[發(fā)明專利]一種對稀土Nd3+離子印跡復合膜的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610489435.6 | 申請日： | 2016-06-28 |
| 公開（公告）號： | CN106423089B | 公開（公告）日： | 2019-04-02 |
| 發(fā)明（設計）人： | 張福生;鄭旭東;劉恩利;喻龍寶;閆永勝 | 申請（專利權）人： | 江蘇大學 |
| 主分類號： | B01J20/26 | 分類號： | B01J20/26;B01J20/28;B01J20/30 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 212013 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 稀土 nd3 離子 印跡 復合 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
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