[發明專利]曝光方法

有效

• 申請號: 201610541070.7
• 申請日: 2016-07-11
• 公開（公告）號: CN106200275B
• 公開（公告）日: 2017-12-01
• 發明（設計）人: 胡德瑩
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00;G03F1/72
• 代理公司: 深圳市德力知識產權代理事務所44265
• 代理人: 林才桂

1.一種曝光方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟1、提供一具有鏡頭的曝光機、一光罩、以及一待曝光的基板，所述光罩上設有第一對位標記，所述基板上設有對應所述第一對位標記的第二對位標記；

步驟2、將所述光罩及基板放置到曝光機上并進行對位，通過曝光機的鏡頭測量基板上的第二對位標記與光罩上的第一對位標記的重合精度，根據重合精度判斷光罩是否發生形變，若重合精度不合格，則繼續進行步驟3，若重合精度合格，則直接進行步驟4；

步驟3、測量光罩的當前溫度值，并計算光罩的當前溫度值與預設的標準溫度值的差值，并輸入曝光機，曝光機根據光罩的當前溫度值與預設的標準溫度值的差值來驅動鏡頭對光罩的形變進行補正；

補正時，在以光罩的中心點為原點的直角坐標系內，首先根據光罩上的各個點預存在曝光機內的原始坐標值計算得出各個點在當前溫度下沿x軸和y軸的偏移量，再根據各個點在當前溫度下沿x軸和y軸的偏移量驅動鏡頭以補正光罩的形變，所述各個點在當前溫度下沿x軸和y軸的偏移量的計算公式為：

x’＝x×a×t；

y’＝y×a×t；

其中，x為光罩上的一點的預存在曝光機內的原始坐標值的橫坐標值，y為光罩上的一點的預存在曝光機內的原始坐標值值的縱坐標值，x’為該點在當前溫度下的沿x軸的偏移量，y’為該點在當前溫度下的沿y軸的偏移量，a為光罩的熱膨脹系數，t為當前溫度值與預設的標準溫度值的差值；

步驟4、利用曝光機及光罩對所述基板進行曝光。

2.如權利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述第一對位標記與第二對位標記均為十字形。

3.如權利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述光罩的形狀為矩形。

4.如權利要求3所述的曝光方法，其特征在于，所述光罩的長為945mm，寬為800mm。

5.如權利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述光罩的熱膨脹系數為0.6×10^-6/℃。

6.如權利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述步驟3中通過溫度傳感器測量所述光罩的當前溫度值。

7.如權利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述基板的形狀為矩形。

8.如權利要求7所述的曝光方法，其特征在于，所述基板的長為1850mm，寬為1500mm。

9.如權利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述預設的標準溫度值為23℃。