[發明專利]顯示裝置及其制造方法在審
| 申請號: | 201610887343.3 | 申請日: | 2016-10-11 |
| 公開(公告)號: | CN106950762A | 公開(公告)日: | 2017-07-14 |
| 發明(設計)人: | 樸崔常;權成圭;林泰佑 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1345 | 分類號: | G02F1/1345;G02F1/1341;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產權代理有限公司11286 | 代理人: | 劉燦強,尹淑梅 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示裝置 及其 制造 方法 | ||
本申請要求于2016年1月7日在韓國知識產權局提交的第10-2016-0001934號韓國專利申請的優先權和權益,該韓國專利申請的公開內容通過引用全部包含于此。
技術領域
本公開總體涉及一種顯示裝置及其制造方法。
背景技術
作為最廣泛使用的平板顯示器中的一種,液晶顯示器(LCD)包括形成有場產生電極的兩片顯示面板和置于其間的液晶層。LCD通過對場產生電極施加電壓在液晶層中產生電場、由產生的電場確定液晶層的液晶分子的取向方向并控制入射光的偏振來顯示圖像。
包括在LCD中的兩片顯示面板可以是薄膜晶體管陣列面板和對向顯示面板。在薄膜晶體管陣列面板中,用于傳輸柵極信號的柵極線以及用于傳輸數據信號的數據線形成為彼此相交。另外,連接到柵極線和數據線的薄膜晶體管以及連接到薄膜晶體管的像素電極可以形成在薄膜晶體管陣列面板中。阻光構件、濾色器、共電極等可以形成在對向顯示面板或薄膜晶體管陣列面板中。
在傳統的LCD中,因為需要兩片基底并且部件分別形成在兩片基底上,所以顯示裝置不僅變得重、厚且昂貴,而且需要較長的加工時間。
在此背景技術部分公開的上述信息僅用于增強對描述的技術的背景信息的理解,因此它可以包含不形成本領域的普通技術人員已經知道的現有技術的信息。
發明內容
本公開提供了一種顯示裝置及其制造方法,通過使用一個基底制造顯示裝置,所述顯示裝置及其制造方法能夠減小厚度、寬度、成本和加工時間。
如此,當使用一個基底制造顯示裝置時,可以形成用于包封液晶層的包封層。為了使焊盤部連接到外部端子,應該形成焊盤部,使得其不被包封層覆蓋。
當包封層僅部分地涂覆在顯示區域中時,會存在在涂覆的開始點和結束點處具有斜坡的大面積的包封層,這樣的區域不能用作顯示區域,從而增大了邊框區域。
另外,當包封層跨過整個顯示區域形成并且隨后被圖案化以開放焊盤部時,就會存在一個問題,即,位于顯示區域內部的液晶層會在光刻工藝期間被污染。
本公開提供了一種能夠開放焊盤部并且不污染液晶層的顯示裝置及其制造方法。
示例性實施例提供了一種顯示裝置,所述顯示裝置包括:基底,包括顯示區域和外圍區域;薄膜晶體管,位于基底的顯示區域中;第一電極,連接到薄膜晶體管;頂層,位于第一電極上并且被設置在頂層與第一電極之間的微腔與第一電極分隔開;液晶層,位于微腔內部;包封層,位于頂層上;焊盤部,位于基底的外圍區域中;以及柱狀物,位于基底的外圍區域中。
柱狀物可以包括由與頂層相同的材料制成的第一層。
顯示裝置還可以包括位于頂層下方的絕緣層,其中,柱狀物還可以包括由與絕緣層相同的材料制成的第二層。
顯示裝置還可以包括位于頂層與液晶層之間的第二電極,其中,柱狀物還可以包括由與第二電極相同的材料制成的第三層。
可以通過層壓第三層、第二層和第一層來形成柱狀物。
顯示裝置還可以包括第二電極和設置在第一電極與第二電極之間的層間絕緣層,其中,液晶層可以位于第二電極上。
顯示裝置還可以包括位于頂層下方的絕緣層,其中,柱狀物可以包括由與頂層相同的材料制成的第一層以及位于第一層下方并且由與絕緣層相同的材料制成的第二層。
顯示裝置還可以包括:柵極線和數據線,連接到薄膜晶體管;柵極焊盤部,位于基底的外圍區域中并連接到柵極線;柵極接觸輔助件,位于柵極焊盤部上;數據焊盤部,位于基底的外圍區域中并且連接到數據線;以及數據接觸輔助件,位于數據焊盤部上。
包封層的側表面可以包括熱變形部。
根據示例性實施例的顯示裝置的制造方法可以包括:在包括顯示區域、外圍區域和額外區域的基底的顯示區域上形成薄膜晶體管;形成第一電極以連接到薄膜晶體管;在第一電極上形成犧牲層;在犧牲層上形成頂層;通過去除犧牲層在第一電極與頂層之間形成微腔;在頂層上形成包封層;切割位于基底的顯示區域與外圍區域之間的邊界上的包封層;切割基底的外圍區域與額外區域之間的邊界;以及去除位于基底的外圍區域和額外區域中的包封層以及基底的額外區域。
所述制造方法還可以包括:在基底上形成柵極線;以及在基底上形成數據線,其中,柵極線和數據線可以連接到薄膜晶體管。
所述制造方法還可以包括:在基底的外圍區域中形成連接到柵極線的柵極焊盤部;以及在基底的外圍區域中形成連接到數據線的數據焊盤部。
所述制造方法還可以包括:在柵極焊盤部和數據焊盤部上形成犧牲層;以及形成虛設微腔。
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