[發明專利]曝光方法

有效

• 申請號: 201610541070.7
• 申請日: 2016-07-11
• 公開（公告）號: CN106200275B
• 公開（公告）日: 2017-12-01
• 發明（設計）人: 胡德瑩
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00;G03F1/72
• 代理公司: 深圳市德力知識產權代理事務所44265
• 代理人: 林才桂

技術領域

本發明涉及顯示器制造技術領域，尤其涉及一種曝光方法。

背景技術

在顯示技術領域，液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)與有機發光二極管顯示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板顯示器已經逐步取代CRT顯示器，廣泛的應用于液晶電視、手機、個人數字助理、數字相機、計算機屏幕或筆記本電腦屏幕等。

通常液晶顯示面板由彩膜基板(CF，Color Filter)、薄膜晶體管基板(TFT，Thin Film Transistor)、夾于彩膜基板與薄膜晶體管基板之間的液晶(LC，Liquid Crystal)及密封膠框(Sealant)組成，其成型工藝一般包括：前段陣列(Array)制程(薄膜、黃光、蝕刻及剝膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板與CF基板貼合)及后段模組組裝制程(驅動IC與印刷電路板壓合)。其中，前段Array制程主要是形成TFT基板，以便于控制液晶分子的運動；中段Cell制程主要是在TFT基板與CF基板之間添加液晶；后段模組組裝制程主要是驅動IC壓合與印刷電路板的整合，進而驅動液晶分子轉動，顯示圖像。

在液晶顯示器的Array制程等平板顯示器的制程過程中，經常會用到曝光制程。通常曝光制程的具體過程為，先在涂有光刻膠的基板上方放置光罩，然后利用曝光機對基板進行曝光，具體的，曝光機通過開啟超高壓水銀燈發出UV紫外光線，將光罩上的圖像信息轉移到涂有光刻膠的基板表面上，基于光罩的圖案，光刻膠會有被曝光的部分和未被曝光的部分。再利用顯影液對光刻膠進行顯影，即可去除光刻膠被曝光的部分，保留光刻膠未被曝光的部分，或者去除光刻膠未被曝光的部分，保留光刻膠被曝光的部分，從而使光刻膠形成所需的圖形。

隨著光罩尺寸變大，光罩形變量也不斷增大，曝光制程的位置精度控制的難度也越來越大，尤其是對于光罩在高溫狀態下產生的形變沒有進行修復，導致曝光后產品的重合精度(Overlay，OVL)不達標，進而導致產品報廢。

發明內容

本發明的目的在于提供一種曝光方法，能夠補正光罩因溫度變化而產生的形變，提升曝光效果，保證產品質量。

為實現上述目的，本發明提供一種曝光方法，包括如下步驟：

步驟1、提供一具有鏡頭的曝光機、一光罩、以及一待曝光的基板，所述光罩上設有第一對位標記，所述基板上設有對應所述第一對位標記的第二對位標記；

步驟2、將所述光罩及基板放置到曝光機上并進行對位，通過曝光機的鏡頭測量基板上的第二對位標記與光罩上的第一對位標記的重合精度，根據重合精度判斷光罩是否發生形變，若重合精度不合格，則繼續進行步驟3，若重合精度合格，則直接進行步驟4；

步驟3、測量光罩的當前溫度值，并計算光罩的當前溫度值與預設的標準溫度值的差值，并輸入曝光機，曝光機根據光罩的當前溫度值與預設的標準溫度值的差值來驅動鏡頭對光罩的形變進行補正；

補正時，在以光罩的中心點為原點的直角坐標系內，首先根據光罩的各個點的原始坐標值計算得出各個點在當前溫度下沿x軸和y軸的偏移量，再根據各個點在當前溫度下沿x軸和y軸的偏移量驅動鏡頭以補正光罩的形變，所述各個點在當前溫度下沿x軸和y軸的偏移量的計算公式為：

x’＝x×a×t；

y’＝y×a×t；

其中，x為光罩上的一點的預存在曝光機內的原始坐標值的橫坐標值，y為光罩上的一點的預存在曝光機內的原始坐標值的縱坐標值，x’為該點在當前溫度下的沿x軸的偏移量，y’為該點在當前溫度下的沿y軸的偏移量，a為光罩的熱膨脹系數，t為當前溫度值與預設的標準溫度值的差值；

步驟4、利用曝光機及光罩對所述基板進行曝光。

所述第一對位標記與第二對位標記均為十字形。

所述光罩的形狀為矩形。

所述光罩的長為945mm，寬為800mm。

所述光罩的熱膨脹系數為0.6×10^-6/℃。

所述步驟3中通過溫度傳感器測量所述光罩的當前溫度值。

所述基板的形狀為矩形。

所述基板的長為1850mm，寬為1500mm。

所述預設的標準溫度值為23℃。