[發(fā)明專利]單晶生長(zhǎng)爐熱屏及其制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610959752.X | 申請(qǐng)日: | 2016-10-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108018600A | 公開(公告)日: | 2018-05-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙向陽(yáng);陳強(qiáng);肖祥凱 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海新昇半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C30B15/00 | 分類號(hào): | C30B15/00;C30B29/06 |
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 余昌昊 |
| 地址: | 201306 上海*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 生長(zhǎng) 爐熱屏 及其 制造 方法 | ||
在本發(fā)明提供了一種單晶生長(zhǎng)爐熱屏及其制造方法,所述單晶生長(zhǎng)爐熱屏包括屏體,所述屏體內(nèi)形成有容置空間,所述屏體的材料用石英玻璃,避免引入鉬、碳等污染源,可以有效減少單晶生長(zhǎng)爐熱屏對(duì)晶體的污染。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種單晶生長(zhǎng)爐熱屏,屬于單晶硅的生產(chǎn)制造設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
單晶硅是具有完整的點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)的晶體,是一種良好的半導(dǎo)體材料,目前被廣泛用于半導(dǎo)體器件以及太陽(yáng)能電池的制造。現(xiàn)代下游IC產(chǎn)業(yè)對(duì)硅晶圓材料的品質(zhì)要求越來(lái)越高,這就要求提拉法生長(zhǎng)的硅單晶具有更少的缺陷和雜質(zhì)。
現(xiàn)有的單晶硅制造設(shè)備為單晶生長(zhǎng)爐,其爐體主要包括爐底、下爐體、中爐體、上爐蓋、隔離閥、副爐室和提拉裝置七大部分組成。其中所述上爐蓋上懸掛有熱屏。單晶生長(zhǎng)爐熱屏的使用減少了硅熔體、坩堝等在垂直方向的輻射熱損失,大大降低了長(zhǎng)晶時(shí)所須消耗的功率;改變了氬氣的流動(dòng)方式和速度,更有效的帶走一氧化硅。
但是目前硅單晶生長(zhǎng)提拉爐的熱屏材料一般為鉬或碳化硅或有涂層的高純石墨,由于熱屏所處位置非常靠近硅熔體,所以很容易引入鉬、碳等污染源。所以選擇合適的熱屏材料是一個(gè)直拉硅熱場(chǎng)設(shè)計(jì)重要內(nèi)容。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種單晶生長(zhǎng)爐熱屏及其制造方法,以解決現(xiàn)有的單晶生長(zhǎng)爐熱屏因采用的材料為鉬或碳化硅或有涂層的高純石墨,容易對(duì)單晶造成污染的問題。
為了解決上述的技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種單晶生長(zhǎng)爐熱屏,包括屏體,所述屏體內(nèi)形成有容置空間,所述屏體的材料為石英玻璃。
可選的,在所述單晶生長(zhǎng)爐熱屏中,所述屏體的外表面和內(nèi)表面涂有氫氧化鋇涂層。
可選的,在所述單晶生長(zhǎng)爐熱屏中,所述氫氧化鋇涂層采用含有結(jié)晶水的氫氧化鋇。
可選的,在所述單晶生長(zhǎng)爐熱屏中,所述屏體內(nèi)填充有隔熱材料,形成有隔熱層。
可選的,在所述單晶生長(zhǎng)爐熱屏中,所述隔熱層的材料為固態(tài)碳?xì)帧?/p>
本發(fā)明還提供了一種制造單晶生長(zhǎng)爐熱屏的方法,包括:
采用石英材料形成屏體。
可選的,在所述制造單晶生長(zhǎng)爐熱屏的方法中,所述屏體的外表面和內(nèi)表面涂有氫氧化鋇涂層。
可選的,在所述制造單晶生長(zhǎng)爐熱屏的方法中,所述氫氧化鋇涂層采用含有結(jié)晶水的氫氧化鋇。
可選的,在所述制造單晶生長(zhǎng)爐熱屏的方法中,所述屏體內(nèi)填充有隔熱材料,形成有隔熱層。
可選的,在所述制造單晶生長(zhǎng)爐熱屏的方法中,所述隔熱層的材料是固態(tài)碳?xì)帧?/p>
在本發(fā)明提供的單晶生長(zhǎng)爐熱屏及其制造方法,包括屏體,所述屏體內(nèi)形成有容置空間,所述屏體的材料用石英玻璃,避免引入鉬、碳等污染源,可以有效減少單晶生長(zhǎng)爐熱屏對(duì)晶體的污染。進(jìn)一步的,所述屏體的外表面和內(nèi)表面都涂有含有結(jié)晶水的氫氧化鋇涂層,所述氫氧化鋇涂層會(huì)與空氣中的二氧化碳反應(yīng)形成碳酸鋇。在單晶生長(zhǎng)爐中加熱時(shí),所述碳酸鋇會(huì)分解形成氧化鋇,接著與石英玻璃中的二氧化硅反應(yīng)形成具有高熔點(diǎn)的硅酸鋇材料。由于硅酸鋇的催化作用,在屏體表面形成一層致密微小的白硅石結(jié)晶,所述白硅石結(jié)晶增加了屏體的強(qiáng)度,減少高溫軟化現(xiàn)象。
附圖說(shuō)明
圖1是本發(fā)明提供的單晶生長(zhǎng)爐熱屏結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是本發(fā)明提供的單晶生長(zhǎng)爐熱屏制造方法流程示意圖。
具體實(shí)施方式
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海新昇半導(dǎo)體科技有限公司,未經(jīng)上海新昇半導(dǎo)體科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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