[發明專利]LDI曝光機能量均勻性檢測方法

有效

• 申請號: 201610737471.X
• 申請日: 2016-08-26
• 公開（公告）號: CN106325004B
• 公開（公告）日: 2018-01-30
• 發明（設計）人: 陳功;盧汝鋒;謝添華
• 申請（專利權）人: 廣州興森快捷電路科技有限公司;深圳市興森快捷電路科技股份有限公司;天津興森快捷電路科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司44224
• 代理人: 周修文

1.一種LDI曝光機能量均勻性檢測方法，其特征在于，包括以下步驟：

準備測試板和干膜，并在所述測試板上設置定位孔；

制作曝光圖形文件，所述曝光圖形文件內設定有與曝光機內所需檢測的能量區一一對應的圖形區，每個所述圖形區均設定有寬度信息值；

將所述干膜貼設于所述測試板上；

將貼設干膜的所述測試板材放入曝光機中，曝光機抓取定位孔，根據所述曝光圖形文件對所述測試板進行曝光處理；

將經過曝光處理的測試板進行顯影處理；

測定測試板上干膜各顯影區寬度；

比較每個所述顯影區和與之對應的所述圖形區的寬度大小；

判斷顯影區和與之對應的圖形區的寬度差值是否超過預設值，若超過所述預設值，則調整曝光機對應能量區的能量值，并重復以下步驟：

將干膜貼設于所述測試板上；

將貼設干膜的所述測試板材放入曝光機中，曝光機抓取定位孔，根據所述曝光圖形文件對所述測試板進行曝光處理；

將經過曝光處理的測試板進行顯影處理；

測定測試板上干膜各顯影區寬度；

比較每個所述顯影區和與之對應的所述圖形區的寬度大小，并判斷兩者寬度差值是否超過所述預設值，直至兩者寬度差值小于或等于所述預設值；

若不超過預設值，則測試板去膜，以待下次檢測用。

2.根據權利要求1所述的LDI曝光機能量均勻性檢測方法，其特征在于，在所述曝光圖形文件中，所述圖形區包括與每個曝光頭內多個能量分區一一對應的第一圖形區和與相鄰兩個曝光頭之間的能量重疊區一一對應的第二圖形區。

3.根據權利要求1或2所述的LDI曝光機能量均勻性檢測方法，其特征在于，在所述曝光圖形文件中，所述圖形區為多個，多個所述圖形區的寬度相等。

4.根據權利要求3所述的LDI曝光機能量均勻性檢測方法，其特征在于，多個所述圖形區均勻并排布置。

5.根據權利要求4所述的LDI曝光機能量均勻性檢測方法，其特征在于，所述圖形區的寬度和相鄰兩個所述圖形區之間的間距均為10～200μm。

6.根據權利要求1或2所述的LDI曝光機能量均勻性檢測方法，其特征在于，所述圖形區呈直條狀。

7.根據權利要求1或2所述的LDI曝光機能量均勻性檢測方法，其特征在于，每個所述圖形區的所述寬度信息值和所對應的所述能量區的覆蓋寬度相等。

8.根據權利要求1所述的LDI曝光機能量均勻性檢測方法，其特征在于，所述預設值為±2μm。

9.根據權利要求1或2所述的LDI曝光機能量均勻性檢測方法，其特征在于，在將干膜貼設于所述測試板上的步驟之前還包括步驟：對所述測試板進行前處理，所述前處理包括化學微蝕、物理磨板和噴砂處理。