[發明專利]一種控制晶圓排隊等待時間的方法和系統有效
| 申請號： | 201610398774.3 | 申請日： | 2016-06-07 |
| 公開（公告）號： | CN107481963B | 公開（公告）日： | 2020-01-03 |
| 發明（設計）人： | 王辛;王倫國;何家筠 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/677 | 分類號： | H01L21/677;H01L21/67;G05B19/00 |
| 代理公司： | 11336 北京市磐華律師事務所 | 代理人： | 董巍;高偉 |
| 地址： | 201203 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 控制 排隊 等待時間 方法 系統 | ||
1.一種控制晶圓排隊等待時間的方法，其特征在于，包括：
排隊等待時間起點測量步驟，其中包括在第一制造工藝中測量至少一個晶圓執行完所述第一制造工藝的第一時間節點；
排隊等待時間終點測量步驟，其中包括在所述第一制造工藝之后執行的第二制造工藝中測量所述至少一個晶圓開始執行所述第二制造工藝的第二時間節點；以及
根據所述第一時間節點和所述第二時間節點確定所述至少一個晶圓的排隊等待時間，其中所述至少一個晶圓的排隊等待時間為所述第二時間節點與所述第一時間節點的差。
2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述晶圓為同一批的多個晶圓，該批晶圓的排隊等待時間為所述多個晶圓的排隊等待時間中的最小值。
3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法用于控制單個晶圓至單個晶圓的運行。
4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法用于控制行批量晶圓至批量晶圓的運行。
5.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法用于控制單個晶圓至批量晶圓的運行。
6.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法用于控制批量晶圓至單個晶圓的運行。
7.一種控制晶圓排隊等待時間的系統，其特征在于，包括：
排隊等待時間起點測量單元，用于在第一制造工藝中測量至少一個晶圓執行完所述第一制造工藝的第一時間節點；
排隊等待時間終點測量單元，用于在所述第一制造工藝之后執行的第二制造工藝中測量所述至少一個晶圓開始執行所述第二制造工藝的第二時間節點；以及
控制單元，用于根據所述第一時間節點和所述第二時間節點確定所述至少一個晶圓的排隊等待時間并實現對晶圓排隊等待時間的控制，其中所述至少一個晶圓的排隊等待時間為所述第二時間節點與所述第一時間節點的差。
8.如權利要求7所述的系統，其特征在于，所述晶圓為同一批的多個晶圓，該批晶圓的排隊等待時間為所述多個晶圓的排隊等待時間中的最小值。
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H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
