[發(fā)明專利]內離子源回旋加速器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610416387.8
• 申請日: 2016-06-15
• 公開（公告）號: CN105848403B
• 公開（公告）日: 2018-01-30
• 發(fā)明（設計）人: 何小中;趙良超;龐健;馬超凡;張開志;鄧建軍;石金水;劉本玉;章林文;李雷;李勁;楊國君;楊興林;楊振;荊曉兵;董攀;楊安民;江孝國;唐蜜;龍全紅
• 申請（專利權）人: 中國工程物理研究院流體物理研究所
• 主分類號: H05H13/00
• 分類號: H05H13/00;H05H7/00;A61B6/03
• 代理公司: 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙)11371
• 代理人: 何龍

技術領域

本發(fā)明涉及內離子源回旋加速器。

背景技術

內離子源回旋加速器主要是用于一種稱作PET(Positron Emission Tomography，正電子發(fā)射斷層掃描儀)的核醫(yī)學成像診斷設備。PET可以顯示腫瘤的代謝功能，不僅可以早期診斷腫瘤，而且可了解腫瘤有無轉移，對腫瘤惡性程度的分級、確定治療方案、觀察療效、鑒別復發(fā)等均有價值。

在內離子源回旋加速器中，真空獲得設備在運行或維護過程中容易引入雜質，導致內離子源回旋加速器出現(xiàn)故障。

發(fā)明內容

本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術的不足，提供一種內離子源回旋加速器，其采用分子泵作為真空獲得設備，同時將分子泵的輸入端朝下設置，將分子泵的輸入端從上方與上磁極的上通道連通，以避免分子泵在運行或維護過程中容易引入雜質的問題。

本發(fā)明的實施例通過以下技術方案實現(xiàn)：

內離子源回旋加速器，包括：相對于一平面上下對稱設置的上磁極和下磁極；分別圍繞上磁極和下磁極外周面的上線圈和下線圈；多個圍繞上線圈布置的上磁軛，多個圍繞下線圈布置的下磁軛；位于上磁極和下磁極之間，并與上磁極和下磁極連接的真空盒；上磁極開設有從上至下貫穿上磁極，且與真空盒連通的上通道；貫穿真空盒的壁，且出射端位于真空盒內的離子源；位于上磁極上方的分子泵，分子泵的輸入端朝下設置，分子泵的輸入端與上通道連通。

本發(fā)明的實施例提供的內離子源回旋加速器，其采用分子泵作為真空獲得設備，分子泵的安裝方向便于調整，從而能夠將分子泵的輸入端朝下設置，將分子泵的輸入端從上方與上磁極的上通道連通，從而避免了分子泵在運行或維護過程中容易引入雜質的問題。

在本發(fā)明的一種實施例中，上磁極包括上磁極底座，圍繞上磁極底座的中軸線均勻間隔設置于上磁極底座下表面的四個扇形的上磁極尖，以及設置在上磁極尖側面的上鑲條。下磁極包括下磁極底座，圍繞下磁極座的中軸線均勻間隔設置于下磁極底座上表面的四個扇形的下磁極尖，以及設置在下磁極尖側面的下鑲條。

在本發(fā)明的一種實施例中，八個上鑲條中，部分構成與上磁極尖固定連接的固定上鑲條，另一部分構成與上磁極尖可拆卸連接的活動上鑲條。八個下鑲條中，部分構成與下磁極尖固定連接的固定下鑲條，另一部分構成與下磁極尖可拆卸連接的活動下鑲條。

在本發(fā)明的一種實施例中，八個上鑲條中，其中四個上鑲條構成固定上鑲條，另外四個上鑲條構成活動上鑲條。八個下鑲條中，其中四個下鑲條構成固定下鑲條，另外四個下鑲條構成活動下鑲條。

在本發(fā)明的一種實施例中，上磁極尖的一個側面設置活動上鑲條，上磁極尖的另一個側面設置固定上鑲條；相鄰的上磁極尖的相鄰的側面設置相同種類的上鑲條。下磁極尖的一個側面設置活動下鑲條，下磁極尖的另一個側面設置固定下鑲條；相鄰的下磁極尖的相鄰的側面設置相同種類的下鑲條。

在本發(fā)明的一種實施例中，下磁極開設有從下至上貫穿下磁極，且與真空盒連通的下通道。內離子源回旋加速器還包括貫穿下通道并與離子源連接的位置調節(jié)機構。

在本發(fā)明的一種實施例中，位置調節(jié)機構包括驅動電機和連桿組件；連桿組件位于真空盒內，驅動電機的轉軸貫穿下通道與連桿組件的一端連接，連桿組件的另一端與離子源的出射端連接。

在本發(fā)明的一種實施例中，連桿組件包括第一連桿和第二連桿，第一連桿的后端與第二連桿的前端可轉動地連接，第一連桿的前端與離子源可轉動的連接，第二連桿的后端與驅動電機的轉軸連接。

在本發(fā)明的一種實施例中，第一連桿的前端與離子源的出射端可轉動的連接。

在本發(fā)明的一種實施例中，驅動電機的轉軸通過偏心輪與第二連桿的后端連接。

本發(fā)明的技術方案至少具有如下優(yōu)點和有益效果：

本發(fā)明的實施例提供的內離子源回旋加速器，其采用分子泵作為真空獲得設備，分子泵的安裝方向便于調整，從而能夠將分子泵的輸入端朝下設置，將分子泵的輸入端從上方與上磁極的上通道連通，從而避免了分子泵在運行或維護過程中容易引入雜質的問題。

附圖說明

為了更清楚的說明本發(fā)明實施例的技術方案，下面對實施例中需要使用的附圖作簡單介紹。應當理解，以下附圖僅示出了本發(fā)明的某些實施方式，不應被看作是對本發(fā)明范圍的限制。對于本領域技術人員而言，在不付出創(chuàng)造性勞動的情況下，能夠根據(jù)這些附圖獲得其他附圖。

圖1為本發(fā)明實施例中內離子源回旋加速器的內部結構示意圖；

圖2為本發(fā)明實施例中上磁極的仰視圖；

圖3為本發(fā)明實施例中下磁極的俯視圖；