[發明專利]一種釹鐵硼磁體晶界擴散處理的涂覆設備

有效

• 申請號: 201610956176.3
• 申請日: 2016-10-28
• 公開（公告）號: CN106571220B
• 公開（公告）日: 2017-12-22
• 發明（設計）人: 崔熙貴;王興華;崔承云;陰冠超;夏傳達;方翠;彭希超;梅鵬;潘金鑫
• 申請（專利權）人: 江蘇大學
• 主分類號: H01F41/02
• 分類號: H01F41/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及稀土永磁材料領域，特指一種釹鐵硼磁體晶界擴散處理的涂覆設備。

背景技術

自20世紀80年代以來，功能材料對人類社會的現代文明與社會進步具有越來越大。在功能材料中，永磁材料占有重要的地位，以釹鐵硼為代表的稀土鐵系永磁材料是磁性能最高、應用最廣、發展速度最快的新一代永磁材料。我國于1983年底實驗室研制成功釹鐵硼磁體，自1984年底開始將實驗室成果轉化為工業生產。20世紀末，為適應生產和科學技術迅速發展的要求，永磁材料的生產和發展無論是在質的方面，還是在量的方面均經歷了史無前例的發展。其中，尤其以高磁能積的釹鐵硼系永磁材料的發展最快。目前，釹鐵硼系永磁材料已成為計算機、網絡信息、通訊航空航天等高新技術領域的核心功能器件。

自釹鐵硼永磁體發明后，無論是企業還是科研機構都對其進行了大量的研究，對Nd-Fe-B磁體的內稟磁特性、微觀結構和磁學機理等有了更深的了解，使釹鐵硼磁體的磁性能有了較大地提高。與此同時，隨著混合動力電動汽車和風力發電等新能源產業的出現和發展，其對釹鐵硼磁體的磁性能提出了更高的要求。最近幾年人們發現通過晶界擴散的方法在Nd-Fe-B磁體中添加一定含量的其他稀土元素能夠改善磁體的微觀結構，顯著提高磁體的矯頑力，且保持剩磁基本不變。擴散物質在磁體表面的附著是晶界擴散處理技術的關鍵工藝，目前主要有表面涂覆法、濺射沉積法、氣相蒸鍍法和直接填埋法等。表面涂覆法作為晶界擴散處理的一種常用方法，在涂覆過程中應使擴散物質均勻地涂覆在磁體表面上，并能夠同時涂覆多個磁體，以提高擴散處理的效率。因此，發展一種能夠均勻高效涂覆擴散物質的設備是非常關鍵的。

專利CN102859621A提供了一種晶界擴散處理用涂敷裝置，是與本發明最相近的專利技術，但其與本發明具有本質不同：1.本發明的涂覆設備由支撐結構、固定結構、定位結構、供給結構、涂覆結構和傳動結構組成；2.本發明在整個涂覆過程中支撐結構、固定結構、定位結構是固定不動的，這能夠保證擴散物質在涂敷到磁體表面后，不受后續擴散處理過程的影響；3.本發明通過擴散物質控制件和涂覆桿能使擴散物質定量且均勻地涂覆在磁體表面；4.本發明的固定結構和定位結構相配合，添加一次磁體可以同時準確定位并且固定多個磁體的位置；5.定位結構中套筒的使用可以消除磁體與擴散物質之間的重力影響；6.本發明的傳動結構都采用滾珠絲杠傳動，運行平穩，傳動精度高；7.本發明的涂覆設備不僅可以同時處理多個磁體，而且能夠處理多層磁體，形成磁體與擴散物質相互疊加的多層夾層結構，提高擴散效率和擴散物質利用率。因此，本發明在設備結構、工作原理、涂覆效果等方面與專利CN102859621A都是不同的。本發明涂覆設備結構簡單，運行平穩，涂覆均勻，效率高，適合于大規模批量化生產。

發明內容

本發明的目的是提供一種釹鐵硼磁體晶界擴散處理的涂覆設備，克服在晶界擴散處理過程中擴散物質涂覆不均勻、效率低和難自動化的問題。

本發明的技術方案是：一種釹鐵硼磁體晶界擴散處理的涂覆設備，包括第一支撐結構、第二支撐結構、固定結構、定位結構、供給結構、涂覆結構、第一傳動結構和第二傳動結構；

所述第一支撐結構包括底座、定位銷固定件和支撐件；定位銷固定件固定在底座的兩側，支撐件均勻地固定于底座的中間位置；所述固定結構包括磁體固定件，所述磁體固定件置于支撐件上；

所述定位機構包括套筒和定位銷，定位銷穿過磁體固定件安裝在定位銷固定件上，所述套筒安裝在定位銷上；

所述供給機構位于所述固定結構的上方、包括擴散物質控制件和擴散物質供給件；所述擴散物質供給件位于擴散物質控制件的左側、且底部設有開口空腔，所述擴散物質控制件的右側上開有多個漏料孔；

所述涂覆結構包括電動機支撐件、第二電動機和涂覆桿；所述電動機支撐件通過螺釘固定在擴散物質供給件上，第二電動機通過螺釘垂直固定在電動機支撐件上；涂覆桿呈倒T型，豎桿通過聯軸器與第二電動機相連，橫桿位于擴散物質供給件內部、且與擴散物質控制件間隙配合，第二電動機驅動涂覆桿做旋轉運動；

所述第一傳動結構包括第一電動機和絲杠；第一電動機水平固定于擴散物質控制件的右側端部，絲杠的一端通過聯軸器與第一電動機連接，另一端與擴散物質供給件的右側端部固定連接，第一電動機驅動擴散物質供給件在擴散物質控制件上左右移動；

所述第二傳動結構固定在所述第二支撐結構上、且與擴散物質控制件的左側端部連接，驅動擴散物質控制件上、下、左、右移動。