[發明專利]一種有機發光器件的制備方法

有效

• 申請號: 201610692105.7
• 申請日: 2016-08-22
• 公開（公告）號: CN106207014B
• 公開（公告）日: 2018-02-13
• 發明（設計）人: 廖良生;王照奎;張磊;周東營
• 申請（專利權）人: 蘇州大學
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56
• 代理公司: 南京經緯專利商標代理有限公司32200
• 代理人: 曹毅

1.一種有機發光器件的制備方法，其特征在于該方法的制備步驟如下：

第一步：將ITO透明導電玻璃基片在清洗劑中超聲處理后，進行清洗，再烘烤至干燥，然后用紫外燈和臭氧進行處理，再把處理過的ITO透明導電玻璃基片置于真空腔內，抽真空至3.0×10^-4～4.0×10^-4Pa；

第二步：在ITO透明導電玻璃基片上采用雙源蒸鍍的方法蒸鍍混合物A，形成具備空穴注入以及傳輸性能的p型功能層，其中混合物A由摻雜劑和主體材料NPB組成，摻雜劑為MoO₃或F4-TCNQ，蒸鍍速率為0.3 ?/s，鍍膜厚度為45 nm；

第三步：在p型功能層上蒸鍍由TAPC或TCTA形成的電子阻擋層，其中蒸鍍速率為2?/s，鍍膜厚度為14 nm；

第四步：在電子阻擋層上采用雙源蒸鍍的方法，將TPBi作為主體材料，PO-01或者Ir(MDQ)₂(acac)作為染料制備有機發光層，其中蒸鍍速率為2?/s，鍍膜厚度為15 nm；

第五步：在有機發光層上蒸鍍TPBi，形成具有空穴阻擋和電子傳輸作用的電子傳輸層，其中蒸鍍速率為2 ?/s，鍍膜厚度為15 nm；

第六步：在電子傳輸層上采用雙源蒸鍍的方法蒸鍍混合物B，形成具備電子注入以及傳輸性能的n型功能層，其中混合物B由摻雜劑Li和主體材料TPBi組成，蒸鍍速率為2 ?/s，鍍膜厚度為10 nm；

第七步：在n型功能層上采用雙源蒸鍍的方法蒸鍍混合物C，形成具備空穴注入以及傳輸性能的p’型功能層，其中化合物C由摻雜劑和主體材料NPB組成，摻雜劑為MoO₃或F4-TCNQ，蒸鍍速率為2 ?/s，鍍膜厚度為35 nm；

第八步：在p’型功能層上真空蒸鍍Al層，形成陰極，即得有機發光器件，其中Al層的厚度為100nm。

2.根據權利要求1所述的一種有機發光器件的制備方法，其特征在于：所述第一步中清洗的步驟為先用去離子水沖洗，再依次用去離子水、丙酮、乙醇反復清洗三次。

3.根據權利要求1所述的一種有機發光器件的制備方法，其特征在于：所述第一步中將真空腔內的真空抽至3.0×10^-4Pa。

4.根據權利要求1所述的一種有機發光器件的制備方法，其特征在于：所述第二步中將NPB作為主體材料，MoO₃或F4-TCNQ作為摻雜劑制備p型功能層時，MoO₃的摻雜濃度為20 vol.%；F4-TCNQ的摻雜濃度為3 vol.%。

5.根據權利要求1所述的一種有機發光器件的制備方法，其特征在于：所述第四步中將TPBi作為主體材料，PO-01作為染料制備有機發光層時，PO-01的摻雜濃度為6 vol.%。

6.根據權利要求1所述的一種有機發光器件的制備方法，其特征在于：所述第四步中將TPBi作為主體材料，Ir(MDQ)₂(acac)作為染料制備有機發光層時，Ir(MDQ)₂(acac)的摻雜濃度為4 vol.%。

7.根據權利要求1所述的一種有機發光器件的制備方法，其特征在于：所述第六步中將TPBi作為主體材料，Li作為摻雜劑制備n型功能層時，Li的摻雜濃度為1 vol.%。

8.根據權利要求1所述的一種有機發光器件的制備方法，其特征在于：所述第七步中所述將NPB作為主體材料，MoO₃或F4-TCNQ作為摻雜劑制備p’型功能層時，MoO₃的摻雜濃度為20 vol.%；F4-TCNQ的摻雜濃度為3 vol.%。