[發(fā)明專利]冷卻裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610982037.8 | 申請日: | 2016-11-08 |
| 公開(公告)號: | CN107043918B | 公開(公告)日: | 2019-10-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 安田淳一;村山吉信;降矢新治 | 申請(專利權(quán))人: | 愛發(fā)科低溫泵株式會社 |
| 主分類號: | C23C14/54 | 分類號: | C23C14/54 |
| 代理公司: | 上海和躍知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31239 | 代理人: | 余文娟 |
| 地址: | 日本神奈川*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 冷卻 裝置 | ||
本發(fā)明提供一種能抑制收納有冷卻對象的空間中的排氣速度下降的冷卻裝置。冷卻裝置具備冷卻部和被冷卻部冷卻的冷卻體。冷卻體包括與冷卻部連接的第1面(12a)和第1面(12a)相反側(cè)的第2面(12b)。冷卻體(12)進一步包括使氣體在第1面(12a)與第2面(12b)之間流動的通道(21s)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及對冷卻對象進行冷卻的冷卻裝置。
背景技術(shù)
成膜裝置、蒸鍍裝置等真空處理裝置具備低溫機構(gòu),低溫機構(gòu)通過使裝置內(nèi)的氣體凝結(jié)而將其捕捉,從而對真空處理裝置內(nèi)進行減壓(例如,參照專利文獻1)。另外,在真空處理裝置中,使用例如利用熱輻射冷卻作為處理對象的基板的冷卻板(例如,參照專利文獻2)。冷卻板被在配置于冷卻板的內(nèi)部的配管中流動的冷卻水冷卻,通過與基板相對的冷卻板的相對面從基板吸熱,從而冷卻基板。
現(xiàn)有技術(shù)文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開平11-166477號公報
專利文獻2:日本特開2005-332619號公報
但是,在通過冷卻板冷卻基板時,優(yōu)選將冷卻板的相對面的大小設(shè)定得接近基板的大小,并將基板與相對面之間的距離設(shè)定得小。但是,冷卻板的相對面變得越大,冷卻板與真空處理裝置的內(nèi)周面的間隙變得越小,并且使冷卻板的相對面越接近基板,冷卻板與基板的間隙變得越小。其結(jié)果,表示排氣能力的傳導(dǎo)率(conductance)、即排氣速度下降。
另外,這樣的問題不限于冷卻體被冷卻水冷卻的冷卻裝置,即使在利用低溫機構(gòu)進行冷卻的冷卻裝置也同樣會產(chǎn)生。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于,提供一種能抑制收納冷卻對象的空間中的排氣速度的下降的冷卻裝置。
根據(jù)一個方式的冷卻裝置包括:冷卻部;以及冷卻體,其包括與所述冷卻部連接的第1面和所述第1面相反側(cè)的第2面,所述冷卻體被所述冷卻部冷卻。所述冷卻體進一步包括使氣體在所述第1面與所述第2面之間流動的通道。
根據(jù)上述構(gòu)成,由于在冷卻體形成有使氣體在第1面和第2面之間流動的通道,所以與不具有通道的構(gòu)成相比,沿冷卻體的第1面的氣體的流動以及沿第2面的氣體的流動被促進。因此,氣體容易向冷卻體流動,其結(jié)果,抑制收納冷卻對象的空間中的排氣速度的下降。
在一個實施方式中,所述冷卻體也可以具有沿相互交叉的第1方向和第2方向延伸的板形狀。所述通道也可以是沿所述第1方向延伸,并將所述冷卻體劃分為多個冷卻部件的狹縫。在該情況下,所述多個冷卻部件也可以具有2種以上的不同的大小。
在一個實施方式中,所述冷卻體也可以具有沿相互交叉的第1方向和第2方向延伸的板形狀。所述冷卻體也可以包括沿所述第1方向延伸,并將所述冷卻體劃分為多個冷卻部件的至少兩個狹縫。在該構(gòu)成中,各狹縫作為所述通道發(fā)揮作用。所述多個冷卻部件也可以包括:兩個端部件,其位于所述冷卻體在所述第2方向上的兩端;以及至少一個中間部件,其位于所述兩個端部件之間。在該情況下,所述兩個端部件中的至少一個也可以比所述中間部件小。
根據(jù)上述構(gòu)成,由于通道(狹縫)位于冷卻體的兩端附近,所以在冷卻體的周圍流動的氣體容易流入冷卻體的通道中。因此,沿第1面的氣體的流動和沿第2面的氣體的流動被促進,抑制收納冷卻對象的空間中的排氣速度的下降。
在一個實施方式中,所述冷卻體也可以具有沿相互交叉的第1方向和第2方向延伸的板形狀。所述冷卻體包括沿所述第1方向延伸并將所述冷卻體劃分為多個冷卻部件至少兩個狹縫。在該構(gòu)成中,各狹縫作為所述通道發(fā)揮作用。所述多個冷卻部件也可以包括:兩個端部件,其位于所述冷卻體在所述第2方向上的兩端;以及至少一個中間部件,其位于所述兩個端部件之間。在該情況下,所述至少一個中間部件中的至少1個也可以比所述兩個端部件的每一個小。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





