[發明專利]一種硅片水平清洗裝置有效
| 申請號: | 201610695176.2 | 申請日: | 2016-08-19 |
| 公開(公告)號: | CN107755311B | 公開(公告)日: | 2020-10-16 |
| 發明(設計)人: | 郭江濤;趙可武;鄧浩;李定武 | 申請(專利權)人: | 隆基綠能科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B08B1/04 | 分類號: | B08B1/04;B08B1/02;B08B3/02;B08B3/12;H01L31/18 |
| 代理公司: | 西安弘理專利事務所 61214 | 代理人: | 燕肇琪 |
| 地址: | 710100 陜西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 硅片 水平 清洗 裝置 | ||
1.一種硅片水平清洗裝置,其特征在于,包括傳輸機構、毛刷機構、超聲機構、噴淋機構和烘干機構,所述傳輸機構用于承載并傳輸硅片,所述傳輸機構具有引入所述硅片的上游以及輸出所述硅片的下游,所述毛刷機構、所述超聲機構以及所述噴淋機構均設置于所述傳輸機構的上游與下游之間,所述烘干機構設置于所述傳輸機構的下游,所述毛刷機構用于刷洗硅片表面,所述超聲機構用于超聲清洗硅片,所述噴淋機構與所述毛刷機構、所述超聲機構相對應,用于向接受刷洗或超聲清洗的硅片噴淋清洗液,所述烘干機構用于干燥處理經所述毛刷機構、所述超聲機構和所述噴淋機構處理后的硅片,所述烘干機構的上游還另外設置有一個噴淋機構,所述噴淋機構用于對進入烘干工序前的硅片噴淋純水進行清洗;
所述毛刷機構包括至少一個第一表面毛刷(104)和至少一個第二表面毛刷(103),所述第一表面毛刷(104)和第二表面毛刷(103)分別位于傳輸機構的兩側且交錯設置,第一表面毛刷(104)的同側設置有構成噴淋機構的噴淋頭(105),第二表面毛刷(103)的同側設置有構成噴淋機構的噴淋頭(105);第一表面毛刷(104)和第二表面毛刷(103)處對應的傳輸機構為皮帶傳輸結構;
所述硅片表面分為第一表面和第二表面;在第一表面毛刷(104)用于刷洗硅片第一表面的同時,噴淋頭(105)向硅片第一表面噴淋清洗液;在第二表面毛刷(103)用于刷洗硅片第二表面的同時,噴淋頭(105)向硅片第二表面噴淋清洗液;
所述超聲機構包括至少一組超聲振板,每組超聲振板包括相對設置的第一表面超聲振板(108)和第二表面超聲振板(109),第一表面超聲振板(108)設置在第一表面毛刷(104)的同側,第二表面超聲振板(109)設置在第二表面毛刷(103)的同側;超聲機構處對應的傳輸機構為滾輪傳輸結構。
2.根據權利要求1所述的一種硅片水平清洗裝置,其特征在于,所述第一表面毛刷(104)和第二表面毛刷(103)均為一個,第一表面毛刷(104)設置在第二表面毛刷(103)的上游,所述超聲機構設置在第二表面毛刷(103)的下游;所述超聲機構包括至少兩組超聲振板,第一表面超聲振板(108)間隔或連續設置,第二表面超聲振板(109)間隔或連續設置;在第二表面毛刷(103)與超聲機構之間設置至少一組擠水滾輪(107),每組擠水滾輪(107)包括相對設置的上擠水滾輪和下擠水滾輪,上擠水滾輪和下擠水滾輪之間具有供硅片通過的空隙。
3.根據權利要求1所述的一種硅片水平清洗裝置,其特征在于,所述第一表面毛刷(104)和第二表面毛刷(103)均為兩個,在超聲機構的上游設置一個第一表面毛刷(104)和一個第二表面毛刷(103),在超聲機構的下游設置一個第一表面毛刷(104)和一個第二表面毛刷(103);
所述超聲機構包括至少兩組超聲振板,第一表面超聲振板(108)間隔或連續設置,第二表面超聲振板(109)間隔或連續設置;超聲機構與其上下游的第一表面毛刷(104)或第二表面毛刷(103)之間分別設置至少一組擠水滾輪(107)。
4.根據權利要求1所述的一種硅片水平清洗裝置,其特征在于,所述第一表面毛刷(104)和第二表面毛刷(103)均為一個,第一表面毛刷(104)設置在第二表面毛刷(103)的上游,在第一表面毛刷(104)和第二表面毛刷(103)之間設置一個超聲機構,在第二表面毛刷(103)的下游也設置一個超聲機構;第一表面毛刷(104)與其下游的超聲機構之間設置至少一組擠水滾輪(107),第二表面毛刷(103)與其上游和下游的超聲機構之間分別設置至少一組擠水滾輪(107)。
5.根據權利要求1所述的一種硅片水平清洗裝置,其特征在于,每個所述超聲機構均包括至少兩組超聲振板,第一表面超聲振板(108)間隔或連續設置,第二表面超聲振板(109)間隔或連續設置。
6.根據權利要求2至5中任一項所述的一種硅片水平清洗裝置,其特征在于,所述毛刷機構處還設置有輔助輥,所述輔助輥分布在第一表面毛刷(104)、第二表面毛刷(103)的兩側,用于防止毛刷機構刷洗硅片時硅片發生位置的改變。
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