[發(fā)明專利]光阻膜厚測量方法及光阻膜厚測量裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610898515.7 | 申請日： | 2016-10-14 |
| 公開（公告）號： | CN106370117A | 公開（公告）日： | 2017-02-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 劉學敏 | 申請（專利權(quán)）人： | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | G01B11/06 | 分類號： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 廣州三環(huán)專利代理有限公司44202 | 代理人： | 郝傳鑫,熊永強 |
| 地址： | 430070 湖北省武漢市武*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光阻膜厚 測量方法 測量 裝置 | ||
【權(quán)利要求書】：
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