[發(fā)明專利]一種高純度二氧化硅中去除氯離子的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610771451.4 | 申請(qǐng)日： | 2016-08-30 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN106853970A | 公開（公告）日： | 2017-06-16 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 陳曙 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 天津市科密歐化學(xué)試劑有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C01B33/12 | 分類號(hào)： | C01B33/12 |
| 代理公司： | 天津市三利專利商標(biāo)代理有限公司12107 | 代理人： | 閆俊芬 |
| 地址： | 300000 天津市*** | 國省代碼： | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 純度 二氧化硅 去除 氯離子 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種高純度二氧化硅中去除氯離子的方法，其特征在于：具體步驟為：
(1)在合成二氧化硅生成沉淀前將氨水加入到反應(yīng)體系中，其中，Na2SiO3與氨水的摩爾比為1：1-1.2，靜置，棄去清液；
(2)二氧化硅再用氨水洗滌兩次，其中，二氧化硅與氨水的摩爾比為1：1-1.2；
(3)二氧化硅再使用純水洗滌，其中，每1kg二氧化硅的純水使用量為20L/次，一天兩次，洗滌2-3天，即可去除氯離子，得到高純度二氧化硅。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高純度二氧化硅中去除氯離子的方法，其特征在于：所述步驟(1)、(2)中氨水為15％氨水。
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