[發明專利]玻璃構件以及玻璃構件的制造方法

在審

• 申請號: 201610887311.3
• 申請日: 2016-10-11
• 公開（公告）號: CN106587651A
• 公開（公告）日: 2017-04-26
• 發明（設計）人: 堀江滿;伊藤正文;森一倫
• 申請（專利權）人: 旭硝子株式會社
• 主分類號: C03C17/23
• 分類號: C03C17/23;C03C21/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 劉多益,金明花

技術領域

本發明涉及一種玻璃構件和玻璃構件的制造方法。

背景技術

以往，已知在玻璃板的表面上形成防眩膜或低反射膜等功能層、構成玻璃構件。這樣的玻璃構件例如適用于觸摸面板式裝置的覆蓋玻璃等。

玻璃構件的功能層例如通過在玻璃板上涂布含有二氧化硅前體的涂布液，對該涂布液進行干燥或燒成來形成。例如，在涂布液中添加有低折射率的材料的情況下，在玻璃板上形成低反射膜。此外，在玻璃板的表面上以形成凹凸的條件涂布涂布液的情況下，在玻璃板上形成防眩膜(參照專利文獻1)。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利特開2011-88765號公報

發明內容

發明所要解決的技術問題

本申請發明人發現在觸摸以往的玻璃構件的表面(功能層一側的表面)時，往往感覺到粗糙，觸感不良。但是，在要改善觸感、對功能層實施某種處置的情況下，這次有可能不能在功能層中體現所希望的特性。

本發明是鑒于這樣的背景而產生的發明，本發明的目的在于，提供不損害由功能層體現的功能、能夠得到良好觸感的玻璃構件。此外，目的在于，提供制造這樣的玻璃構件的方法。

解決技術問題所采用的技術方案

本發明提供一種玻璃構件,其是在玻璃板的第一表面上具有功能層的玻璃構件，從上述玻璃構件的上述功能層側測定的馬氏硬度為1100N/mm²以上，上述功能層含有二氧化硅，由上述功能層的表面的粗糙度曲線通過下述方法而得的剪切水平差RΔc為2％以上。

剪切水平差RΔc的計算方法：

在上述功能層的表面的粗糙度曲線(評價長度L＝10mm)中，將剪切水平設為c，

以下的式(1)所表示的負荷長度比Rmr(c)(％)

[數1]

中，將c＝10％的負荷長度比設為Rmr(10)(％)，將c＝50％的負荷長度比設為Rmr(50)(％)時，

以下的式(2)

RΔc(％)＝Rmr(50)-Rmr(10)式(2)

所表示的RΔc即為剪切水平差RΔc。

此外，本發明提供一種玻璃構件的制造方法，其是具有以下工序的玻璃構件的制造方法：(1)在玻璃板的第一表面涂布涂布液，形成含有二氧化硅的功能層，使從上述功能層的表面的粗糙度曲線通過下述方法而得的剪切水平差RΔc低于2％的工序；和(2)對上述功能層的表面進行研磨，使從上述功能層的表面的粗糙度曲線通過下述方法而得的剪切水平差RΔc為2％以上的工序。

剪切水平差RΔc的計算方法：

在上述功能層的表面的粗糙度曲線(評價長度L＝10mm)中，將剪切水平設為c，

以下的式(3)所表示的負荷長度比Rmr(c)(％)

[數2]

中，將c＝10％的負荷長度比設為Rmr(10)(％)，將c＝50％的負荷長度比設為Rmr(50)(％)時，

以下的式(4)

RΔc(％)＝Rmr(50)-Rmr(10)式(4)

所表示的RΔc即為剪切水平差RΔc。

發明的效果

本發明可提供不損害由功能層體現的功能、能夠得到良好觸感的玻璃構件。此外，可提供制造這樣的玻璃構件的方法。

附圖說明

圖1是功能層的模式性的粗糙度分布圖(a)，以及概略地表示剪切水平c(％)和負荷長度比Rmr(c)(％)的關系的圖(b)。

圖2是示意地表示本發明的一實施方式的玻璃構件的截面的圖。

圖3是示意地表示本發明的一實施方式的玻璃構件的制造方法的流程的圖。

圖4是表示本發明的一實施方式的玻璃構件的制造方法的一工序中所形成的功能層的表面粗糙度分布的一例的圖。

圖5是示意地表示研磨功能層的表面時所使用的研磨裝置的一例的圖。

圖6是表示本發明的一實施方式的玻璃構件的制造方法的一工序中所形成的功能層的表面粗糙度分布的一例的圖。

圖7是表示樣品1中的防眩膜的表面顯微鏡照片的圖。

圖8是表示樣品1中的防眩膜的表面粗糙度分布的圖。

圖9是表示樣品1中的防眩膜的剪切水平c(％)和負荷長度比Rmr(c)(％)之間的關系的圖。

圖10是表示樣品2中的防眩膜的表面顯微鏡照片的圖。

圖11是表示樣品2中的防眩膜的表面粗糙度分布的圖。