[發明專利]一種等離子體處理器、移動環清潔維持系統及方法

有效

• 申請號: 201610849212.6
• 申請日: 2016-09-26
• 公開（公告）號: CN107871648B
• 公開（公告）日: 2019-08-30
• 發明（設計）人: 梁潔;涂樂義
• 申請（專利權）人: 中微半導體設備（上海）股份有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 上海信好專利代理事務所(普通合伙) 31249
• 代理人: 潘朱慧

技術領域

本發明涉及等離子體刻蝕系統，具體涉及一種等離子體處理器、移動環清潔維持系統及方法。

背景技術

等離子體刻蝕領域一直存在著移動環（Moving Ring）表面聚合物沉積問題，具體的，全新的移動環在經過一段時間的刻蝕過程后，表面會不斷沉積聚合物，且聚合物的厚度持續變化，這種聚合物沉積至少會導致以下兩個問題：

1、沉積的聚合物會改變移動環的化學、光學以及電學性能，導致刻蝕工藝性能出現不穩定性漂移；

2、當聚合物沉積到一定程度會形成為塊狀物，使刻蝕過程出現粒子（Particle）掉落問題，嚴重時影響刻蝕產品優良率；

因此，需要提供一種對刻蝕過程中移動環表面沉積的聚合物進行處理的方法。

發明內容

本發明的目的在于提供一種一種等離子體處理器、移動環清潔維持系統及方法，通過超聲波發生器發出的高頻震蕩信號，通過換能器轉換成高頻機械振蕩傳播并均勻輻射到移動環的固體介質中，實現移動環表面及縫隙中污染物迅速剝離，從而達到表面凈化的目的。

為了達到上述目的，本發明通過以下技術方案實現：

一種移動環潔凈維持系統，用于阻止在等離子處理過程中等離子處理器中的移動環底部和外側壁表面沉積形成聚合物，所述的等離子處理器包括一反應腔，反應腔內包括一個用于放置待處理晶圓的基座，基座上方包括反應氣體進氣裝置用于輸入反應氣體到所述基座上方，在等離子處理過程中所述反應氣體在基座上方被電離形成等離子體，移動環位于反應腔內并圍繞所述等離子體，其特征是，所述的移動環潔凈維持系統包含：

超聲波換能器，安裝在移動環中；

超聲波發生器，其輸出端連接所述的超聲波換能器。

上述的移動環潔凈維持系統，其中，還包含：

控制系統，連接所述超聲波發生器的輸入端，在線控制超聲波發生器的輸出功率大小和功率持續時間。

上述的移動環潔凈維持系統，其中：

在移動環中均勻分布設置多個所述的超聲波換能器。

上述的移動環潔凈維持系統，其中：

在所述的移動環上開槽，用于容納所述的超聲波換能器。

上述的移動環潔凈維持系統，其中：

超聲波換能器埋設在移動環中，使超聲波換能器不暴露于等離子體。

上述的移動環潔凈維持系統，其中：

所述的超聲波換能器埋設在移動環的底表面和/或外側壁中。

一種移動環潔凈維持方法，其特征是：

在等離子處理過程中，在移動環中安裝超聲波換能器，其將超聲波發生器發出的高頻振動信號轉換成高頻機械振蕩以阻止移動環表面聚合物的聚集；

超聲波換能器的輸入端連接超聲波發生器的輸出端，超聲波發生器向超聲波換能器提供功率以及高頻振動信號。

上述的移動環潔凈維持方法，其中：

超聲波發生器的輸入端連接一控制系統，控制系統在線控制超聲波發生器的輸出功率大小和功率持續時間，以實現超聲波換能器對移動環在線清潔維持過程的調節和控制。

上述的移動環潔凈維持方法，其中：

在移動環中均勻分布設置多個所述的超聲波換能器。

上述的移動環潔凈維持方法，其中：

在所述的移動環上開槽，用于容納所述的超聲波換能器。

上述的移動環潔凈維持方法，其中：

超聲波換能器埋設在移動環中，使超聲波換能器不暴露于等離子體。

上述的移動環潔凈維持方法，其中：

所述超聲波換能器發射超聲波的方向為移動環表面聚合物的沉積方向。

一種等離子體處理器，其包含上述的移動環潔凈維持系統。

本發明與現有技術相比具有以下優點：通過超聲波發生器發出的高頻震蕩信號，通過換能器轉換成高頻機械振蕩傳播并均勻輻射到移動環的固體介質中，實現移動環表面及縫隙中污染物迅速剝離，從而達到表面凈化的目的。

附圖說明

圖1為本發明中安裝有超聲波換能器的移動環的結構示意圖；

圖2為本發明的系統圖；

圖3為本發明的實施例安裝結構示意圖。

具體實施方式

以下結合附圖，通過詳細說明一個較佳的具體實施例，對本發明做進一步闡述。