[發明專利]一種硅片水平清洗裝置

有效

• 申請號: 201610695176.2
• 申請日: 2016-08-19
• 公開（公告）號: CN107755311B
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發明（設計）人: 郭江濤;趙可武;鄧浩;李定武
• 申請（專利權）人: 隆基綠能科技股份有限公司
• 主分類號: B08B1/04
• 分類號: B08B1/04;B08B1/02;B08B3/02;B08B3/12;H01L31/18
• 代理公司: 西安弘理專利事務所 61214
• 代理人: 燕肇琪

本發明公開的一種硅片水平清洗裝置，包括傳輸機構、毛刷機構、超聲機構、噴淋機構和烘干機構，傳輸機構具有引入硅片的上游以及輸出硅片的下游，毛刷機構、超聲機構以及噴淋機構均設置于傳輸機構的上游與下游之間，烘干機構設置于傳輸機構的下游，毛刷機構用于刷洗硅片表面，超聲機構用于超聲清洗硅片，噴淋機構用于向接受刷洗或超聲清洗的硅片噴淋清洗液，烘干機構用于干燥處理經毛刷機構、超聲機構和噴淋機構處理后的硅片。本發明的一種硅片水平清洗裝置在水平刷洗過程中輔助于超聲、噴淋的機械物理作用，減少甚至徹底避免了化學試劑的使用，同時降低純水消耗及能耗，提高了硅片清洗的自動化程度及清洗效率。

技術領域

本發明屬于硅片清洗設備技術領域，具體涉及一種硅片水平清洗裝置。

背景技術

隨著世界經濟的不斷發展，現代化建設對高效能源需求不斷增長。光伏發電作為綠色能源以及人類可持續發展的主要能源的一種，日益受到世界各國的重視并得到大力發展。單晶硅片、多晶硅片作為光伏發電的太陽能電池片的基礎材料，擁有廣泛的市場需求。

在太陽能電池的加工過程中，為了保證硅片表面具有較高的潔凈度，需要大量清洗液沖洗并配合化學腐蝕、超聲波振蕩以及加熱等化學、物理作用以去除硅片表面的污染物。目前，硅片清洗多采用槽式清洗機，在槽式清洗機內，硅片在花籃等機構的承載下，以垂直于水平面的豎直狀態，經過酸洗槽和/或堿洗槽、多個漂洗槽，完成清洗過程。硅片槽式清洗方式存在純水用量高、化學藥劑添加量大、廢水處理困難、能耗較高、自動化程度低、清洗速度慢等缺點。

發明內容

本發明的目的在于提供一種硅片水平清洗裝置，解決了現有的槽式清洗機存在的純水和化學藥劑用量高、廢水多以及自動化程度低的問題。

本發明所采用的技術方案是：一種硅片水平清洗裝置，包括傳輸機構、毛刷機構、超聲機構、噴淋機構和烘干機構，傳輸機構用于承載并傳輸硅片，傳輸機構具有引入硅片的上游以及輸出硅片的下游，毛刷機構、超聲機構以及噴淋機構均設置于傳輸機構的上游與下游之間，烘干機構設置于傳輸機構的下游，毛刷機構用于刷洗硅片表面，超聲機構用于超聲清洗硅片，噴淋機構與毛刷機構、超聲機構相對應，用于向接受刷洗或超聲清洗的硅片噴淋清洗液，烘干機構用于干燥處理經毛刷機構、超聲機構和噴淋機構處理后的硅片，烘干機構的上游還另外設置有一個噴淋機構，該噴淋機構用于對進入烘干工序前的硅片噴淋純水進行清洗。

本發明的特點還在于，

毛刷機構包括至少一個第一表面毛刷和至少一個第二表面毛刷，第一表面毛刷和第二表面毛刷分別位于傳輸機構的兩側且交錯設置，第一表面毛刷的同側設置有構成噴淋機構的噴淋頭，第二表面毛刷的同側設置有構成噴淋機構的噴淋頭；第一表面毛刷和第二表面毛刷處對應的傳輸機構為皮帶傳輸結構；

硅片表面分為第一表面和第二表面；在第一表面毛刷用于刷洗硅片第一表面的同時，噴淋頭向硅片第一表面噴淋清洗液；在第二表面毛刷用于刷洗硅片第二表面的同時，噴淋頭向硅片第二表面噴淋清洗液；

超聲機構包括至少一組超聲振板，每組超聲振板包括相對設置的第一表面超聲振板和第二表面超聲振板，第一表面超聲振板設置在第一表面毛刷的同側，第二表面超聲振板設置在第二表面毛刷的同側；超聲機構處對應的傳輸機構為滾輪傳輸結構。

第一表面毛刷和第二表面毛刷均為一個，第一表面毛刷設置在第二表面毛刷的上游，超聲機構設置在第二表面毛刷的下游；超聲機構包括至少兩組超聲振板，第一表面超聲振板間隔或連續設置，第二表面超聲振板間隔或連續設置；在第二表面毛刷與超聲機構之間設置至少一組擠水滾輪，每組擠水滾輪包括相對設置的上擠水滾輪和下擠水滾輪，上擠水滾輪和下擠水滾輪之間具有供硅片通過的空隙。

第一表面毛刷和第二表面毛刷均為兩個，在超聲機構的上游設置一個第一表面毛刷和一個第二表面毛刷，在超聲機構的下游設置一個第一表面毛刷和一個第二表面毛刷；