[發(fā)明專利]一種陣列基板及其制備方法、顯示面板及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610797896.X
• 申請(qǐng)日: 2016-08-31
• 公開（公告）號(hào): CN106298647B
• 公開（公告）日: 2017-12-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 崔承鎮(zhèn)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/77
• 分類號(hào): H01L21/77;H01L27/12;G02F1/1343;G02F1/1362
• 代理公司: 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司11274
• 代理人: 申健

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種陣列基板及其制備方法、顯示面板及其制備方法。

背景技術(shù)

液晶顯示器(Liquid Crystal Display，簡(jiǎn)稱LCD)具有體積小、功耗低、無輻射等優(yōu)點(diǎn)，在顯示領(lǐng)域中占據(jù)了主導(dǎo)地位。

液晶顯示器中的液晶顯示面板包括陣列基板、對(duì)盒基板以為位于二者之間的液晶層。

目前，一種結(jié)構(gòu)的陣列基板，其制備方法需要經(jīng)過六次采用掩模板的構(gòu)圖工藝，具體為：通過第一次構(gòu)圖工藝形成柵極和柵線；通過第二次構(gòu)圖工藝形成有源層、源極和漏極、以及數(shù)據(jù)線；通過第三次構(gòu)圖工藝形成第一鈍化層和有機(jī)絕緣層；通過第四次溝通工藝形成第一電極；通過第四次溝通工藝形成第二鈍化層；通過第五次構(gòu)圖工藝形成第二電極；其中，第一電極和第二電極互為像素電極和公共電極。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的實(shí)施例提供一種陣列基板及其制備方法、顯示面板及其制備方法，可減少構(gòu)圖工藝次數(shù)，降低成本。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案：

第一方面，提供一種陣列基板的制備方法，包括：在襯底上通過一次構(gòu)圖工藝形成柵金屬層；在形成有所述柵金屬層和柵絕緣層的襯底上，通過一次構(gòu)圖工藝形成半導(dǎo)體層和源漏金屬層；所述源漏金屬層包括數(shù)據(jù)線和與所述數(shù)據(jù)線連接的金屬電極；在形成有所述半導(dǎo)體層和源漏金屬層的襯底上，通過一次構(gòu)圖工藝形成第一電極，并形成溝道區(qū)，所述溝道區(qū)使所述金屬電極形成源極和漏極；在形成有所述第一電極的襯底上，通過一次構(gòu)圖工藝形成鈍化層和有機(jī)絕緣層；所述有機(jī)絕緣層至少與所述數(shù)據(jù)線對(duì)應(yīng)；在形成有所述有機(jī)絕緣層的襯底上，通過一次構(gòu)圖工藝形成第二電極。

優(yōu)選的，所述第一電極和所述第二電極均為透明電極。

可選的，所述第一電極為公共電極；所述第二電極為像素電極；所述像素電極至少通過設(shè)置在所述鈍化層上的過孔與所述漏極電連接；或者，所述第一電極為像素電極；所述像素電極與所述漏極直接相連；所述第二電極為公共電極。

優(yōu)選的，所述半導(dǎo)體層和所述源漏金屬層的圖案形狀相同；通過一次構(gòu)圖工藝形成第一電極，并形成溝道區(qū)，包括：在形成有所述半導(dǎo)體層和所述源漏金屬層的襯底上形成導(dǎo)電薄膜，并形成光刻膠；采用普通掩模板對(duì)所述光刻膠進(jìn)行曝光，顯影后形成光刻膠保留圖案，所述光刻膠保留圖案與待形成的所述第一電極、待形成的所述源極和所述漏極、以及所述數(shù)據(jù)線對(duì)應(yīng)；采用刻蝕工藝對(duì)基板進(jìn)行刻蝕，使所述金屬電極形成所述源極和所述漏極，并形成所述第一電極，同時(shí)形成位于所述數(shù)據(jù)線、所述源極和所述漏極上方的保留圖案。

進(jìn)一步，優(yōu)選的，所述半導(dǎo)體層包括a-si層和n⁺a-si層；采用刻蝕工藝對(duì)基板進(jìn)行刻蝕，使所述金屬電極形成所述源極和所述漏極，包括：采用刻蝕工藝對(duì)基板進(jìn)行刻蝕，使所述金屬電極形成所述源極和所述漏極，使所述n⁺a-si層形成歐姆接觸層。

可選的，所述有機(jī)絕緣層與所述數(shù)據(jù)線、所述源極和所述漏極、以及所述溝道區(qū)對(duì)應(yīng)。

進(jìn)一步優(yōu)選的，所述鈍化層的厚度為所述有機(jī)絕緣層的厚度為1.5～2.2μm。

可選的，所述有機(jī)絕緣層平鋪于所述襯底上；所述有機(jī)絕緣層包括第一部分和第二部分；所述第一部分與所述數(shù)據(jù)線、所述源極和所述漏極、以及所述溝道區(qū)對(duì)應(yīng)；所述第二部分對(duì)應(yīng)其他區(qū)域；所述第一部分的厚度為1.8～2.7μm，所述第二部分的厚度為所述鈍化層的厚度為

進(jìn)一步優(yōu)選的，在所述第一電極為公共電極，所述第二電極為像素電極的情況下，通過一次構(gòu)圖工藝形成鈍化層和有機(jī)絕緣層，包括：在形成有所述第一電極的襯底上，依次形成鈍化薄膜和感光樹脂薄膜；采用半色調(diào)掩模板對(duì)所述感光樹脂薄膜進(jìn)行曝光，形成感光樹脂完全保留部分、感光樹脂半保留部分和完全去除部分；所述感光樹脂完全保留部分與所述數(shù)據(jù)線、所述源極和所述漏極、以及所述溝道區(qū)對(duì)應(yīng)；所述完全去除部分與待形成的露出所述漏極的過孔對(duì)應(yīng)；所述感光樹脂半保留部分與其他區(qū)域?qū)?yīng)；采用刻蝕工藝對(duì)所述鈍化薄膜進(jìn)行刻蝕，形成包括過孔的鈍化層，所述過孔露出所述漏極；采用灰化工藝對(duì)所述感光樹脂完全保留部分和所述感光樹脂半保留部分進(jìn)行灰化，形成所述有機(jī)絕緣層。

進(jìn)一步的，所述感光樹脂完全保留部分的厚度為2.0～3.0μm；所述感光樹脂半保留部分的厚度為

第二方面，提供一種顯示面板的制備方法，包括第一方面所述陣列基板的制備方法。