上表面不具有凹部的部分地形成,使得所述至少一個硅基部件給出所述平整表面包括形成邊緣的兩個傾斜表面的錯覺;
-根據(jù)第四實施例,所述盲凹部布置在所述至少一個硅基部件的外周并且形成至少兩組平行部段,第一組的平行部段與第二組的平行部段垂直并且以一定角度接合,使得所述至少一個硅基部件給出所述平整表面被斜切過的錯覺;
-根據(jù)第五實施例,所述盲凹部形成彼此對稱布置的至少一組凹部,所述至少一組凹部由所述至少一個硅基部件的不具有凹部的表面分界,使得所述至少一個硅基部件給出所述平整表面鮮明地由兩種不同材料制成的錯覺;
-所述盲凹部的深度介于2與100μm之間;
-該方法進一步包括在步驟b)與步驟c)之間的步驟d):
在所述襯底的其余部分的厚度中形成至少一個通孔,以形成具有緊固裝置的所述至少一個部件;
-所述硅基層具有50到500μm的厚度;
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