[發明專利]太陽能級硅切片清洗劑及其制備方法

在審

• 申請號: 201610624467.2
• 申請日: 2016-08-03
• 公開（公告）號: CN107686776A
• 公開（公告）日: 2018-02-13
• 發明（設計）人: 石建偉
• 申請（專利權）人: 天津鑫泰士特電子有限公司
• 主分類號: C11D1/22
• 分類號: C11D1/22;C11D1/72;C11D3/30;C11D3/33;C11D3/20;C11D3/04;C11D3/60
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及電子工業清洗劑技術領域，尤其是一種太陽能級硅切片清洗劑及其制備方法。

背景技術

在光伏和半導體硅片生產過程中，尤其是在用于制造太陽能電池的太陽能硅片生產過程中，往往有一些雜質附著在硅片表面上，需要對硅片進行清洗，才能得到合格的產品。太陽能硅片是制造太陽能電池的基礎，它的表面狀態會影響到電池的可靠性和成品率，因此對太陽能硅片的表面清洗要求較高。常規的硅片清洗劑由于配方的原因而具有如下缺點：清洗時間較長，一般需要5-20分鐘，清洗效果不理想，會出現花片，即清洗后的太陽能級硅切片表面會出現殘留物斑跡，對太陽能級硅切片表面腐蝕較嚴重等。

發明內容

本發明的目的在于克服現有技術的不足，提供一種太陽能級硅切片清洗劑及其制備方法，具有清洗時間短、操作簡單、成本低、清洗效果理想、且清洗后的太陽能級硅切片無雜質，表面僅輕度腐蝕。

本發明解決其技術問題是采用以下技術方案實現的：

一種太陽能級硅切片清洗劑，所述清洗劑的組份和重量百分比如下：表面活性劑1-15%；有機堿5-15%；絡合劑2-10%；助溶劑3-10%；無機堿PH調節劑0.01-2%；余量為去離子水；

其中，所述表面活性劑選自十二烷基苯磺酸鈉、壬基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚或其組合；

所述有機堿選自三乙醇胺、四甲基氫氧化銨或其組合；

所述絡合劑選自以下的一種或多種：乙二胺四乙酸二鈉、檸檬酸鈉和乙二胺四乙酸；

所述助溶劑選自丙三醇、乙醇、異丙醇或其混合物。

優選的，所述的無機堿PH調節劑為濃度為40%的氫氧化鉀溶液。

太陽能級硅切片清洗劑的制備方法，包括以下步驟：

（1）取一定量去離子水，向其中加入5-15%的有機堿，配制成溶液；

（2）在攪拌的條件下，向上述溶液中加入2-10%的絡合劑和0.01-2%無機堿PH調節劑；所述絡合劑為乙二胺四乙酸二鈉；

（3）在攪拌的條件下，向其中加入1-15%的表面活性劑；

（4）在攪拌的條件下，向其中加入3-10%的助溶劑；

（5）在攪拌的條件下，加入去離子水，一共攪拌兩個小時，最后得到太陽能級硅切片清洗劑。

本發明的優點和積極效果是：

1、本發明制成通過對清洗劑的組份和重量百分比的選擇，獲得了一種具有清洗時間短、操作簡單、成本低、清洗效果理想、且清洗后的太陽能級硅切片無雜質，表面僅輕度腐蝕。

2、本發明選用乙二胺四乙酸二鈉作為絡合劑，降低金屬離子沾污的危險。

3、本發明濃縮度高，單組份可以替代市面上的雙組份，降低了成本，加快了清洗進程，縮短了清洗時間。

具體實施方式

以下對本發明實施例做進一步詳述：

一種太陽能級硅切片清洗劑，所述清洗劑的組份和重量百分比如下：表面活性劑1-15%；有機堿5-15%；絡合劑2-10%；助溶劑3-10%；無機堿PH調節劑0.01-2%；余量為去離子水；

其中，所述表面活性劑選自十二烷基苯磺酸鈉、壬基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚或其組合；

所述有機堿選自三乙醇胺、四甲基氫氧化銨或其組合；

所述絡合劑選自以下的一種或多種：乙二胺四乙酸二鈉、檸檬酸鈉和乙二胺四乙酸；

所述助溶劑選自丙三醇、乙醇、異丙醇或其混合物。

本發明所述的無機堿PH調節劑為濃度為40%的氫氧化鉀溶液。

太陽能級硅切片清洗劑的制備方法，包括以下步驟：

（1）取一定量去離子水，向其中加入5-15%的有機堿，配制成溶液；

（2）在攪拌的條件下，向上述溶液中加入2-10%的絡合劑和0.01-2%無機堿PH調節劑；所述絡合劑為乙二胺四乙酸二鈉；

（3）在攪拌的條件下，向其中加入1-15%的表面活性劑；

（4）在攪拌的條件下，向其中加入3-10%的助溶劑；

（5）在攪拌的條件下，加入去離子水，一共攪拌兩個小時，最后得到太陽能級硅切片清洗劑。

本發明清洗太陽能級硅切片的工作流程：為延長清洗劑的壽命，可以將太陽能級硅切片采用循環去離子水進行預清洗，然后采用配比為1%-3%的清洗劑，在最佳工作溫度60℃的條件下對太陽能級硅切片進行清洗，清洗浸泡時間為3-8分鐘，清洗干凈后，進而在常溫至45℃的循環去離子水中對太陽能級硅切片進行充分漂洗，完成后，對太陽能級硅切片進行干燥處理。