[發(fā)明專利]一種雙層的全息防偽轉(zhuǎn)移紙及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610413457.4 | 申請日: | 2016-06-14 |
| 公開(公告)號: | CN106087580B | 公開(公告)日: | 2017-08-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李海山;蔣志輝 | 申請(專利權(quán))人: | 昆明瑞豐印刷有限公司 |
| 主分類號: | D21H27/08 | 分類號: | D21H27/08;D21H19/08;D21H19/14;D21H19/32;D21H19/18;D21H19/24;D21H19/82;B41M5/025 |
| 代理公司: | 昆明正原專利商標(biāo)代理有限公司53100 | 代理人: | 陳左,于洪 |
| 地址: | 650217 云南*** | 國省代碼: | 云南;53 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 雙層 全息 防偽 轉(zhuǎn)移 及其 制備 方法 | ||
1.一種雙層全息防偽轉(zhuǎn)移紙的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
步驟(1),對BOPP薄膜進行電暈處理,然后涂布離型層涂料形成離型層,涂布厚度為0.8-1μm,常溫涂布后,于40-50℃下烘干;
所述的離型層涂料的制備方法是,首先,按照重量份數(shù)計準(zhǔn)備如下原料:含氫硅油30-35份、巴西棕櫚蠟0.5-2份、聚三氟丙基甲基硅氧烷10-18份、納米電氣石1-2份、納米氧化鋅0.1-0.2份、過氧化二碳酸二環(huán)己酯0.5-2份、羧酸型水性聚氨酯28-37份、馬來酸酐1-2份、六甲基二硅氮烷0.1-0.2份;然后將含氫硅油、聚三氟丙基甲基硅氧烷、納米電氣石、納米氧化鋅和六甲基二硅氮烷攪拌至混合均勻后,升溫至40-55℃,接著保持溫度依次加入過氧化二碳酸二環(huán)己酯、馬來酸酐、羧酸型水性聚氨酯和巴西棕櫚蠟,之后,在40-55℃下攪拌20-30min,得到離型層涂料;
步驟(2),采用凹版輥涂涂布機,在步驟(1)的離型層上涂布著色層,常溫涂布后,于40-50℃下烘干;所述的烘干后的著色層厚度為1-1.8μm;
步驟(3),采用模壓機,在步驟(2)的著色層上進行模壓形成第一層全息層,然后真空蒸鍍一層ZnS透明介質(zhì)層,之后水洗至無ZnS異味后,于40-60℃下烘干,再在ZnS透明介質(zhì)層上涂布冷燙金UV膠水,待冷燙金UV膠水固化后進行第二次模壓形成第二層全息層,模壓之后,再在第二層全息層上真空鍍鋁形成鍍鋁層;
所述的ZnS透明介質(zhì)層的厚度為200-280埃;
所述的鍍鋁層的厚度為250-300埃;
步驟(4),將洗鋁保護油墨按照設(shè)計的圖案涂布在鍍鋁層上,待油墨固化后,采用堿水將未涂布保護層油墨的空白部分鋁層洗掉,然后去離子水清洗至無堿水殘留,于45-55℃下烘干,得到雙層全息轉(zhuǎn)移膜;
步驟(5),在紙張上印刷圖案的同時涂布冷燙金UV膠水,然后與步驟(4)所述的雙層全息轉(zhuǎn)移膜進行粘結(jié)復(fù)合,待膠水固化后,采用剝離機將BOPP薄膜剝離,即得到雙層全息防偽轉(zhuǎn)移紙;
步驟(3)和步驟(5)所述的冷燙金UV膠水的制備方法是,首先,按照重量份數(shù)計準(zhǔn)備如下原料:聚氨酯甲基丙烯酸酯樹脂20-30份、安息香雙甲醚1-3份、2-苯基丙烯酸乙酯55-82份、N-乙烯基吡咯烷酮25-33份、乙二胺5-8份、偶聯(lián)劑KH550 2-3份、阻聚劑0.1-0.2份、六甲基磷酰三胺0.5-2份、阿拉伯膠0.1-0.2份;然后將準(zhǔn)備的原料加熱至40-50℃,于100-200r/min的速度攪拌20-30min,即得到冷燙金UV膠水。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙層全息防偽轉(zhuǎn)移紙的制備方法,其特征在于,所述的第一層全息層中的防偽標(biāo)識與第二層全息層中的防偽標(biāo)識不同。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙層全息防偽轉(zhuǎn)移紙的制備方法,其特征在于,步驟(3)所述的冷燙金UV膠水的上膠量為每平方米濕量8-10g。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙層全息防偽轉(zhuǎn)移紙的制備方法,其特征在于,步驟(5)所述的冷燙金UV膠水的上膠量為每平方米濕量9-11g。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙層全息防偽轉(zhuǎn)移紙的制備方法,其特征在于,步驟(1)所述的BOPP薄膜的厚度為18-25μm。
6.權(quán)利要求1-5任意一項雙層全息防偽轉(zhuǎn)移紙的制備方法制得的雙層全息防偽轉(zhuǎn)移紙。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于昆明瑞豐印刷有限公司,未經(jīng)昆明瑞豐印刷有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610413457.4/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 轉(zhuǎn)移支撐件及轉(zhuǎn)移模塊
- 轉(zhuǎn)移頭及其制備方法、轉(zhuǎn)移方法、轉(zhuǎn)移裝置
- 器件轉(zhuǎn)移裝置、轉(zhuǎn)移系統(tǒng)及轉(zhuǎn)移方法
- 轉(zhuǎn)移設(shè)備和轉(zhuǎn)移系統(tǒng)
- 轉(zhuǎn)移基板及制備方法、轉(zhuǎn)移裝置、轉(zhuǎn)移方法
- 轉(zhuǎn)移裝置與轉(zhuǎn)移方法
- 轉(zhuǎn)移系統(tǒng)和轉(zhuǎn)移方法
- 轉(zhuǎn)移膜、轉(zhuǎn)移組件和微器件曲面轉(zhuǎn)移方法
- 轉(zhuǎn)移頭、轉(zhuǎn)移裝置和轉(zhuǎn)移方法
- 轉(zhuǎn)移工具及轉(zhuǎn)移方法





