[發明專利]一種掩模版Y向定位裝置和方法以及一種掩模版傳輸系統

有效

• 申請號: 201610795158.1
• 申請日: 2016-08-31
• 公開（公告）號: CN107783381B
• 公開（公告）日: 2020-04-10
• 發明（設計）人: 馬方波;吳福龍
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

技術領域

本發明涉及半導體制造技術領域，特別涉及一種掩模版Y向定位裝置和方法以及一種掩模版傳輸系統。

背景技術

作為光刻機掩模傳輸系統的重要組成部分，交換版機械手對掩模版的定位精度有較高的要求。現有的掩模傳輸過程中，由于掩模版相對比較小，對于掩模版定位的要求相對也比較低，而在平板顯示制備工藝中，隨著掩模版尺寸不斷增大，對掩模版定位的要求也在不斷提高。

具體的，在掩模傳輸系統中，取放版機械手版叉輸送掩模版至掩模交接位時，需要對放置在取放版機械手版叉上的掩模版進行Y向的粗定位(取放版機械手的長度所在方向為Y向)，在此處定位的精度要求雖然不高，但掩模版的移動距離比較小；如果取放版機械手版叉施加的作用力過小，則無法滿足掩模版的定位需要；如果作用力過大，則掩模版有被損耗的風險。

因此需要提供一種定位掩模版的裝置和方法以及一種掩模版傳輸系統，既能滿足定位需求，又能保護掩模版不被損壞。

發明內容

本發明的目的在于提供一種掩模版Y向定位裝置和方法以及一種掩模版傳輸系統，以解決現有的掩模版定位時作用力過大容易被損壞的問題。

本發明的技術方案是提供一種掩模版Y向定位裝置，包括推桿結構和過位保護結構，所述過位保護結構推動所述推桿結構向掩模版所在方向運動并吸收掩模版上多余的作用力。

進一步的，所述過位保護結構和所述推桿結構垂直連接。

進一步的，所述推桿結構包括推桿和凸輪隨動器，所述推桿底部連接 所述凸輪隨動器。。

進一步的，所述推桿帶動所述凸輪隨動器碰觸所述掩模版邊緣，并推動所述掩模版。

進一步的，所述過位保護結構包括彈性組件、導軌滑塊和驅動元件，所述驅動元件一端連接所述彈性組件，另一端連接所述導軌滑塊。

進一步的，所述Y向定位裝置還包括支架，導軌限位塊，轉接板；所述轉接板連接所述驅動元件和導軌滑塊；所述導軌限位塊位于所述導軌滑塊一側，限制導軌滑塊的運動范圍；所述支架位于導軌滑塊上。

進一步的，所述驅動元件驅動推桿所述推桿結構向掩模版所在方向運動。

進一步的，在掩模版受到的作用力超出掩模版的承受范圍時，導軌滑塊滑動，壓縮彈性元件，吸收掩模版Y向定位時多余的力。

本發明還提供一種掩模傳輸系統，包括掩模版Y向定位裝置、取放版機械手、取放版機械手版叉、交換版機械手；所述掩模版Y向定位裝置連接交換版機械手，取放版機械手版叉連接取放版機械手，其中，所述掩模版Y向定位裝置為如上所述的掩模版Y向定位裝置。

進一步的，還包括掩模版底座定位塊，所述掩模版底座定位塊安裝在取放版機械手版叉上。

進一步的，所述取放版機械手版叉輸送和放置掩模版。

進一步的，所述取放版機械書版叉在取放版機械手的帶動下，向掩模版Y向定位裝置所在方向移動，并使所述掩模版和所述掩模版Y向定位裝置接觸。

進一步的，所述掩模版底座定位塊與所述掩模版Y向定位裝置相對設置，所述掩模版底座定位塊與所述掩模版Y向定位裝置共同限定掩模版的運動范圍。

相應的，本發明還提供一種掩模版Y向定位方法，包括以下步驟：

步驟1:取放版機械手版叉輸送掩模版至指定位置；

步驟2:過位保護結構推動推桿結構向掩模版所在方向運動；

步驟3:取放版機械手版叉繼續推動掩模版移動，直至掩模版與掩模版 Y向定位裝置接觸；

步驟4:取放版機械手版叉繼續推動掩模版到達一交接位；

步驟5:掩模版到達交接位后，過位保護結構被壓縮，吸收掩模版Y向定位時多余的作用力。

進一步的，所述過位保護結構包括彈性組件、導軌滑塊和驅動元件，所述驅動元件一端連接所述彈性組件，另一端連接所述導軌滑塊。

進一步的，所述所述驅動元件動推動推桿結構向掩模版所在方向運動。

進一步的，通過所述導軌滑塊滑動，壓縮所述彈性組件，吸收掩模版上多余的作用力。