[發明專利]一種鋁合金陽極氧化工藝和陽極氧化鋁合金有效
| 申請號: | 201610736789.6 | 申請日: | 2016-08-26 |
| 公開(公告)號: | CN106191955B | 公開(公告)日: | 2018-03-27 |
| 發明(設計)人: | 侯體波 | 申請(專利權)人: | 廣東歐珀移動通信有限公司 |
| 主分類號: | C25D11/08 | 分類號: | C25D11/08;C25D11/16;C23G1/22;C23F3/03;C25D11/18 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司44202 | 代理人: | 郝傳鑫,熊永強 |
| 地址: | 523860 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 鋁合金 陽極 氧化 工藝 | ||
1.一種鋁合金陽極氧化工藝,其特征在于,包括以下步驟:
將經預處理后的鋁合金基材作為陽極,放入含有陽極氧化電解液的氧化槽中,同時以鉛板作為陰極,控制溫度為-10℃~10℃,接通電源開始進行陽極氧化,氧化過程中控制電壓以0.5V/min-2V/min的速率從起始電壓逐漸上升至終止電壓后,斷開電源,氧化結束,得到表面形成有陽極氧化膜的鋁合金基材;所述陽極氧化電解液為150g/L-250g/L的硫酸,整個氧化過程的時間控制在10min-50min;所述陽極氧化膜的表層為在相比終止電壓低,且逐漸上升的漸變電壓下形成的漸變層,膜孔較多,所述氧化膜表層的膜孔分布率為80×109-100×109個/cm2,所述陽極氧化膜的里層在所述終止電壓下形成,膜孔較少,硬度較大,所述氧化膜里層的膜孔分布率為30×109-40×109個/cm2,整個所述陽極氧化膜中,自所述氧化膜表層至所述氧化膜里層,膜孔分布逐漸減少,硬度逐漸增大。
2.如權利要求1所述的鋁合金陽極氧化工藝,其特征在于,所述起始電壓為10V-14V,所述終止電壓為24V-50V。
3.如權利要求1所述的鋁合金陽極氧化工藝,其特征在于,所述預處理操作包括依次進行的脫脂處理、第一次剝黑膜處理、化學拋光處理和第二次剝黑膜處理步驟。
4.如權利要求1所述的鋁合金陽極氧化工藝,其特征在于,進一步包括在氧化結束后進行封孔處理和烘干處理。
5.一種陽極氧化鋁合金,其特征在于,包括鋁合金基材和形成于所述鋁合金基材表面的陽極氧化膜,所述陽極氧化膜包括氧化膜表層和氧化膜里層,所述氧化膜表層的膜孔較所述氧化膜里層多,且整個所述陽極氧化膜中,自所述氧化膜表層至所述氧化膜里層,膜孔分布逐漸減少,硬度逐漸增大,所述氧化膜表層的膜孔分布率為80×109-100×109個/cm2,所述氧化膜里層的膜孔分布率為30×109-40×109個/cm2,其中,所述陽極氧化膜為經過電壓以0.5V/min-2V/min的速率從起始電壓逐漸上升至終止電壓的陽極氧化過程形成的。
6.如權利要求5所述的陽極氧化鋁合金,其特征在于,所述氧化膜里層的厚度為60nm-70nm。
7.如權利要求5所述的陽極氧化鋁合金,其特征在于,所述陽極氧化膜的厚度為8μm-20μm。
8.一種終端外殼,其特征在于,所述終端外殼采用權利要求5-7任一項所述的陽極氧化鋁合金加工而成。
9.一種終端,其特征在于,包括如權利要求8所述的終端外殼。
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