[發明專利]利用感應加熱的蒸鍍裝置以及蒸鍍系統

有效

• 申請號: 201610959727.1
• 申請日: 2016-10-27
• 公開（公告）號: CN107043910B
• 公開（公告）日: 2020-06-12
• 發明（設計）人: 樸善淳;李海龍;金榮道;池成勛;洪沅義
• 申請（專利權）人: 株式會社達文希斯
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26
• 代理公司: 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327
• 代理人: 姜虎;陳英俊

本發明涉及一種利用感應加熱的蒸鍍裝置及蒸鍍系統。本發明涉及的蒸鍍裝置(100)是利用感應加熱的蒸鍍裝置(100)，其特征在于，包括腔室(110)及感應加熱部(140)，通過感應加熱部(140)對源基板(120)進行感應加熱，并將形成在源基板(120)的至少一表面上的蒸鍍物質層(125)蒸鍍到與所述一表面相向配置的對象基板(130)上。

技術領域

本發明涉及一種利用感應加熱的蒸鍍裝置以及蒸鍍系統。更為具體地，涉及一種通過利用感應加熱的非接觸式加熱來進行蒸鍍，以實現對于大面積基板的蒸鍍，并提高蒸鍍物質的使用效率和蒸鍍膜均勻度的利用感應加熱的蒸鍍裝置以及蒸鍍系統。

背景技術

為了制造平板顯示器、半導體元件等，必須進行在基板上蒸鍍所需薄膜的工序。平板顯示器的制造包括蒸鍍有機物或無機物的工序，半導體元件的制造包括蒸鍍金屬的工序。使用有機物的元件有液晶顯示裝置(LCD:Liquid Crystal Display)、有機電致發光顯示裝置(OELD:Organic Electro Luminescence Display)，使用無機物的元件有等離子顯示裝置(PDP:Plasma Display Panel)、場發射顯示裝置(FED:Field Emission Display)。

蒸鍍方法大致分為化學蒸鍍(CVD:Chemical Vapor Deposition)和物理蒸鍍(PVD:Physical Vapor Deposition)。化學蒸鍍利用源氣體的化學反應。此外，物理蒸鍍利用物理機構，包括真空熱蒸鍍(evaporation)、離子鍍(ion-plating)以及濺鍍(sputtering)等。可以根據蒸鍍對象的種類及工藝條件選擇性地使用這些蒸鍍方法，各方法分別需要不同的蒸鍍裝置。

圖1示出了現有的蒸鍍裝置1的概略結構。參照圖1，現有的蒸鍍裝置1包括：腔室2；坩堝3，配置在腔室2的下部，用于收納蒸鍍物質；基板10，因坩堝3被加熱而汽化的蒸鍍物質5附著在該基板10的表面上；以及掩模4，配置在基板10與坩堝3之間，暴露基板10上待蒸鍍的部位。

如上所述的現有的蒸鍍裝置1需要反復進行加熱坩堝并蒸鍍的過程，因此無法進行連續的蒸鍍。并且，基板越大，掩模4也需越大，此時，隨著掩模4變大而發生下垂現象，并且無法正常對齊掩模4，使得難以形成想要的圖案的薄膜。并且，蒸鍍物質5的消耗量大，特別是，用于OLED蒸鍍的有機物單價偏貴，有機物使用量的增加直接導致生產成本的增加。

另一方面，為了避免上述問題，也可以采用濕涂(wet coating)工藝。濕涂工藝容易對大面積的基板形成薄膜，并且薄膜形成物質的消耗量小，因此能夠降低生產成本。然而，濕涂工藝在材料選擇方面受到諸多限制，并且通過濕涂工藝制造的元件特性不佳。

因此，需要一種能夠適用于大面積的基板，能夠降低生產成本，并且能夠提升薄膜品質的蒸鍍裝置。

發明內容

所要解決的技術問題

因此，本發明是為了解決如上所述的現有技術的各種問題而做出的，其目的在于，提供一種能夠通過簡單的設備結構實現大面積蒸鍍的蒸鍍裝置以及蒸鍍系統。

此外，本發明的目的在于，提供一種能夠提高蒸鍍材料的使用效率的蒸鍍裝置以及蒸鍍系統。

此外，本發明的目的在于，提供一種能夠提高蒸鍍工序的速度及蒸鍍膜品質的蒸鍍裝置以及蒸鍍系統。

解決技術問題的方案

為了達到本發明的上述目的，提供一種利用感應加熱的蒸鍍裝置，其包括腔室及感應加熱部，通過所述感應加熱部對源基板進行感應加熱，并將形成在所述源基板的至少一表面上的蒸鍍物質層蒸鍍到與所述一表面相向配置的對象基板上。

所述腔室的內部可以是真空環境。