[發明專利]溶存臭氧去除單元、基板處理裝置、溶存臭氧去除方法及基板清洗方法

在審

• 申請號: 201610975795.7
• 申請日: 2016-10-26
• 公開（公告）號: CN106606890A
• 公開（公告）日: 2017-05-03
• 發明（設計）人: 方炳善;尹遵喜;權吉圣
• 申請（專利權）人: 細美事有限公司
• 主分類號: B01D19/00
• 分類號: B01D19/00;C02F1/20;B08B11/04;H01L21/67
• 代理公司: 北京度衡知識產權代理有限公司11601
• 代理人: 楊黎峰,鐘錦舜

1.一種去除液體中的溶存臭氧的方法，所述方法包括：

向液體供應微氣泡；和

利用能量或自由基離子使得溶存臭氧脫離所述液體，其中，所述能量或自由基離子是在所述微氣泡溶解在所述液體中時所產生的。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述微氣泡被供應至所述液體中的下部區域。

3.根據權利要求1所述的方法，其中，通過旋轉包含氣體的液體而產生所述微氣泡，然后向包含所述溶存臭氧的液體供應所述微氣泡。

4.根據權利要求1所述的方法，其中，所述微氣泡包括氧氣。

5.根據權利要求1所述的方法，其中，所述微氣泡包括惰性氣體。

6.根據權利要求5所述的方法，其中，包含所述溶存臭氧的液體是水，并且所述惰性氣體包括氮氣、氬氣或氦氣。

7.根據權利要求4所述的方法，其中，所述微氣泡具有50微米或更小的平均尺寸。

8.一種用于去除液體中的溶存臭氧的單元，所述單元包括：

容器，其具有容納液體的空間；

氣泡供應構件，其向所述空間內供應微氣泡；和

排氣構件，其與所述容器連接以排出從所述液體脫離的溶存臭氧。

9.根據權利要求8所述的單元，其中，所述氣泡供應構件與所述容器中的下部區域連接。

10.根據權利要求9所述的單元，其中，所述氣泡供應構件包括：

供應管，其在內部具有供包含氣體的液體流過的通道并與所述容器連接；和

氣泡發生器，其位于所述通道中并被旋轉以產生所述微氣泡。

11.根據權利要求10所述的單元，其中，所述供應管與所述容器的上壁連接并延伸至所述容器中的下部區域，并且多個供應孔形成在位于所述容器中的下部區域處的所述供應管中，其中，通過所述多個供應孔供應所述微氣泡。

12.根據權利要求8所述的單元，其中，所述排氣構件包括：

排氣管，其與所述容器連接；和

減壓構件，其與所述排氣管連接以向所述空間提供排氣壓力。

13.一種用于去除液體中溶存臭氧的單元，所述單元包括：

容器，其包括空間，所述空間具有上部區域和下部區域，其中，在所述上部區域中容納液體并去除所述液體中的溶存臭氧，并且所述下部區域產生向所述上部區域供應的微氣泡；

氣泡供應構件，其向所述上部區域供應微氣泡；和

排氣構件，其與所述容器連接以排出從所述液體脫離的溶存臭氧，

其中，所述氣泡供應構件包括：

供應管，其在內部具有供包含氣體的液體流過的通道并與所述下部區域連接；

供應板，其將所述容器中的所述空間分割成所述上部區域和所述下部區域，并具有多個孔；和

氣泡發生器，其位于所述下部區域并被旋轉以產生所述微氣泡。

14.根據權利要求13所述的單元，其中，所述微氣泡包括氧氣。

15.根據權利要求13所述的單元，其中，所述微氣泡包括惰性氣體。

16.根據權利要求15所述的單元，其中，所述微氣泡具有50微米或更小的平均尺寸。

17.一種清洗基板的方法，所述方法包括：

向基板供應清洗液以清洗所述基板；和

在清洗所述基板之后，去除所述清洗液中的溶存臭氧，

其中，所述溶存臭氧的去除包括：

向所述清洗液供應微氣泡；和

用能量或自由基離子去除所述溶存臭氧，其中，所述能量或自由基離子是在所述微氣泡溶解在所述液體中時所產生的。

18.根據權利要求17所述的方法，其中，通過旋轉包含氣體的液體來產生所述微氣泡，然后向包含所述溶存臭氧的液體供應所述微氣泡。

19.根據權利要求18所述的方法，其中，所述微氣泡包括氧氣或惰性氣體。

20.根據權利要求19所述的方法，其中，包含所述溶存臭氧的液體是水，并且所述惰性氣體包括氮氣、氬氣或氦氣。

21.根據權利要求19所述的方法，其中，所述微氣泡具有50微米或更小的平均尺寸。