[發(fā)明專利]基板處理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610861837.4
• 申請日: 2013-08-12
• 公開（公告）號: CN106933065B
• 公開（公告）日: 2019-03-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 鈴木智也
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/24
• 分類號: G03F7/24
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 陳偉;王娟娟

基板處理裝置具備：基板支承部件，具有從規(guī)定軸以固定半徑彎曲的曲面，且基板的一部分被卷繞于曲面而支承基板；處理部，從軸觀察時配置在基板支承部件的周圍，并對位于周向中特定位置的曲面上的基板實施處理；溫度調(diào)節(jié)裝置，對供給到基板支承部件之前的基板的溫度進(jìn)行調(diào)節(jié)。

本發(fā)明申請是國際申請日為2013年8月12日、國際申請?zhí)枮镻CT/JP2013/071823、進(jìn)入中國國家階段的國家申請?zhí)枮?01380047645.4、發(fā)明名稱為“基板處理裝置及元件制造方法”的發(fā)明申請的分案申請。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及對位于基板支承部件的曲面上的基板實施處理的基板處理裝置及元件制造方法。

背景技術(shù)

在光刻工序所使用的曝光裝置中，已知下述專利文獻(xiàn)所公開的那樣的、使圓筒狀或者圓柱狀的光罩旋轉(zhuǎn)而對基板進(jìn)行曝光的曝光裝置(例如，參照專利文獻(xiàn)1)。

不僅在使用板狀的光罩的情況下，即使在使用圓筒狀或者圓柱狀的光罩對基板進(jìn)行曝光的情況下，為了將光罩的圖案的像良好地投影曝光在基板上，也需要準(zhǔn)確地獲取光罩的圖案的位置信息。為此，期望研究出能夠準(zhǔn)確地獲取圓筒狀或者圓柱狀的光罩的位置信息、且能夠準(zhǔn)確地調(diào)整該光罩與基板的位置關(guān)系的技術(shù)。

因此，在專利文獻(xiàn)1所公開的曝光裝置中，公開了如下結(jié)構(gòu)：在光罩中的圖案形成面的規(guī)定區(qū)域中，相對于圖案以規(guī)定的位置關(guān)系形成位置信息獲取用的標(biāo)記(刻度、格子等)，利用編碼器系統(tǒng)檢測標(biāo)記，由此獲取圖案形成面的周向上的圖案的位置信息、或者光罩的旋轉(zhuǎn)軸向上的位置信息。

另外，近年來也提出了如下裝置：為了將大型顯示面板(液晶、有機EL等)等電子元件形成于具有撓性的樹脂薄膜、塑料片材、極薄玻璃片材等，將卷繞成輥狀的具有撓性的長條狀的薄膜或片材(以下，也稱為撓性基板)拉出，在該撓性基板的表面涂敷光感應(yīng)層，并在該光感應(yīng)層上曝光電子電路用的各種圖案(例如，專利文獻(xiàn)2)。

在先技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2008－076650號公報

專利文獻(xiàn)2：日本特開2010－217877號公報

發(fā)明內(nèi)容

如上述專利文獻(xiàn)2所公開的在撓性基板上實施處理的基板處理裝置中，要求抑制基板的伸縮，提高處理的精度。

本發(fā)明的方案是鑒于上述情況而研發(fā)出的，其目的在于提供一種抑制基板的伸縮，提高處理的精度的基板處理裝置及元件制造方法。

根據(jù)本發(fā)明的第1方案，提供一種基板處理裝置，其具備：基板支承部件，具有從規(guī)定軸以固定半徑彎曲的曲面，且基板的一部分被卷繞于所述曲面而支承所述基板；處理部，從軸觀察時配置在所述基板支承部件的周圍，并對位于周向中特定位置的所述曲面上的所述基板實施處理；溫度調(diào)節(jié)裝置，對供給到所述基板支承部件之前的所述基板的溫度進(jìn)行調(diào)節(jié)。

也可以是，具備：搬送裝置，其以使所述基板從所述特定位置通過的方式，使所述基板沿搬送所述基板的搬送方向移動，所述溫度調(diào)節(jié)裝置，對從所述基板支承部件的所述特定位置通過的所述基板的所述搬送方向的上游側(cè)進(jìn)行溫度調(diào)節(jié)。

也可以是，所述溫度調(diào)節(jié)裝置具備介質(zhì)調(diào)節(jié)裝置，該介質(zhì)調(diào)節(jié)裝置使經(jīng)過溫度調(diào)節(jié)的介質(zhì)流通至搬送所述基板的空間。

也可以是，所述基板支承部件的所述曲面為第1曲面，所述溫度調(diào)節(jié)裝置具備：引導(dǎo)部件，其具有從與所述軸平行的平行基準(zhǔn)軸以固定半徑彎曲而成的第2曲面，并使所述基板的一部分接觸所述第2曲面；介質(zhì)調(diào)節(jié)裝置，其使經(jīng)過溫度調(diào)節(jié)的介質(zhì)流通至所述引導(dǎo)部件的周圍的空間。

也可以是，所述溫度調(diào)節(jié)裝置具備供給高溫介質(zhì)的第1介質(zhì)供給部、和供給溫度比所述高溫介質(zhì)低的低溫介質(zhì)的第2介質(zhì)供給部，所述溫度調(diào)節(jié)裝置使所述高溫介質(zhì)與所述低溫介質(zhì)混合來作為所述介質(zhì)而流通。