[發(fā)明專利]一種透明導(dǎo)電氧化物薄膜及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610573667.X | 申請日： | 2016-07-20 |
| 公開（公告）號： | CN106048530A | 公開（公告）日： | 2016-10-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 劉生忠;肖鋒偉;訾威 | 申請（專利權(quán)）人： | 陜西師范大學(xué) |
| 主分類號： | C23C14/08 | 分類號： | C23C14/08;C23C14/58;H01L21/321;H01L21/28 |
| 代理公司： | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200 | 代理人： | 李宏德 |
| 地址： | 710062 *** | 國省代碼： | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 透明 導(dǎo)電 氧化物 薄膜 及其 制備 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
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- 專利分類
C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
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C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
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- 透明導(dǎo)電膜用靶、透明導(dǎo)電材料、透明導(dǎo)電玻璃及透明導(dǎo)電薄膜
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