[發明專利]一種雙面異型光刻ITO通道制作工藝方法在審
| 申請號: | 201610750397.5 | 申請日: | 2016-08-30 |
| 公開(公告)號: | CN107783376A | 公開(公告)日: | 2018-03-09 |
| 發明(設計)人: | 曹警聲 | 申請(專利權)人: | 連城縣中觸電子有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;G06F3/041 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 364000 福建省龍巖*** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 雙面 異型 光刻 ito 通道 制作 工藝 方法 | ||
技術領域
本發明涉及觸摸屏Sensor技術領域,具體為一種雙面異型光刻ITO通道制作工藝方法。
背景技術
傳統的雙面異型光刻ITO通道制作工藝方法整機存在莫瑞干涉現象,同時傳統工藝蝕刻痕明顯,傳統工藝線寬線距較高,一般線寬線≥0.08mm,出啊同的工藝功能最大差值較大,一般工藝功能最大單位變量值≥1500,因此發明雙面異型光刻ITO通道制作工藝方法,使用激光光刻技術制作不規則排版或彎曲走線ITO通道線路,以用作觸摸屏sensor的導通線路,實現觸摸功能。
發明內容
本發明的目的在于提供一種雙面異型光刻ITO通道制作工藝方法,以解決上述背景技術中提出的問題。
為實現上述目的,本發明提供如下技術方案:一種雙面異型光刻ITO通道制作工藝方法,該工藝方法包括如下步驟:
(1)根據整機產品性能需求及控制芯片IC定義設計好ITO patten;
(2)使用激光光刻技術在已經鍍好氧化銦錫的玻璃上雕刻出已經設計好的ITO patten圖案;
(3)去除ITO無用的部分,保留有用的ITO patten圖案用作觸摸屏sensor導通線路;
(4)在ITO patten邊緣銀漿時刻掉氧化銦錫的空白位置加印銀漿AG塊;銀漿PIN與ITO patten 搭接PIN緊密接觸,以保證良好的導通性;
(5)使用激光光刻技術將銀漿塊雕刻成相應IC通道數的單條線路,并在集中位置均勻布局引出線,用作與柔性線路板FPC綁定連接用;
(6)將柔性線路板FPC與ITO sensor 銀漿引出線通過ACF綁定導通,實現ITO玻璃的觸摸功能。
優選的,所述的雙面異型光刻ITO通道制作工藝方法,該工藝方法制作的sensor線寬線距可達到0.03-0.045mm。
優選的,所述的雙面異型光刻ITO通道制作工藝方法,該工藝方法制作的sensor功能一致性最大單位變量值≤1000。
與現有技術相比,本發明的有益效果是:該制作工藝方法有效的降低了整機莫瑞干涉效果,解決傳統工藝蝕刻痕明顯的問題,采用此工藝制作出來的觸摸屏正常情況下幾乎看不到蝕刻痕,采用此工藝制作的sensor線寬線距可達到0.03-0.045mm,較傳統工藝線寬線距≥0.08mm減小了50%,采用此工藝制作的sensor功能一致性最大單位變量值≤1000,較普通工藝功能最大單位變量差值≥1500明顯減小,有效的解決了傳統工藝功能一致性較差的問題。
具體實施方式
下面將結合實施例,對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒景l明中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發明保護的范圍。
本發明提供一種技術方案:
實施例1:
一種雙面異型光刻ITO通道制作工藝方法,該工藝方法包括如下步驟:
(1)根據整機產品性能需求及控制芯片IC定義設計好ITO patten;
(2)使用激光光刻技術在已經鍍好氧化銦錫的玻璃上雕刻出已經設計好的ITO patten圖案;
(3)去除ITO無用的部分,保留有用的ITO patten圖案用作觸摸屏sensor導通線路;
(4)在ITO patten邊緣銀漿時刻掉氧化銦錫的空白位置加印銀漿AG塊;銀漿PIN與ITO patten 搭接PIN緊密接觸,以保證良好的導通性;
(5)使用激光光刻技術將銀漿塊雕刻成相應IC通道數的單條線路,并在集中位置均勻布局引出線,用作與柔性線路板FPC綁定連接用;
(6)將柔性線路板FPC與ITO sensor 銀漿引出線通過ACF綁定導通,實
現ITO玻璃的觸摸功能。
實施例2:
根據實施例1所述的雙面異型光刻ITO通道制作工藝方法,該工藝方法制作的sensor線寬線距可達到0.03-0.045mm。
實施例3:
根據實施例1或2所述的雙面異型光刻ITO通道制作工藝方法,該工藝方法制作的sensor功能一致性最大單位變量值≤1000。
盡管已經示出和描述了本發明的實施例,對于本領域的普通技術人員而言,可以理解在不脫離本發明的原理和精神的情況下可以對這些實施例進行多種變化、修改、替換和變型,本發明的范圍由所附權利要求及其等同物限定。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于連城縣中觸電子有限公司,未經連城縣中觸電子有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610750397.5/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種光刻機智能控制系統
- 下一篇:曝光方法、光刻方法及半導體制造方法





