[發明專利]標定成像差異的方法及裝置在審
| 申請號: | 201610515723.4 | 申請日: | 2016-07-01 |
| 公開(公告)號: | CN107563987A | 公開(公告)日: | 2018-01-09 |
| 發明(設計)人: | 路鵬;黃業桃 | 申請(專利權)人: | 北京瘋景科技有限公司 |
| 主分類號: | G06T5/50 | 分類號: | G06T5/50;G06T7/80 |
| 代理公司: | 北京太合九思知識產權代理有限公司11610 | 代理人: | 劉戈 |
| 地址: | 100041 北京市石景*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 標定 成像 差異 方法 裝置 | ||
1.一種標定成像差異的方法,應用于攝像設備包括的至少兩個成像模組的成像差異的標定,其特征在于,包括:
獲取每個成像模組分別對同一光源下的同一標定目標進行成像所得到的標定圖像;
根據所述標定圖像,提取每個成像模組對應的成像信息,所述成像信息包括亮度和/或色度;
根據所述每個成像模組對應的成像信息及預設的校正模型,確定校正參數,以使所述攝像設備在拍攝中根據所述校正參數對成像模組所成的圖像進行校正。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述成像模組包括第一成像模組和第二成像模組,所述第一成像模組對應的目標成像區域與所述第二成像模組對應的目標成像區域部分重疊,所述標定目標位于所述第一成像模組對應的目標成像區域與所述第二成像模組對應的目標成像區域的重疊區域內。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述成像模組包括第一成像模組和第二成像模組,所述標定目標包括至少兩個不同的標定色塊,所述預設的校正模型,包括:
L2=a*L1+b;
其中,L1為所述第一成像模組對應的標定圖像的成像信息,L2為所述第二成像模組對應的標定圖像的成像信息,a和b為校正參數。
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,還包括:
所述標定目標包括至少兩個標定色塊,每個所述標定圖像包括至少兩個圖像通道;
根據所述標定圖像的至少兩個圖像通道,提取所述標定圖像在所述至少兩個圖像通道上的成像信息;
根據所述標定圖像在所述至少兩個圖像通道上的成像信息及預設的校正模型,確定所述至少兩個圖像通道各自對應的校正參數,以使所述攝像設備在拍攝中根據圖像通道各自對應的校正參數對成像模組所成圖像的相應圖像通道進行校正。
5.一種調節成像差異的方法,于攝像設備端執行,所述攝像設備包括至少兩個成像模組,其特征在于,包括:
通過所述至少兩個成像模組對各自對應的目標成像區域進行成像,得到至少兩個圖像;
根據預設的校正參數,對至少一個所述圖像進行校正;
將包含有校正后的圖像的至少兩個圖像,拼接成目標圖像。
6.根據權利要求5所述的方法,其特征在于,所述校正參數包括放大系數和偏置量,所述對至少一個所述圖像進行校正,包括:
以所述至少兩個成像模組中的一個為基準模組,將基準模組以外的其他模組所成圖像每個像素的成像信息乘以所述放大系數并加上所述偏置量;
或者,將基準模組以外的其他模組所成圖像每個像素的成像信息除以所述放大系數并減去所述偏置量,所述成像信息包括亮度和/或色度。
7.根據權利要求5所述的方法,其特征在于,所述圖像包括至少兩個圖像通道,不同的圖像通道對應不同校正參數,所述校正參數包括放大系數和偏置量,所述對至少一個所述圖像進行校正,包括:
以所述至少兩個成像模組中的一個為基準模組,將基準模組以外的其他模組所成圖像在每個圖像通道上的像素乘以相應圖像通道對應的放大系數并加上對應的偏置量;或者,將基準模組以外的其他模組所成圖像在每個圖像通道上的像素除以相應圖像通道對應的放大系數并減去對應的偏置量。
8.一種標定成像差異的裝置,應用于攝像設備包括的至少兩個成像模組的成像差異的標定,其特征在于,包括:
獲取模塊,用于獲取每個成像模組分別對同一光源下的同一標定目標進行成像所得到的標定圖像;
提取模塊,用于根據所述標定圖像,提取每個成像模組對應的成像信息,所述成像信息包括亮度和/或色度;
確定模塊,用于根據所述每個成像模組對應的成像信息及預設的校正模型,確定校正參數,以使所述攝像設備在拍攝中根據所述校正參數對成像模組所成的圖像進行校正。
9.根據權利要求8所述的裝置,其特征在于,所述成像模組包括第一成像模組和第二成像模組,所述第一成像模組對應的目標成像區域與所述第二成像模組對應的目標成像區域部分重疊,所述標定目標位于所述第一成像模組對應的目標成像區域與所述第二成像模組對應的目標成像區域的重疊區域內。
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