[發(fā)明專利]濕式制程設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610440307.2 | 申請日: | 2016-06-17 |
| 公開(公告)號: | CN107459263A | 公開(公告)日: | 2017-12-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 黃榮龍;呂峻杰;陳瀅如 | 申請(專利權(quán))人: | 盟立自動化股份有限公司 |
| 主分類號: | C03C15/00 | 分類號: | C03C15/00;C03C23/00 |
| 代理公司: | 深圳新創(chuàng)友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司44223 | 代理人: | 江耀純 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 濕式制程 設(shè)備 | ||
1.一種濕式制程設(shè)備,可用以支撐一基板,所述基板具有一板體部及一側(cè)邊部,所述側(cè)邊部延伸于所述板體部,所述板體部具有一上表面及相對所述上表面的一下表面,其特征在于,包含:
一槽體,用以容置所述基板;
多個導(dǎo)輪,設(shè)置在所述槽體內(nèi),所述多個導(dǎo)輪對應(yīng)所述側(cè)邊部并用以支撐所述基板的所述側(cè)邊部;
多個液浮載板,設(shè)置在所述下表面下方,所述多個液浮載板用以對所述下表面噴射一處理液,以在所述下表面與所述多個液浮載板間形成一薄膜層流,所述薄膜層流用以液浮支撐所述板體部;以及
一水路模塊,耦接于所述多個液浮載板,所述水路模塊控制所述多個液浮載板產(chǎn)生能沿一輸送方向流動的所述薄膜層流或產(chǎn)生能沿相反于所述輸送方向的一回復(fù)方向流動的所述薄膜層流。
2.如權(quán)利要求1所述的濕式制程設(shè)備,其特征在于,所述水路模塊包含:
多個第一斜行水流通道,其走向斜交于所述輸送方向與所述回復(fù)方向,
所述多個第一斜行水流通道用以將所述處理液以一第一出水方向噴出,所述第一出水方向與所述輸送方向的內(nèi)積值大于零;以及
多個第二斜行水流通道,其走向斜交于所述輸送方向與所述回復(fù)方向,
所述多個第二斜行水流通道用以將所述處理液以一第二出水方向噴出,所述第二出水方向與所述回復(fù)方向的內(nèi)積值大于零。
3.如權(quán)利要求2所述的濕式制程設(shè)備,其特征在于,所述水路模塊還包含:
一供水泵,用以供給所述處理液;
一第一水路,連接所述多個第一斜行水流通道與所述供水泵,所述供水泵所供給的所述處理液通過所述第一水路進(jìn)入所述多個第一斜行水流通道;以及
一第二水路,連接所述多個第二斜行水流通道與所述供水泵,所述供水泵所供給的所述處理液通過所述第二水路進(jìn)入所述多個第二斜行水流通道。
4.如權(quán)利要求3所述的濕式制程設(shè)備,其特征在于,所述水路模塊還包含:
一第一止水閥,耦接于所述第一水路,所述第一止水閥用以選擇性地阻止所述供水泵所供給的所述處理液通過所述第一水路進(jìn)入所述多個第一斜行水流通道;以及
一第二止水閥,耦接于所述第二水路,所述第二止水閥用以選擇性地阻止所述供水泵所供給的所述處理液通過所述第二水路進(jìn)入所述多個第二斜行水流通道。
5.如權(quán)利要求2所述的濕式制程設(shè)備,其特征在于,所述多個第一斜行水流通道形成在一部分的所述多個液浮載板上,且所述多個第二斜行水流通道形成在另一部分的所述多個液浮載板上。
6.如權(quán)利要求5所述的濕式制程設(shè)備,其特征在于,所述部分的所述多個液浮載板與所述另一部分的所述多個液浮載板交錯設(shè)置。
7.如權(quán)利要求2所述的濕式制程設(shè)備,其特征在于,所述多個第一斜行水流通道與所述多個第二斜行水流通道分別形成在各液浮載板上。
8.如權(quán)利要求1所述的濕式制程設(shè)備,其特征在于,所述水路模塊包含:
多個第一循環(huán)水流通道,用以選擇性地將所述處理液噴出或吸入;以及
多個第二循環(huán)水流通道,用以選擇性地將所述處理液噴出或吸入,當(dāng)所述多個第一循環(huán)水流通道噴出所述處理液時,所述多個第二循環(huán)水流通道吸入所述多個第一循環(huán)水流通道所噴出的所述處理液,使所述處理液通過所述多個第一循環(huán)水流通道與所述多個第二循環(huán)水流通道產(chǎn)生沿所述輸送方向流動的所述薄膜層流,當(dāng)所述多個第二循環(huán)水流通道噴出所述處理液時,所述多個第一循環(huán)水流通道吸入所述多個第二循環(huán)水流通道所噴出的所述處理液,使所述處理液通過所述多個第二循環(huán)水流通道與所述多個第一循環(huán)水流通道產(chǎn)生沿所述回復(fù)方向流動的所述薄膜層流。
9.如權(quán)利要求8所述的濕式制程設(shè)備,其特征在于,所述水路模塊還包含:
一第一供水泵,用以供給所述處理液或?qū)⑺鎏幚硪何耄?/p>
一第一水路,連接所述多個第一循環(huán)水流通道與所述第一供水泵,所述第一供水泵所供給的所述處理液通過所述第一水路進(jìn)入所述多個第一循環(huán)水流通道,或所述第一供水泵將所述處理液通過所述第一水路由所述多個第一循環(huán)水流通道吸入;
一第二供水泵,用以供給所述處理液或?qū)⑺鎏幚硪何耄灰约?/p>
一第二水路,連接所述多個第二循環(huán)水流通道與所述第二供水泵,所述第二供水泵所供給的所述處理液通過所述第二水路進(jìn)入所述多個第二循環(huán)水流通道,或所述第二供水泵將所述處理液通過所述第二水路由所述多個第二循環(huán)水流通道吸入。
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