[發(fā)明專利]超級結(jié)功率器件及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610798678.8 | 申請日: | 2016-08-31 |
| 公開(公告)號: | CN107799419A | 公開(公告)日: | 2018-03-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鐘圣榮;鄭芳 | 申請(專利權(quán))人: | 無錫華潤華晶微電子有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/336 | 分類號: | H01L21/336;H01L29/78;H01L29/06 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司11332 | 代理人: | 孟金喆,胡彬 |
| 地址: | 214135 江蘇省無錫市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 超級 功率 器件 及其 制備 方法 | ||
1.一種超級結(jié)功率器件的制備方法,其特征在于,包括:
提供第一導(dǎo)電類型的襯底;
在所述襯底的上方形成第一導(dǎo)電類型的第一外延層;
在所述第一外延層上方進(jìn)行第一導(dǎo)電類型的離子注入以使所述第一外延層的第一導(dǎo)電類型離子的濃度由上而下逐漸降低,在所述第一外延層上方進(jìn)行第二導(dǎo)電類型的離子注入以在所述第一外延層內(nèi)形成交替相間的第一導(dǎo)電類型柱區(qū)和第二導(dǎo)電類型柱區(qū);
在所述第二導(dǎo)電類型柱區(qū)頂部形成具有第二導(dǎo)電類型的體區(qū),所述體區(qū)超出相對應(yīng)的所述第二導(dǎo)電類型柱區(qū)的兩側(cè)并延伸至所述第一導(dǎo)電類型柱區(qū);
在所述體區(qū)和所述第一導(dǎo)電類型柱區(qū)上方形成柵極氧化層和多晶硅層,并圖案化刻蝕形成柵極區(qū);
進(jìn)行第一導(dǎo)電類型的離子注入,在所述體區(qū)內(nèi)形成源區(qū);
在所述源區(qū)和所述柵極區(qū)上分別形成源極金屬和柵極金屬,在所述襯底遠(yuǎn)離所述外延層的一側(cè)形成漏極金屬。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,在所述第二導(dǎo)電類型柱區(qū)頂部形成具有第二導(dǎo)電類型的體區(qū),所述體區(qū)超出相對應(yīng)的所述第二導(dǎo)電類型柱區(qū)的兩側(cè)并延伸至所述第一導(dǎo)電類型柱區(qū)之前,重復(fù)執(zhí)行n次下列操作:
在所述襯底的上方形成第一導(dǎo)電類型的第二外延層;
在所述第二外延層上方進(jìn)行第一導(dǎo)電類型的離子注入以使所述第二外延層的第一導(dǎo)電類型離子的濃度由上而下逐漸降低,在所述第二外延層上方進(jìn)行第二導(dǎo)電類型的離子注入以在所述第二外延層內(nèi)形成交替相間的第一導(dǎo)電類型柱區(qū)和第二導(dǎo)電類型柱區(qū);
其中,n為正整數(shù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,在所述第二導(dǎo)電類型柱區(qū)頂部形成具有第二導(dǎo)電類型的體區(qū),所述體區(qū)超出相對應(yīng)的所述第二導(dǎo)電類型柱區(qū)的兩側(cè)并延伸至所述第一導(dǎo)電類型柱區(qū)之前,重復(fù)執(zhí)行n次操作之后,第一外延層以及n個(gè)第二外延層中的所述第二導(dǎo)電類型柱區(qū)的總深寬比為0.6(n+1)~1.8(n+1)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一外延層的厚度為5~20微米,且電阻率為0.5~5歐姆·厘米。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,1≤n≤6。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,在所述第二導(dǎo)電類型柱區(qū)頂部形成具有第二導(dǎo)電類型的體區(qū),所述體區(qū)超出相對應(yīng)的所述第二導(dǎo)電類型柱區(qū)的兩側(cè)并延伸至所述第一導(dǎo)電類型柱區(qū)之前,每次在所述襯底的上方形成的所述第二導(dǎo)電類型的第二外延層的厚度為5~12微米,且電阻率大于20歐姆·厘米。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,在所述第一外延層或所述第二外延層上方進(jìn)行第一導(dǎo)電類型的離子注入以使所述第一外延層或所述第二外延層的第一導(dǎo)電類型離子的濃度由上而下逐漸降低的所述第一導(dǎo)電類型的離子注入的離子濃度為2e11~1e14原子數(shù)每平方厘米。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述第二導(dǎo)電類型的離子注入的離子濃度為1e12~1e14原子數(shù)每平方厘米。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一所述的方法,其特征在于,包括:
所述第一導(dǎo)電類型為P型,所述第二導(dǎo)電類型為N型;或者,所述第一導(dǎo)電類型為N型,所述第二導(dǎo)電類型為P型。
10.一種超級結(jié)功率器件,其特征在于,采用權(quán)利要求1-9中任一所述的方法形成。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





