[發明專利]一種光刻膠保濕系統及其保濕方法有效
| 申請號: | 201610974285.8 | 申請日: | 2016-11-07 |
| 公開(公告)號: | CN108057573B | 公開(公告)日: | 2021-06-22 |
| 發明(設計)人: | 程虎 | 申請(專利權)人: | 沈陽芯源微電子設備股份有限公司 |
| 主分類號: | B05C5/02 | 分類號: | B05C5/02;B05C11/10;G03F7/16 |
| 代理公司: | 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002 | 代理人: | 白振宇 |
| 地址: | 110168 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光刻 保濕 系統 及其 方法 | ||
本發明屬于半導體處理系統中對半導體工藝用液體處理領域,具體地說是一種光刻膠保濕系統及其保濕方法,供膠部到膠管進口端之間有兩個閥,靠近供膠部的是通斷回吸閥,靠近膠管出口的是回吸閥,這兩個閥的動作由控制部控制;膠管的升降由升降部控制;溶劑盒外有兩個液位傳感器,監測溶劑盒內液位并控制供液閥通斷使溶劑盒內液位處于設定位置;方法為供膠部停止供膠之后,通斷回吸閥先動作,停止供膠并進行回吸,結束之后升降部降下,帶動膠管出口下降至溶劑盒內溶劑液位以下,回吸閥再進行回吸動作,可在膠管出口處吸入溶劑,這段溶劑可隔離光刻膠與大氣,達到保濕的效果。本發明可以自動進行膠嘴的保濕,保濕效果好,且有效節省光刻膠的使用量。
技術領域
本發明屬于半導體處理系統中對半導體工藝用液體處理領域,具體地說是一種光刻膠保濕系統及其保濕方法。
背景技術
半導體處理是指為了在半導體晶片或者LED基板等被處理基板上按照規定圖案形成半導體層、絕緣層和半導體層等,而對基板進行的各種處理。在這些處理中,光刻膠的使用必不可少。
由于光刻膠使用時對粘度的要求較高,即保證合適的粘度是一個重要的要求。當膠臂上只有一路光刻膠時,可通過保濕盒來進行保濕;但是隨著發展,只有一路光刻膠對設備的利用率較低,產品經濟性受影響。若有多條光刻膠管路,保濕盒保濕對非工作管路的作用不明顯,并且使用時光刻膠的浪費比較嚴重。如果使用膠嘴切換來實現非工作管路的保濕,結構上面比較復雜,且控制點較多,設備穩定性會受影響。
發明內容
為了解決并排光刻膠管路內光刻膠保濕的問題,本發明的目的在于提供一種光刻膠保濕系統及其保濕方法。該保濕系統可有效地解決非工作管路光刻膠保濕的問題,保濕方法簡單易實現。
本發明的目的是通過以下技術方案來實現的:
本發明的光刻膠保濕系統包括光刻膠罐、供膠部、通斷回吸閥、控制部、回吸閥、升降部、膠臂、膠管、膠嘴及溶劑盒,其中膠臂的一端與升降部的輸出端連接,另一端安裝有膠嘴,所述膠臂上設有至少一根膠管;所述供膠部的進口通過管路與光刻膠罐相連通,出口通過管路與所述膠管的進口端相連通,并在供膠部出口與膠管進口端之間的管路上設有分別與控制部相連的通斷回吸閥和回吸閥,所述膠管的出口端安裝在膠嘴上,并由該膠嘴向下伸出,所述膠管出口端的下方設有溶劑盒;所述升降部驅動膠臂、膠嘴及膠管升降,通過所述控制部控制通斷回吸閥與回吸閥先后動作,完成兩次回吸,所述膠管內通過兩次回吸在吸入的溶劑與光刻膠之間有溶劑蒸汽,實現對光刻膠的保濕。
其中:所述通斷回吸閥靠近供膠部設置,所述回吸閥靠近膠管出口端設置,該通斷回吸閥及回吸閥的動作順序通過所述控制部;
所述溶劑盒的外表面上下安裝有高位傳感器及低位傳感器,該低位傳感器的安裝檢測位置高于膠管出口端隨膠嘴由所述升降部驅動下降插入溶劑盒內最低點的位置;所述溶劑盒通過管路連通有溶劑供應部,并在該管路上安裝有控制所述溶劑盒溶劑供給的通斷閥;所述通斷閥為常閉閥門,即該通斷閥在不工作的狀態是關閉的;所述高位傳感器、低位傳感器及通斷閥分別與控制部電連接,所述低位傳感器給出信號后,該通斷閥打開,所述溶劑供應部向溶劑盒內供液,所述高位傳感器檢測到液位給出信號后,該通斷閥關閉;
所述升降部上上下安裝有上位傳感器及下位傳感器;所述上位傳感器及下位傳感器分別與控制部電連接,所述回吸閥在該下位傳感器檢測到信號時動作,所述通斷回吸閥在該上位傳感器檢測到信號時動作;
本發明光刻膠保濕系統的保濕方法為:
所述供膠部向膠管供給光刻膠,當該供膠部停止供膠后,所述升降部驅動膠臂帶動膠嘴及膠管升起,當所述升降部上的上位傳感器給出信號后,所述控制部控制通斷回吸閥動作,進行第一次回吸;完成第一次回吸后,所述升降部驅動膠臂帶動膠嘴及膠管下降,當所述升降部上的下位傳感器給出信號后,所述控制部控制回吸閥動作,進行第二次回吸;
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