[發明專利]一種Sn@C@g?C3N4納米復合物及其制備方法有效
| 申請號: | 201610397220.1 | 申請日: | 2016-05-31 |
| 公開(公告)號: | CN106077688B | 公開(公告)日: | 2018-04-06 |
| 發明(設計)人: | 劉先國;趙成云;陳浩;孫玉萍 | 申請(專利權)人: | 安徽工業大學 |
| 主分類號: | B22F9/14 | 分類號: | B22F9/14;B22F1/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 南京知識律師事務所32207 | 代理人: | 蔣海軍 |
| 地址: | 243002 *** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 sn sub 納米 復合物 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發明屬于材料制備技術領域,具體涉及一種Sn@C@g-C3N4納米復合物及其制備方法。
背景技術
當前經濟社會快速發展,環境污染問題嚴重影響人類的生存和發展。光催化技術能吸收太陽能降解和礦化環境中的污染物,將太陽能轉化為可儲存的氫能,因此在解決能源和環境問題方面有著重要的應用前景。光催化技術的核心是高效光催化材料的設計與合成。g-C3N4是一類似石墨結構的新型半導體,具有合適的半導體寬度(約2.7eV)、結構穩定、耐酸堿、無毒且生物兼容性好、成本低及易于化學改性等優點,已經被用于光催化合成反應、光催化降價污染物、光解水產氫和產氧以及氧化還原反應中。g-C3N4光生電子-空穴對分離效率低,從而導致光催化性能較低。異質結構有利于電子和空穴對的分離,從而提高量子效率。納米金屬粒子穩定性差、易團聚等缺陷限制其廣泛應用,然而與g-C3N4復合后,其較好的導電性能促進了電子轉移,增強了g-C3N4光催化活性。如:專利20120387276.0公開了一種Au/g-C3N4復合型微納米材料的制備方法。其采用的是將g-C3N4粉末加入氯金酸溶液中制成懸濁液,然后加熱,添加檸檬酸鈉,攪拌干燥,即得到Au/g-C3N4復合型微納米材料。專利201310606627.7公開了金屬/類石墨氮化碳復合物催化劑及其制備方法。其方法是將類石墨氮化碳制成溶液,在攪拌條件下加入硝酸銀,開啟光源,進行光還原,得到最終產物。專利201310220362.7公開了載Co介孔石墨相氮化碳可見光催化劑的制備方法和應用。該材料是先將單氰胺通過高溫焙燒,得到介孔石墨相氮化碳,然后將鈷的前驅體溶液浸入,并于馬弗爐內進行二次高溫焙燒,制得負載型催化劑 Co/g-C3N4。經檢索,Sn@C@g-C3N4納米復合物未見報道。
發明內容
為克服現有技術的不足,本發明的目的是提供一種Sn@C@g-C3N4納米復合物及其制備方法。
本發明提供了一種Sn@C@g-C3N4納米復合物,該納米復合物微觀結構為Sn@C核殼結構納米膠囊嵌入g-C3N4納米片中,該納米膠囊的粒徑為5~100nm。
本發明還提供了上述Sn@C@g-C3N4納米復合物的制備方法,該材料是利用等離子體電弧放電技術,在工作氣體下原位制備得到;其中:
采用石墨電極為陰極,錫-三聚氰胺粉末塊體為陽極靶材,陰極與陽極靶材之間保持2~30mm的距離;電弧放電的電壓為10~40V;工作氣體為氬氣和甲烷氣體。
所述陽極靶材為錫-三聚氰胺粉末塊體,將錫粉和三聚氰胺粉在壓強1MPa~1Gpa下壓制成塊體作為等離子電弧爐的陽極靶材材料,所述陽極靶材材料中錫所占的質量百分比為70~90%。
所述工作氣體氬氣的分壓為0.01~0.5MPa,甲烷氣體的分壓為0.01~0.3MPa。
相對現有技術,本發明的突出優點在于:
1)本發明首次制備出了Sn@C@g-C3N4納米復合物;
2)本發明制備過程條件簡單,易于控制,一次性生成產物,為Sn@C@g-C3N4納米復合物的實際應用提供了條件;
3)本發明所制備Sn@C@g-C3N4納米復合物,由于Sn@C的存在能較好地增加導電性能,促進了電子轉移,使Sn@C@g-C3N4納米復合物具有良好的光催 化活性,對于有機污染物降解提供了有效的解決方法。
附圖說明
圖1為本發明制備Sn@C@g-C3N4納米復合物的裝置示意圖;
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