[發明專利]一種釹鐵硼磁體晶界擴散處理的涂覆設備

有效

• 申請號: 201610956176.3
• 申請日: 2016-10-28
• 公開（公告）號: CN106571220B
• 公開（公告）日: 2017-12-22
• 發明（設計）人: 崔熙貴;王興華;崔承云;陰冠超;夏傳達;方翠;彭希超;梅鵬;潘金鑫
• 申請（專利權）人: 江蘇大學
• 主分類號: H01F41/02
• 分類號: H01F41/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種釹鐵硼磁體晶界擴散處理的涂覆設備，其特征在于，包括第一支撐結構、第二支撐結構、固定結構、定位結構、供給結構、涂覆結構、第一傳動結構和第二傳動結構；

所述第一支撐結構包括第一底座(1)、定位銷固定件(2)和支撐件(3)；定位銷固定件(2)固定在第一底座(1)的兩側，支撐件(3)均勻地固定于第一底座(1)的中間位置；所述固定結構包括磁體固定件(4)，所述磁體固定件(4)置于支撐件(3)上；

所述定位機構包括套筒(5)和定位銷(8)，定位銷(8)穿過磁體固定件(4)安裝在定位銷固定件(2)上，所述套筒(5)安裝在定位銷(8)上；

所述供給機構位于所述固定結構的上方、包括擴散物質控制件(9)和擴散物質供給件(12)；所述擴散物質供給件(12)位于擴散物質控制件(9)的左側、且底部設有開口空腔(121)，所述擴散物質控制件(9)的右側上開有多個漏料孔(91)；

所述涂覆結構包括電動機支撐件(13)、第二電動機(14)和涂覆桿(22)；所述電動機支撐件(13)通過螺釘固定在擴散物質供給件(12)上，第二電動機(14)通過螺釘垂直固定在電動機支撐件(13)上；涂覆桿(22)呈倒T型，豎桿通過聯軸器與第二電動機(14)相連，橫桿位于擴散物質供給件(12)內部、且與擴散物質控制件(9)間隙配合，第二電動機(14)驅動涂覆桿(22)做旋轉運動；

所述第一傳動結構包括第一電動機(10)和絲杠(11)；第一電動機(10)水平固定于擴散物質控制件(9)的右側端部，絲杠(11)的一端通過聯軸器與第一電動機(10)連接，另一端與擴散物質供給件(12)的右側端部固定連接，第一電動機(10)驅動擴散物質供給件(12)在擴散物質控制件(9)上左右移動；

所述第二傳動結構固定在所述第二支撐結構上、且與擴散物質控制件(9)的左側端部連接，驅動擴散物質控制件(9)上、下、左、右移動。

2.根據權利要求1所述的釹鐵硼磁體晶界擴散處理的涂覆設備，其特征在于，所述第二傳動結構包括橫向滾珠絲杠系統支撐件(15)、連接桿(16)、第三電動機(17)和縱向滾珠絲杠系統支撐件(18)；縱向滾珠絲杠系統支撐件(18)垂直安裝在橫向滾珠絲杠系統支撐件(15)內的螺母上，第三電動機(17)安裝在縱向滾珠絲杠系統支撐件(18)的上端，連接桿(16)的一端安裝在縱向滾珠絲杠系統支撐件(18)的下端，所述連接桿(16)的另一端與擴散物質控制件(9)的左側端部連接，第三電動機(17)驅動連接桿(16)上下移動、帶動擴散物質控制件(9)上下移動；所述縱向滾珠絲杠系統支撐件(18)可以在橫向滾珠絲杠系統支撐件(15)上左右移動，帶動擴散物質控制件(9)左右移動。

3.根據權利要求2所述的釹鐵硼磁體晶界擴散處理的涂覆設備，其特征在于，所述第二支撐結構包括連接座(19)、支撐座(20)和第二底座(21)，連接座(19)安裝在支撐座(20)上面，支撐座(20)安裝在第二底座(21)上面；所述縱向滾珠絲杠系統支撐件(18)的左側與連接座(19)固定連接。

4.根據權利要求1所述的釹鐵硼磁體晶界擴散處理的涂覆設備，其特征在于，所述磁體固定件(4)上開有與定位銷(8)相配合的定位孔(41)、中部設有若干磁體固定孔(42)；磁體(7)置于磁體固定孔(42)內，定位銷(8)穿過定位孔(41)安裝在定位銷固定件(2)上。

5.根據權利要求4所述的釹鐵硼磁體晶界擴散處理的涂覆設備，其特征在于，所述定位孔(41)有兩個，位于磁體固定件(4)的對角線布置。

6.根據權利要求4所述的釹鐵硼磁體晶界擴散處理的涂覆設備，其特征在于，所述磁體(7)與磁體固定孔(42)過盈配合。

7.根據權利要求1所述的釹鐵硼磁體晶界擴散處理的涂覆設備，其特征在于，所述套筒(5)位于兩個磁體固定件(4)之間。