[發(fā)明專利]一種基于CDSEM的特征識(shí)別方法及裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610984604.3 | 申請(qǐng)日: | 2016-11-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108062500B | 公開(公告)日: | 2020-05-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 柏聳;袁可方 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06K9/00 | 分類號(hào): | G06K9/00;G06K9/62 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 張振軍;吳敏 |
| 地址: | 201203 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 cdsem 特征 識(shí)別 方法 裝置 | ||
本發(fā)明提供一種基于CDSEM的特征識(shí)別方法及裝置,所述方法包括:通過CDSEM獲取訓(xùn)練襯底的CDSEM識(shí)別信息,所述訓(xùn)練襯底上設(shè)置有已知的特征,所述CDSEM識(shí)別信息包括CDSEM圖像及其相應(yīng)的CDSEM特征曲線;根據(jù)所述訓(xùn)練襯底的CDSEM識(shí)別信息以及所述已知的特征對(duì)神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行訓(xùn)練,以使得訓(xùn)練后的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)適于對(duì)待識(shí)別襯底進(jìn)行特征識(shí)別。本發(fā)明的方案能夠基于CDSEM對(duì)半導(dǎo)體襯底的特征進(jìn)行更為準(zhǔn)確的識(shí)別。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種基于CDSEM的特征識(shí)別方法及裝置。
背景技術(shù)
關(guān)鍵尺寸掃描電子顯微鏡(Critical Dimension Scanning ElectronicMicroscope,CDSEM)是一種在半導(dǎo)體工藝中用于測(cè)量半導(dǎo)體襯底上圖案的關(guān)鍵尺寸(CD)的儀器,其工作原理是:從電子槍照射出的電子束通過聚光透鏡匯聚,穿過開孔(aperture)到達(dá)測(cè)定對(duì)象的圖案上,利用探測(cè)器捕捉放出的二次電子并將其變換為電信號(hào),獲得二維的CDSEM圖像,并生成與其相應(yīng)的CDSEM特征曲線,以CDSEM圖像及其相應(yīng)的CDSEM特征曲線為基礎(chǔ)高精度的測(cè)量出測(cè)定對(duì)象的關(guān)鍵尺寸。
現(xiàn)有的CDSEM可以對(duì)半導(dǎo)體襯底的特征的關(guān)鍵尺寸進(jìn)行測(cè)量,但在某些情況下并不能準(zhǔn)確的對(duì)半導(dǎo)體襯底的特征進(jìn)行識(shí)別。例如,在特征尺寸較小、凸起和凹陷特征尺寸相近似等情況下,現(xiàn)有的CDSEM對(duì)半導(dǎo)體襯底的特征識(shí)別準(zhǔn)確度較差。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的技術(shù)問題是基于CDSEM對(duì)半導(dǎo)體襯底的特征進(jìn)行更為準(zhǔn)確的識(shí)別。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明實(shí)施例提供一種基于CDSEM的特征識(shí)別方法,包括:通過CDSEM獲取訓(xùn)練襯底的CDSEM識(shí)別信息,所述訓(xùn)練襯底上設(shè)置有已知的特征,所述CDSEM識(shí)別信息包括CDSEM圖像及其相應(yīng)的CDSEM特征曲線;根據(jù)所述訓(xùn)練襯底的CDSEM識(shí)別信息以及所述已知的特征對(duì)神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行訓(xùn)練,以使得訓(xùn)練后的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)適于對(duì)待識(shí)別襯底進(jìn)行特征識(shí)別。
可選的,所述基于CDSEM的特征識(shí)別方法還包括:通過CDSEM獲取待識(shí)別襯底的CDSEM識(shí)別信息;根據(jù)所述待識(shí)別襯底的CDSEM識(shí)別信息和所述訓(xùn)練后的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)對(duì)所述待識(shí)別襯底進(jìn)行特征識(shí)別。
可選的,所述特征包括:凸起和凹陷;所述對(duì)待識(shí)別的襯底進(jìn)行特征識(shí)別包括:確定待識(shí)別的特征為凸起或者凹陷。
可選的,所述通過CDSEM獲取訓(xùn)練襯底的CDSEM識(shí)別信息包括:通過CDSEM獲取所述采樣襯底中的所述已知的特征的所述CDSEM識(shí)別信息以作為注冊(cè)信息,所述采樣襯底是從多個(gè)包含相同的已知的特征的訓(xùn)練襯底中選取的;通過CDSEM批量獲取所述多個(gè)包含相同已知的特征的訓(xùn)練襯底中與所述注冊(cè)信息對(duì)應(yīng)的CDSEM識(shí)別信息。
可選的,獲取所述CDSEM識(shí)別信息包括:以CDSEM的不同的測(cè)量模式分別獲取所述CDSEM識(shí)別信息,所述測(cè)量模式包括凸起測(cè)量模式和凹陷測(cè)量模式;通過CDSEM批量獲取所述多個(gè)包含相同已知的特征的訓(xùn)練襯底中與所述注冊(cè)信息對(duì)應(yīng)的CDSEM識(shí)別信息包括:以凸起測(cè)量模式和凹陷測(cè)量模式分別獲取所述多個(gè)包含相同已知的特征的訓(xùn)練襯底中與所述注冊(cè)信息對(duì)應(yīng)的CDSEM識(shí)別信息;獲取所述CDSEM識(shí)別信息后,所述基于CDSEM的特征識(shí)別方法還包括:對(duì)以與所述已知的特征相符的測(cè)量模式獲取到的所述CDSEM識(shí)別信息添加正確的標(biāo)簽,以與所述已知的特征不符的測(cè)量模式獲取到的所述CDSEM識(shí)別信息添加錯(cuò)誤的標(biāo)簽。
可選的,根據(jù)所述CDSEM識(shí)別信息和所述已知的特征對(duì)神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行訓(xùn)練包括:根據(jù)以不同測(cè)量模式獲取的所述CDSEM識(shí)別信息,以及對(duì)應(yīng)的標(biāo)簽訓(xùn)練所述神經(jīng)網(wǎng)絡(luò),使得所述訓(xùn)練后的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)適于識(shí)別待識(shí)別特征,以選擇與所述待識(shí)別襯底上的待識(shí)別特征相匹配的測(cè)量模式對(duì)所述待識(shí)別特征進(jìn)行尺寸測(cè)量。
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- 專利分類
G06K 數(shù)據(jù)識(shí)別;數(shù)據(jù)表示;記錄載體;記錄載體的處理
G06K9-00 用于閱讀或識(shí)別印刷或書寫字符或者用于識(shí)別圖形,例如,指紋的方法或裝置
G06K9-03 .錯(cuò)誤的檢測(cè)或校正,例如,用重復(fù)掃描圖形的方法
G06K9-18 .應(yīng)用具有附加代碼標(biāo)記或含有代碼標(biāo)記的打印字符的,例如,由不同形狀的各個(gè)筆畫組成的,而且每個(gè)筆畫表示不同的代碼值的字符
G06K9-20 .圖像捕獲
G06K9-36 .圖像預(yù)處理,即無須判定關(guān)于圖像的同一性而進(jìn)行的圖像信息處理
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