[發(fā)明專利]一種半導(dǎo)體組件及具有該半導(dǎo)體組件的發(fā)光裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610937411.2 | 申請(qǐng)日: | 2013-01-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107039482B | 公開(公告)日: | 2020-03-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃知澍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 晶元光電股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/15 | 分類號(hào): | H01L27/15;H01L27/06;H01L29/872;H01L33/00;H05B45/30 |
| 代理公司: | 蘇州威世朋知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 楊林潔 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)灣新*** | 國(guó)省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 半導(dǎo)體 組件 具有 發(fā)光 裝置 | ||
本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體組件及具有該半導(dǎo)體組件的發(fā)光裝置,半導(dǎo)體組件包括一基板;一第1晶體管,形成于所述基板上,所述第1晶體管為常開型晶體管,所述第1晶體管包括一第1第1半導(dǎo)體層;一第2半導(dǎo)體層,形成于所述第1第1半導(dǎo)體層上;一第3半導(dǎo)體層,形成于所述第2半導(dǎo)體層上;一閘極電極,一汲極電極,及一源極電極,形成于所述第3半導(dǎo)體層上;及一惠斯登電橋整流電路,形成于所述基板上,所述惠斯登電橋整流電路包括:一第1整流二極管;一第2整流二極管,電性連接于所述第1整流二極管;一第3整流二極管,電性連接于所述第2整流二極管;及一第4整流二極管,電性連接于所述第3整流二極管。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種發(fā)光裝置,尤其涉及一種半導(dǎo)體組件及具有該半導(dǎo)體組件的發(fā)光裝置。
背景技術(shù)
發(fā)光二極管(Light Emitting Diode;LED)是利用半導(dǎo)體外延技術(shù)制成的一種二極管,其在順向偏壓下,可使電流通過(guò)其內(nèi)部,從而使得發(fā)光二極管內(nèi)部的電子與空穴復(fù)合而發(fā)光。發(fā)光二極管在常溫下,具有壽命長(zhǎng)、省電、污染低、輕薄短小、不易破損、開關(guān)速度快及可靠性高等特點(diǎn)。因此,越來(lái)越多的發(fā)光裝置利用發(fā)光二極管做為發(fā)光組件。
不過(guò),發(fā)光二極管的發(fā)光效率會(huì)受溫度的影響而下降,并且在高溫時(shí),在同樣的電壓值下,使得更多的電流通過(guò)發(fā)光二極管時(shí),產(chǎn)生更高的熱。這樣惡性循環(huán),不但耗電,還使得發(fā)光二極管的壽命縮短。因此,一般利用發(fā)光二極管的發(fā)光裝置,必須花費(fèi)相當(dāng)多的額外成本在散熱上。
半導(dǎo)體外延技術(shù)亦可制作場(chǎng)效晶體管。美國(guó)專利第4,777,516號(hào)揭示先后形成于同一個(gè)基板上的三族砷化物發(fā)光二極管及場(chǎng)效晶體管,其中場(chǎng)效晶體管由一砷化鎵層施以硅離子布植而形成;美國(guó)專利第7,432,538號(hào)、美國(guó)專利第7,750,351號(hào)及美國(guó)專利第7,981,744號(hào)則揭示形成于一個(gè)基板上的三族氮化物場(chǎng)效晶體管。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明提供一種半導(dǎo)體組件。
所述半導(dǎo)體組件包括:
一基板;
一第1晶體管,形成于所述基板上,所述第1晶體管為常開型晶體管,所述第1晶體管包括:
一第1第1半導(dǎo)體層;
一第2半導(dǎo)體層,形成于所述第1第1半導(dǎo)體層上;
一第3半導(dǎo)體層,形成于所述第2半導(dǎo)體層上;
一閘極電極,一汲極電極,及一源極電極,形成于所述第3半導(dǎo)體層上;及
一惠斯登電橋整流電路,形成于所述基板上,所述惠斯登電橋整流電路包括:
一第1整流二極管;
一第2整流二極管,電性連接于所述第1整流二極管;
一第3整流二極管,電性連接于所述第2整流二極管;及
一第4整流二極管,電性連接于所述第3整流二極管;
一第1發(fā)光二極管,形成于所述基板上且包括一第2第1半導(dǎo)體層;及
一電路圖案,所述電路圖案將所述第1晶體管電性連接為一第1電流穩(wěn)定單元,并將所述第1電流穩(wěn)定單元電性耦接于所述第1發(fā)光二極管。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述第1發(fā)光二極管更包括:
一第2第1半導(dǎo)體層;
一主動(dòng)層,形成于所述第2第1半導(dǎo)體層上;及
一第4半導(dǎo)體層,形成于所述主動(dòng)層上。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述閘極電極包括鎢、鉑、金、鎳、鋁所組成的群組中的任一或組合,且/或所述源極電極與所述汲極電極包括鈦、鋁、鎳、金、鉻所組成的群組中的任一或組合。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于晶元光電股份有限公司,未經(jīng)晶元光電股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610937411.2/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:道路側(cè)溝
- 下一篇:坡度自由型路肩防護(hù)塊
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





