[發(fā)明專利]級聯(lián)氧化反應(yīng)方法及其組件和應(yīng)用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610474534.7 | 申請日： | 2016-06-25 |
| 公開（公告）號： | CN107537409B | 公開（公告）日： | 2023-06-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 高福君;隆發(fā)云;蔡蕓;馬利群;丁亮 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海一品顏料有限公司 |
| 主分類號： | B01J8/12 | 分類號： | B01J8/12;C01G49/02 |
| 代理公司： | 上海市海華永泰律師事務(wù)所 31302 | 代理人： | 包文超 |
| 地址： | 201814 上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 級聯(lián) 氧化 反應(yīng) 方法 及其 組件 應(yīng)用 | ||
1.一種用于生產(chǎn)鐵的氧化物的反應(yīng)裝置，其特征在于，包括一種級聯(lián)氧化反應(yīng)組件；所述的級聯(lián)氧化反應(yīng)組件包括：
第一構(gòu)件，其上設(shè)置若干第一通孔；
第二構(gòu)件，其置于第一構(gòu)件上方，其上設(shè)置若干第二通孔；
第二構(gòu)件與第一構(gòu)件的孔徑比為2.5∶1～25∶1；
將反應(yīng)原料置于第二構(gòu)件上，所述的反應(yīng)原料無法完整地通過第二構(gòu)件的通孔，然后通入氣和液進行氧化反應(yīng)，隨著反應(yīng)的進行，所述的反應(yīng)原料被消耗，體積變小，進而能夠完整地通過第二構(gòu)件的通孔，逐級落入下層的第一構(gòu)件上，且亦無法完整地通過第一構(gòu)件的通孔，接著繼續(xù)進行氧化反應(yīng)，隨著反應(yīng)的進行，反應(yīng)原料被消耗，體積變小，進而能夠完整地通過第一構(gòu)件的通孔，而下落至反應(yīng)區(qū)的底部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于生產(chǎn)鐵的氧化物的反應(yīng)裝置，其特征在于，
第一構(gòu)件包括若干第一經(jīng)向柵條和若干第一緯向柵條，各個第一經(jīng)向柵條的間距大于等于5mm且小于80mm，各個第一緯向柵條的間距大于等于5mm且小于80mm；
第二構(gòu)件包括若干第二經(jīng)向柵條和若干第二緯向柵條，各個第二經(jīng)向柵條的間距為大于等于80mm且小于等于500mm，各個第二緯向柵條的間距大于等于80mm且小于等于500mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于生產(chǎn)鐵的氧化物的反應(yīng)裝置，其特征在于，所述第一構(gòu)件的高度為20mm～200mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于生產(chǎn)鐵的氧化物的反應(yīng)裝置，其特征在于，所述第二構(gòu)件的高度為30mm～700mm。
5.一種用于生產(chǎn)鐵的氧化物的反應(yīng)裝置，其特征在于，包括一種級聯(lián)氧化反應(yīng)組件；所述的級聯(lián)氧化反應(yīng)組件包括：
第一構(gòu)件，其上設(shè)置若干第一通孔；
第二構(gòu)件，其置于第一構(gòu)件上方，其上設(shè)置若干第二通孔；
第三構(gòu)件，其置于第二構(gòu)件上方，其上設(shè)置若干第三通孔；
第二構(gòu)件與第一構(gòu)件的孔徑比為2.5∶1～25∶1，第三構(gòu)件與第二構(gòu)件的孔徑比為2.5∶1～25∶1；
將反應(yīng)原料置于第三構(gòu)件上，反應(yīng)原料無法完整地通過所述的第三通孔，然后通入氣和液進行氧化反應(yīng)，隨著反應(yīng)的進行，反應(yīng)原料被消耗，體積變小，進而能夠完整地通過所述第三通孔，落入具有第二通孔的第二構(gòu)件上，且亦無法完整地通過所述的第二通孔，接著繼續(xù)進行氧化反應(yīng)，隨著反應(yīng)的進行，反應(yīng)原料被消耗，體積變小，進而能夠完整地通過所述的第二通孔，落入具有第一通孔的第一構(gòu)件上，且亦無法完整地通過所述的第一通孔，并繼續(xù)進行氧化反應(yīng)，隨著反應(yīng)的進行，反應(yīng)原料被消耗，體積變小，進而能夠完整地通過所述的第一通孔，落入反應(yīng)區(qū)的底部。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種用于生產(chǎn)鐵的氧化物的反應(yīng)裝置，其特征在于，
第一構(gòu)件包括若干第一經(jīng)向柵條和若干第一緯向柵條，各個第一經(jīng)向柵條的間距大于等于5mm且小于20mm，各個第一緯向柵條的間距大于等于5mm且小于20mm；
第二構(gòu)件置包括若干第二經(jīng)向柵條和若干第二緯向柵條，各個第二經(jīng)向柵條的間距為大于等于20mm且小于80mm，各個第二緯向柵條的間距大于等于20mm且小于80mm；
第三構(gòu)件包括若干第三經(jīng)向柵條和若干第三緯向柵條，各個第三經(jīng)向柵條的間距為大于等于80mm且小于等于500mm，各個第三緯向柵條的間距大于等于80mm且小于等于500mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種用于生產(chǎn)鐵的氧化物的反應(yīng)裝置，其特征在于，第一構(gòu)件的高度為20mm～100mm。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種用于生產(chǎn)鐵的氧化物的反應(yīng)裝置，其特征在于，第二構(gòu)件的高度為30mm～200mm。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種用于生產(chǎn)鐵的氧化物的反應(yīng)裝置，其特征在于，第三構(gòu)件的高度為40mm～700mm。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種用于生產(chǎn)鐵的氧化物的反應(yīng)裝置，其特征在于，還包括第四構(gòu)件，其置于所述第一構(gòu)件的下方。
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