[發(fā)明專利]基板結(jié)構(gòu)及其制法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610846610.2 | 申請(qǐng)日: | 2016-09-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107871724B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-08-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 胡文宏 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 恒勁科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L23/495 | 分類號(hào): | H01L23/495;H01L21/60 |
| 代理公司: | 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 周濱;章侃銥 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 板結(jié) 及其 制法 | ||
1.一種基板結(jié)構(gòu),其特征為,該基板結(jié)構(gòu)包括:
介電層,其具有相對(duì)的第一側(cè)與第二側(cè),且該介電層的第一側(cè)具有多個(gè)一體成形的第二凸部;
第一金屬層,其形成于該介電層的第一側(cè)且具有多個(gè)一體成形的第一凸部;以及
保護(hù)層,其形成于該介電層的第一側(cè)及該第一金屬層與該多個(gè)第一凸部上,且該保護(hù)層還形成于該多個(gè)第二凸部上,該保護(hù)層形成有多個(gè)開(kāi)孔,以令部分該第一凸部,及該介電層的第一側(cè)與部分該第二凸部露于所述開(kāi)孔,供結(jié)合封裝材。
2.如權(quán)利要求1所述的基板結(jié)構(gòu),其特征為,該第一凸部的表面為粗糙化表面。
3.如權(quán)利要求1所述的基板結(jié)構(gòu),其特征為,該基板結(jié)構(gòu)還包括第二金屬層,其形成于該介電層的第二側(cè)上且電性連接至該第一金屬層。
4.一種基板結(jié)構(gòu)的制法,其特征為,該制法包括:
提供一表面具有多個(gè)凹部的承載件;
形成第一金屬層于該承載件上與該凹部中,以令該第一金屬層于該凹部中形成有一體成形的第一凸部;
形成介電層于該承載件與該第一金屬層上;
移除該承載件,以外露該第一金屬層與該第一凸部;以及
形成保護(hù)層于該介電層及該第一金屬層與該第一凸部上。
5.如權(quán)利要求4所述的基板結(jié)構(gòu)的制法,其特征為,該介電層還設(shè)于該凹部中而形成有一體成形的第二凸部。
6.如權(quán)利要求5所述的基板結(jié)構(gòu)的制法,其特征為,在移除該承載件之后,該保護(hù)層還形成于該第二凸部上。
7.如權(quán)利要求4所述的基板結(jié)構(gòu)的制法,其特征為,該第一凸部的表面為粗糙化表面。
8.如權(quán)利要求4所述的基板結(jié)構(gòu)的制法,其特征為,該制法還包括形成第二金屬層于該介電層上,且將該第二金屬層電性連接至該第一金屬層。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于恒勁科技股份有限公司,未經(jīng)恒勁科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610846610.2/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。





