[發(fā)明專利]抗蝕層的薄膜化裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610867740.4
• 申請(qǐng)日: 2016-09-30
• 公開（公告）號(hào): CN106900141B
• 公開（公告）日: 2020-11-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 豐田裕二;后閑寬彥;中川邦弘
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三菱制紙株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H05K3/06
• 分類號(hào): H05K3/06
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 李婷;傅永霄

抗蝕層的薄膜化裝置，膠束除去處理單元具有pH傳感器及酸性溶液添加用泵，該pH傳感器設(shè)置于能監(jiān)視膠束除去液的pH的位置，酸性溶液添加用泵設(shè)置在能在膠束除去液的pH上升時(shí)將酸性溶液添加到膠束除去液中的位置，酸性溶液添加用泵在膠束除去液的實(shí)際pH值pH?M為pH?A以上時(shí)將酸性溶液添加到膠束除去液中，pH?M時(shí)的酸性溶液添加用泵的實(shí)際輸出OP?M由pH?A時(shí)的酸性溶液添加用泵的輸出OP?A與膠束除去液的pH的控制目標(biāo)pH?B時(shí)的酸性溶液添加用泵的輸出OP?B之間的比例控制確定，OP?M相對(duì)于酸性溶液添加用泵的最大輸出OP?X為10%以上50%以下，pH?ApH?B，OP?A≤OP?M≤OP?B。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及抗蝕層的薄膜化裝置。

背景技術(shù)

伴隨著電器以及電子部件的小型化、輕量化、多功能化，對(duì)于電路形成用的以干膜抗蝕劑、焊料抗蝕劑為首的感光性樹脂（感光性材料），為了對(duì)應(yīng)印刷配線板的高密度化，要求高分辨率。借助這些感光性樹脂進(jìn)行的圖像形成通過將感光性樹脂曝光后顯影而進(jìn)行。

為了與印刷配線板的小型化、高功能化對(duì)應(yīng)，存在感光性樹脂被薄膜化的傾向。在感光性樹脂中，有涂布液體而使用的類型的液狀抗蝕劑和干膜類型的干膜抗蝕劑。最近，厚度為15μm以下的干膜抗蝕劑被開發(fā)，商品化也在發(fā)展。但是，這樣的薄的干膜抗蝕劑與以往的厚度的抗蝕劑相比，密接性以及向凹凸的追從性變得不足，存在會(huì)發(fā)生剝離、空隙等的問題。

為了解決這些問題，提出了能一邊使用厚的感光性樹脂一邊實(shí)現(xiàn)高分辨率的技術(shù)方案。例如，在借助消減法制作導(dǎo)電圖案的方法中，公開有如下所述的導(dǎo)電圖案的形成方法（例如，參照參考文獻(xiàn)1），其特征在于，在絕緣層的單面或者兩面上設(shè)置金屬層而形成層疊基板，在該層疊基板上接合蝕刻抗蝕劑用的干膜抗蝕劑而形成抗蝕層，之后，進(jìn)行抗蝕層的薄膜化工序，接著進(jìn)行電路圖案的曝光工序、顯影工序、蝕刻工序。另外，在形成焊料抗蝕劑圖案的方法中，公開有如下所述的焊料抗蝕劑圖案的形成方法（例如，參照專利文獻(xiàn)2以及專利文獻(xiàn)3），其特征在于，在具有導(dǎo)電性圖案的電路基板上形成由焊料抗蝕劑形成的抗蝕層，之后進(jìn)行抗蝕層的薄膜化工序，接著進(jìn)行圖案曝光工序，再一次進(jìn)行抗蝕層的薄膜化工序。

另外，在專利文獻(xiàn)4中，公開有至少包括下述四個(gè)處理單元的抗蝕層的薄膜化裝置：薄膜化處理單元，其將形成有抗蝕層的基板浸漬（浸泡，dip）在高濃度的堿性水溶液（薄膜化處理液）中，使抗蝕層的成分的膠束（micelle）暫時(shí)不溶解化，令其在處理液中不容易溶解擴(kuò)散；膠束除去處理單元，借助膠束除去液噴霧將膠束一舉溶解除去；水洗處理單元，將表面用水洗凈；干燥處理單元，將水洗用水除去。

關(guān)于專利文獻(xiàn)4公開的薄膜化裝置的一部分，使用圖13表示的概略剖視圖進(jìn)行說明。在薄膜化處理單元11中，從投入口7投入形成有抗蝕層的基板3。基板3被從浸泡槽的入口輥對(duì)（有時(shí)簡寫為“入口輥對(duì)”）4向浸泡槽2中運(yùn)送，在浸泡于薄膜化處理液1中的狀態(tài)下被運(yùn)送至浸泡槽2內(nèi)，進(jìn)行抗蝕層的薄膜化處理。其后，基板3被運(yùn)送至膠束除去處理單元12。在膠束除去處理單元12中，對(duì)于被膠束除去處理單元的運(yùn)送輥29運(yùn)送來的基板3，通過膠束除去液供給管20從膠束除去液用噴嘴21供給膠束除去液噴霧22。基板3的抗蝕層在薄膜化處理單元11內(nèi)部的浸泡槽2中，借助作為高濃度的堿性水溶液的薄膜化處理液1，使抗蝕層成分的膠束相對(duì)于薄膜化處理液1暫時(shí)不溶解化。此后，借助膠束除去液噴霧22除去膠束，由此抗蝕層被薄膜化。

膠束除去液的pH比薄膜化處理液的pH更低。并且，通過使膠束除去液的pH維持在5.0~10.0的范圍能夠保持抗蝕層向膠束除去液的溶解擴(kuò)散性為一定，穩(wěn)定的連續(xù)薄膜化成為可能（例如，參照專利文獻(xiàn)3）。但是，薄膜化處理液是高濃度的堿性水溶液，因此相對(duì)于抗蝕層表面被薄膜化處理液的液膜覆蓋的狀態(tài)的基板，若供給膠束除去液噴霧，則薄膜化處理液與膠束除去液混合，因此膠束除去液的pH會(huì)上升。