[發(fā)明專利]一種激光薄膜刻蝕裝置及方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610874943.6
• 申請日: 2016-09-30
• 公開（公告）號(hào): CN106271089B
• 公開（公告）日: 2019-01-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊煥;張杰;馬明鴻;秦國雙
• 申請（專利權(quán)）人: 英諾激光科技股份有限公司
• 主分類號(hào): B23K26/362
• 分類號(hào): B23K26/362;B23K26/12;B23K26/402;B23K26/064;B23K26/0622
• 代理公司: 深圳市精英專利事務(wù)所 44242
• 代理人: 馮筠

1.一種激光薄膜刻蝕裝置，其特征在于，包括：用于發(fā)射超快激光的激光器；對激光進(jìn)行擴(kuò)束的擴(kuò)束裝置；用于控制光束透過的光闌；驅(qū)動(dòng)激光掃描的振鏡，場鏡以及工控機(jī)；其中，在所述工控機(jī)的控制下，所述激光器發(fā)射激光，激光依次經(jīng)過所述擴(kuò)束裝置、光闌、振鏡以及場鏡作用在位于加工平臺(tái)上的表面設(shè)有薄膜的工件上，進(jìn)行薄膜刻蝕，其中，所述的加工平臺(tái)上還設(shè)有一真空裝置，待加工的工件位于所述真空裝置內(nèi)以使工件形成真空刻蝕環(huán)境，所述激光器根據(jù)待加工的工件基底與表面薄膜的特性，波長為：對表面薄膜吸收率小于20％，對基底的吸收率大于50％，所述的激光器發(fā)射激光的模式為脈沖串，所述的脈沖串模式為：將單個(gè)高能量激光脈沖分解為三個(gè)及以上的連續(xù)脈沖串，所述的振鏡為3D振鏡。

2.一種激光薄膜刻蝕方法，其特征在于，包括以下步驟：

第一步，將待加工的工件放置位于加工平臺(tái)上的真空裝置內(nèi)；

第二步，開啟真空裝置，使工件處于真空環(huán)境中；

第三步，開啟激光器，并將激光器調(diào)整至脈沖串模式，對工件進(jìn)行掃描刻蝕；其中，所述激光器發(fā)射的激光為超快激光，激光波長根據(jù)工件的基底及表面薄膜特性選擇為：對表面薄膜吸收率低于20％，對基底的吸收率大于50％，所述激光器發(fā)射的激光經(jīng)過一光路系統(tǒng)調(diào)節(jié)后作用于工件，所述光路系統(tǒng)包括：對激光進(jìn)行擴(kuò)束的擴(kuò)束裝置；用于控制光束透過的光闌；驅(qū)動(dòng)激光掃描的振鏡，場鏡以及工控機(jī)；其中，在所述工控機(jī)的控制下，所述激光器發(fā)射激光，激光依次經(jīng)過所述擴(kuò)束裝置、光闌、振鏡以及場鏡作用位于加工平臺(tái)上的表面設(shè)有薄膜的工件上，進(jìn)行薄膜刻蝕，所述的脈沖串模式為：將單個(gè)高能量激光脈沖分解為三個(gè)及以上的連續(xù)脈沖串。