[發明專利]一種對稀土Nd3+離子印跡復合膜的制備方法有效
| 申請號: | 201610489435.6 | 申請日: | 2016-06-28 |
| 公開(公告)號: | CN106423089B | 公開(公告)日: | 2019-04-02 |
| 發明(設計)人: | 張福生;鄭旭東;劉恩利;喻龍寶;閆永勝 | 申請(專利權)人: | 江蘇大學 |
| 主分類號: | B01J20/26 | 分類號: | B01J20/26;B01J20/28;B01J20/30 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 212013 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 稀土 nd3 離子 印跡 復合 制備 方法 | ||
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