[發明專利]結構化疊層轉印膜和方法

有效

• 申請號: 201610937586.3
• 申請日: 2013-06-17
• 公開（公告）號: CN107020854B
• 公開（公告）日: 2019-09-13
• 發明（設計）人: 馬丁·B·沃克;米奇斯瓦夫·H·馬祖雷克;謝爾蓋·拉曼斯基;瑪格麗特·M·沃格爾-馬丁;維維安·W·瓊斯;奧勒斯特爾·小本森;邁克爾·本頓·弗里;埃文·L·施瓦茨;蘭迪·S·貝;格雷厄姆·M·克拉克
• 申請（專利權）人: 3M創新有限公司
• 主分類號: B41M5/025
• 分類號: B41M5/025;H01L51/52;H01L27/32
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 王靜;丁業平

本發明公開了將結構化層轉印到受體基板的疊層轉印膜以及方法。所述轉印膜包括具有可剝離表面的載體基板、被施加到所述載體基板的可剝離表面、并且具有非平面結構化表面的犧牲模板層以及被施加到所述犧牲模板層的非平面結構化表面的熱穩定的回填層。所述犧牲模板層能夠從所述回填層去除(諸如，經由熱解)，同時基本上完整地保留所述回填層的結構化表面。

背景技術

玻璃基板上的納米結構和微觀結構用于顯示、照明和太陽能裝置中的多種應用。在顯示裝置中，所述結構可用于光提取或光分布。在照明裝置中，所述結構可用于光提取、光分布和裝飾效果。在光伏器件中，所述結構可用于太陽能聚集和減反射。在大的玻璃基板上圖案化或換句話講形成納米結構和微觀結構可能困難且成本效益不高。因此，需要以成本效益高的方式在連續載體膜上制造納米結構和微觀結構，然后使用該膜將所述結構轉印或換句話講賦予到玻璃基板或其它永久受體基板上。

發明內容

符合本發明的第一疊層轉印膜可用于轉印開放面結構化層。該轉印膜包括具有可剝離表面的載體基板、被施加到所述載體基板的可剝離表面、并且具有非平面結構化表面的犧牲模板層以及被施加到所述犧牲模板層的非平面結構化表面的熱穩定的回填層。所述犧牲模板層能夠從所述回填層去除，同時基本上完整地保留所述回填層的結構化表面。

符合本發明的第二疊層轉印膜可用于轉印嵌入式結構化層。該轉印膜包括具有可剝離表面的載體基板、被施加到所述載體基板的可剝離表面的犧牲可剝離層、被施加到所述犧牲可剝離層的頂層以及被施加到所述頂層的回填層，在所述頂層與回填層之間形成結構化界面。所述犧牲可剝離層能夠從所述頂層去除，同時基本上完整地保留所述回填層和所述頂層。

符合本發明的第三疊層轉印膜可用于在不使用載體基板的情況下轉印結構化層。該轉印膜包括具有非平面結構化表面的犧牲聚合物層以及被施加到所述犧牲聚合物層的非平面結構化表面的熱穩定的回填層。所述回填層具有與所述犧牲聚合物層的非平面結構化表面對應的結構化表面。所述犧牲聚合物層能夠被干凈地烘除，同時基本上完整地保留所述回填層的結構化表面。

附圖說明

附圖包含在本說明書中并構成本說明書的一部分，并且它們結合具體實施方式闡明本發明的優點和原理。在這些附圖中，

圖1是將開放面納米結構轉印到受體的轉印膜和方法的示意圖；

圖2是在不使用襯片或載體基板的情況下將納米結構轉印到受體的轉印膜和方法的示意圖；

圖3是將嵌入式納米結構轉印到受體的轉印膜和方法的示意圖；

圖4是在玻璃基板上帶有納米結構的底發射AMOLED的示意圖；

圖5是在平整化層上帶有納米結構的底發射AMOLED的示意圖；

圖6是在平整化層上帶有納米結構的頂發射AMOLED的示意圖；

圖7是將納米結構化抗蝕劑層轉印到受體基板，然后蝕刻基板的轉印膜和方法的示意圖；

圖8是經由擠出復制制備結構化疊層轉印膜的方法的示意圖；

圖9A是帶有納米結構的底發射OLED固態照明裝置的示意圖；

圖9B是帶有納米結構的底發射OLED固態照明裝置的示意圖；

圖10是帶有納米結構的頂發射OLED固態照明裝置的示意圖；

圖11是在兩個主表面上均帶有疊層轉印膜的底發射OLED固態照明基板的示意圖；

圖12是在兩個主表面上均帶有結構的底發射OLED固態照明基板的示意圖；

圖13是卷筒形式的柔性玻璃疊層基板組件的示意圖；

圖14是在兩個主表面上均帶有結構的柔性玻璃基板的示意圖；