[發(fā)明專利]金屬掩模材料和金屬掩模有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610963957.5 | 申請日: | 2016-11-04 |
| 公開(公告)號: | CN106917063B | 公開(公告)日: | 2019-04-02 |
| 發(fā)明(設計)人: | 近藤祐幸 | 申請(專利權)人: | JX金屬株式會社 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;H01L51/56 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 郭煜;魯煒 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 金屬掩模 軋制垂直方向 軋制平行方向 軋制板 合金 算術平均粗糙度 精度檢測 蝕刻加工 光澤度 總計 | ||
提供能夠提高蝕刻加工精度、且能夠以良好的精度檢測自身缺陷的金屬掩模材料和金屬掩模。金屬掩模材料,其由Fe?Ni系合金的軋制板形成,所述Fe?Ni系合金的軋制板包含總計30~45質量%的Ni和Co,其中含有0~6質量%的Co,且剩余部分由Fe和無法避免的雜質構成,厚度t大于0.08mm,沿軋制平行方向和軋制垂直方向按照JIS?B0601測定的算術平均粗糙度Ra為0.01~0.20μm,并且,沿軋制平行方向和軋制垂直方向按照JIS?Z8741測定的60度光澤度G60為200~600。
技術領域
本發(fā)明涉及有機EL顯示器的制造等中使用的金屬掩模材料和金屬掩模。
背景技術
平板顯示器中,與現(xiàn)在主流的液晶顯示器相比,有機EL顯示器具有下述特征:由于結構簡單,因此可以使得產品更薄;快速變化的影像的顯示流暢;還有視野角寬等。該有機EL顯示器已在便攜終端等小型設備中量產化,作為下一代顯示器的主力,在大型顯示器中的實用化得以推進。
作為制作有機EL顯示器的EL(發(fā)光)層的方法,大致分為蒸鍍法和印刷法。蒸鍍法是使在真空中加熱、蒸發(fā)的EL物質以薄層的形式附著于基板的表面的方法。此外,印刷法是通過在基板的表面上印刷EL層從而進行制作的方法。蒸鍍法中進一步存在發(fā)出RGB(紅綠藍)三色光的類型和使EL層發(fā)出白色光的類型。
蒸鍍法中,為了以規(guī)定的圖案在基板的規(guī)定位置處制作EL層,存在在蒸鍍源與基板之間設置金屬掩模的彩色圖案形成(color patterning)工序。金屬掩模由具有與EL層的圖案相對應的開口部的金屬制的板或箔形成。從蒸鍍源蒸發(fā)而脫離至真空中的EL物質到達金屬掩模,穿過金屬掩模的開口部的EL物質附著于基板,從而形成具有規(guī)定圖案的EL層。
然而,在彩色圖案形成工序中,由于從蒸鍍源發(fā)出的輻射熱、進而溫度高的有機材料附著在金屬掩模表面上,從而導致存在金屬掩模的溫度上升至100℃左右的情況,為了保持基板上的成型位置的精度,對于金屬掩模而言需要使用具有與基板相比同等程度以下的熱膨脹的材料。特別地,對于發(fā)出RGB三色光的類型中的EL層的圖案,需要分別形成RGB的三色,因此重要的是抑制因金屬掩模的膨脹而導致的成型位置的偏離。
對于金屬掩模的厚度,在發(fā)出RGB三色光的類型中主要使用0.02~0.08mm的箔,在使EL層發(fā)出白色光的類型中主要使用0.08~0.25mm的板。
然而,如果金屬掩模的圖案形成變得微細,則掩模的開口部所夾持的掩模部分變細,從而強度降低,存在彎曲而導致開口部形狀變形的風險。
因此,作為兼顧金屬掩模的強度和開孔部的形狀精度的方法,公開了部分設置加固金屬線從而防止厚度薄的金屬掩模的彎曲的技術(專利文獻1)、使開孔形成層變薄并將其與另外的支持層相接合從而制作一片金屬掩模的技術(專利文獻2、3)。此外,公開了控制表面粗糙度從而提高蝕刻加工精度的技術(專利文獻4)。
現(xiàn)有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開平10-50478號公報
專利文獻2:日本專利第4126648號公報
專利文獻3:日本特開2004-039628號公報
專利文獻4:日本特開2010-214447號公報。
發(fā)明內容
發(fā)明要解決的課題
然而,在專利文獻1中公開的技術的情況中,由于有機材料不會附著于成為加固金屬線的陰影的部分,因此發(fā)生與陰影效應類似的現(xiàn)象,形成于基板上的有機材料的形狀精度變差。此外,在專利文獻2、3中公開的技術的情況中,為了制造一片金屬掩模而需要兩片金屬箔,進一步需要以良好的精度將這些金屬箔接合,因此金屬掩模的成型工序變得復雜,制造成本上升。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





