[發明專利]一種光刻膠剝離液

在審

• 申請號: 201610506315.2
• 申請日: 2016-06-29
• 公開（公告）號: CN107544215A
• 公開（公告）日: 2018-01-05
• 發明（設計）人: 鄢艷華;康威;尹靜雅;陳昊
• 申請（專利權）人: 深圳新宙邦科技股份有限公司
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42
• 代理公司: 深圳市博銳專利事務所44275
• 代理人: 張明

技術領域

本發明涉及化學蝕刻技術，特別涉及一種光刻膠剝離液。

背景技術

光刻膠又稱光致抗蝕劑，主要由感光樹脂、增感劑和溶劑三種成分組成。感光樹脂經光照后，在曝光區能很快地發生光固化反應，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性、親合性等發生明顯變化。經曝光、顯影、刻蝕、擴散、離子注入、金屬沉積等工藝將所需的微細圖形從掩模版轉移至加工的基板上、最后通過去膠剝離液將未曝光部分余下的光刻膠清洗掉，從而完成整個圖形轉移過程，當然對于不同制程的面板，由于制程及光刻膠成分的差異性，所用剝離液的成分存在一定的差異。

目前技術中，AMOLED類面板中用于去除光刻膠的剝離液以水性剝離液為主，主要成分為有機胺化合物、極性有機溶劑以及水，其中有機胺類主要是一些脂肪胺和羥胺類物質中的一種以上，有機溶劑主要包括乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丁醚、二乙二醇單烷基醚、γ-丁內酯(GBL)、1，3-二甲基-2-咪唑酮(DMI)、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、二甲基亞砜(DMSO)、二丙二醇單甲醚和二丙二醇單乙醚等。上述水性剝離液相對有機剝離液具有明顯的價格優勢，但是由于有較大含量的水存在，它具有使用壽命短，剝離能力較差、金屬配線腐蝕嚴重和難以重復利用等問題，而Al制程中用的剝離液為有機剝離液，現有技術中，上述有機剝離液的主要成分為乙醇胺，還有一定量的有機溶劑，如DMSO，但此種剝離液一般只能用于具有Mo/Al/Mo結構的Al制程中，無法用于ITO/Ag/ITO；且乙醇胺的含量高達60％以上，有很強的腐蝕性，另外由于溶液的熔點較低，低溫下易發生結晶現象。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是：提供一種剝離效果好，可同時用于具有Mo/Al/Mo和ITO/Ag/ITO結構的面板且抗腐蝕性高的光刻膠剝離液。

為了解決上述技術問題，本發明采用的技術方案為：

一種光刻膠剝離液，包括有機胺化合物、有機溶劑和添加劑；所述添加劑選自8-羥基喹啉、油酸三乙醇胺脂、天門冬氨酸三乙醇胺鹽或烷醇酰胺中的至少一種；所述光刻膠剝離液中，所述有機胺化合物的重量百分比含量為15-30％，所述有機溶劑的重量百分比含量為70-85％，所述添加劑的重量百分比含量為0.1-0.5％；且所述光刻膠剝離液中，各組分的總含量為100％。

本發明的有益效果在于：

(1)本發明的光刻膠剝離液，由于同時含有機胺和添加劑，通過二者的配合，使光刻膠剝離液具有較強的溶解光刻膠的能力，實現快速剝離；同時，添加劑的存在可減緩有機胺滲透到要形成的圖形層中而對其產生腐蝕，從而抑制終端產品受腐蝕的幾率，提高質量；并且，本專利中加入的有機溶劑不僅具有較好的溶解性，同時親水性強，在配線工藝時可以避免光刻膠的在附著；

(2)添加的上述添加劑，可防止金屬層的腐蝕，少量的添加劑不僅具有很好的緩蝕作用，同時屬于水溶性成份，不會造成殘留，對環境污染小；剝離過程完成后，添加劑可直接用水清洗而不會造成添加劑在金屬上的殘留，節省了成本；

(3)低溫性能較好，不易發生結晶；低揮發性和低毒性，不會給操作人員的健康及其環境帶來危害；

(4)能同時實現ITO/Ag/ITO及Mo/Al/Mo結構層中光刻膠的快速剝離和對金屬配線良好的防腐蝕性，不僅剝離效果強，使用壽命長，且不同制程中共用一種剝離液體系，藥液使用后不需要對廢液分類處理，有利于一次回收廢液，大大節約了回收成本。

附圖說明

圖1為本發明實施例的光刻膠剝離液對ITO/Ag/ITO金屬層剝離后的SEM圖；

圖2為本發明實施例的光刻膠剝離液對ITO/Ag/ITO金屬層剝離后的OM圖；

圖3為本發明實施例的光刻膠剝離液對Mo/Al/Mo金屬層剝離后的SEM圖；

圖4為本發明實施例的光刻膠剝離液對Mo/Al/Mo金屬層剝離后的OM圖。

具體實施方式

為詳細說明本發明的技術內容、所實現目的及效果，以下結合實施方式并配合附圖予以說明。

有機胺化合物：本發明的有機胺化合物理論上可以選擇現有技術中的所有有機胺。有機胺類化合物的作用包括將大分子光刻膠中的樹脂類物質斷鍵為小分子，既保證較強的剝離性能，又不會造成其它金屬層的嚴重腐蝕。主要包括氮唑類、烷基胺類、亞烷基胺類，優選1,4-二甲基-1H-咪唑、7-氨基吲唑、5-氨基四唑、1-氨基-4-甲基哌嗪、丙醇胺、異丙醇胺、乙醇胺或二乙醇胺中的一種。