[發明專利]一種半導體組件及具有該半導體組件的發光裝置有效
| 申請號: | 201610937411.2 | 申請日: | 2013-01-28 |
| 公開(公告)號: | CN107039482B | 公開(公告)日: | 2020-03-31 |
| 發明(設計)人: | 黃知澍 | 申請(專利權)人: | 晶元光電股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/15 | 分類號: | H01L27/15;H01L27/06;H01L29/872;H01L33/00;H05B45/30 |
| 代理公司: | 蘇州威世朋知識產權代理事務所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 楊林潔 |
| 地址: | 中國臺灣新*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 半導體 組件 具有 發光 裝置 | ||
1.一種半導體組件,其特征在于,包括:
一基板;
一第1晶體管,形成于所述基板上,所述第1晶體管為常開型晶體管,所述第1晶體管包括:
一第1第1半導體層;
一第2半導體層,形成于所述第1第1半導體層上;
一第3半導體層,形成于所述第2半導體層上;
一閘極電極,一汲極電極,及一源極電極,形成于所述第3半導體層上;及
一惠斯登電橋整流電路,形成于所述基板上,所述惠斯登電橋整流電路包括:
一第1整流二極管;
一第2整流二極管,電性連接于所述第1整流二極管;
一第3整流二極管,電性連接于所述第2整流二極管;
一第4整流二極管,電性連接于所述第3整流二極管;
一第1發光二極管,形成于所述基板上且包括一第2第1半導體層;及
一電路圖案,所述電路圖案將所述第1晶體管電性連接為一第1電流穩定單元,并將所述第1電流穩定單元電性耦接于所述第1發光二極管。
2.如權利要求1所述的半導體組件,其特征在于,所述第1發光二極管更包括:
一主動層,形成于所述第2第1半導體層上;及
一第4半導體層,形成于所述主動層上。
3.如權利要求1所述的半導體組件,其特征在于,所述閘極電極包括鎢、鉑、金、鎳、鋁所組成的群組中的任一或組合,且/或所述源極電極與所述汲極電極包括鈦、鋁、鎳、金、鉻所組成的群組中的任一或組合。
4.如權利要求1所述的半導體組件,其特征在于,所述電路圖案形成于所述基板上。
5.如權利要求1所述的半導體組件,其特征在于,所述第1整流二極管、第2整流二極管、第3整流二極管、第4整流二極管為蕭基二極管,且形成于所述基板上。
6.如權利要求1所述的半導體組件,其特征在于,所述第1整流二極管、第2整流二極管、第3整流二極管、第4整流二極管為發光二極管,且形成于所述基板上。
7.一種發光裝置,其特征在于,包括:
如權利要求1所述的半導體組件;及
一電源,所述電源通過所述電路圖案電性連接所述第1發光二極管與所述第1電流穩定單元。
8.如權利要求7所述的發光裝置,其特征在于,所述第1晶體管的閘極電極耦接所述第1晶體管的源極電極。
9.如權利要求7所述的發光裝置,其特征在于,所述第1電流穩定單元還包括一蕭基二極管,所述蕭基二極管電性連接于所述第1晶體管與所述電源之間,所述蕭基二極管的陽極電極耦接所述第1晶體管的源極電極。
10.如權利要求9所述的發光裝置,其特征在于,所述蕭基二極管形成于所述基板上。
11.如權利要求7所述的發光裝置,其特征在于,所述第1電流穩定單元還包括一第2晶體管,所述第2晶體管電性連接于所述第1晶體管與所述電源之間,所述第2晶體管的汲極電極耦接所述第1晶體管的源極電極,所述第2晶體管的閘極電極耦接所述第2晶體管的汲極電極,且所述第2晶體管的源極電極耦接所述電源。
12.如權利要求11所述的發光裝置,其特征在于,所述第2晶體管的結構與所述第1晶體管相同,且所述第2晶體管形成于所述基板上。
13.如權利要求7所述的發光裝置,其特征在于,所述第1整流二極管電性連接于所述電源的第1端與所述惠斯登電橋整流電路的第1輸出端之間,且所述第1整流二極管的陽極電極耦接所述電源的第1端;所述第2整流二極管電性連接于所述電源的第2端與所述惠斯登電橋整流電路的第1輸出端之間,且所述第2整流二極管的陽極電極耦接所述電源的第2端;所述第3整流二極管電性連接于所述惠斯登電橋整流電路的第2輸出端與所述電源的第2端之間,且所述第3整流二極管的陽極電極耦接所述惠斯登電橋整流電路的第2輸出端;及所述第4整流二極管電性連接于所述惠斯登電橋整流電路的第2輸出端與所述電源的第1端之間,且所述第4整流二極管的陽極電極耦接所述惠斯登電橋整流電路的第2輸出端,其中所述第1整流二極管、所述第2整流二極管、所述第3整流二極管及所述第4整流二極管為發光二極管或蕭基二極管。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





