[發明專利]曲面顯示裝置及其制備方法在審
| 申請號: | 201610365139.5 | 申請日: | 2016-05-27 |
| 公開(公告)號: | CN105785640A | 公開(公告)日: | 2016-07-20 |
| 發明(設計)人: | 占紅明;邵喜斌;馬禹;田超 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G02F1/1362;G02F1/1343;G02F1/139 |
| 代理公司: | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 曲面 顯示裝置 及其 制備 方法 | ||
1.一種曲面顯示裝置,包括對盒的第一襯底基板和第二襯底基板, 其特征在于,所述第一襯底基板上設置有彩色光阻層以及位于所述彩 色光阻層之上的像素電極層;所述第二襯底基板上設置有第二公共電 極層。
2.根據權利要求1所述的曲面顯示裝置,其特征在于,所述第一 襯底基板與所述彩色光阻層之間設置有第一公共電極,所述第一公共 電極與所述像素電極層中的像素電極形成存儲電容;
所述第一公共電極與所述彩色光阻層之間設置有與所述第一公共 電極相對的存儲電容電極塊,所述存儲電容電極塊與所述像素電極層 中的像素電極電連接。
3.根據權利要求2所述的曲面顯示裝置,其特征在于,所述第一 公共電極與所述彩色光阻層之間設置有源漏電極層,所述存儲電容電 極塊設置在所述源漏電極層中。
4.根據權利要求3所述的曲面顯示裝置,其特征在于,所述存儲 電容電極塊通過過孔與所述像素電極電連接。
5.根據權利要求2所述的曲面顯示裝置,其特征在于,所述存儲 電容電極塊在所述第一襯底基板上的正投影完全覆蓋所述第一公共電 極。
6.根據權利要求1所述的曲面顯示裝置,其特征在于,所述第一 襯底基板與所述彩色光阻層之間設置有第一公共電極,所述第一公共 電極與所述像素電極層中的像素電極形成存儲電容;
所述第一公共電極與所述彩色光阻層之間設置有存儲電容電極 塊,所述存儲電容電極塊與所述第一公共電極電連接。
7.根據權利要求6所述的曲面顯示裝置,其特征在于,所述第一 公共電極與所述彩色光阻層之間設置有源漏電極層,所述存儲電容電 極塊設置在所述源漏電極層中。
8.根據權利要求2所述的曲面顯示裝置,其特征在于,所述存儲 電容電極塊通過過孔與所述第一公共電極電連接。
9.根據權利要求1-8任一項所述的曲面顯示裝置,其特征在于, 所述彩色光阻層與所述像素電極層之間還設置有有機膜層。
10.根據權利要求1所述的曲面顯示裝置,其特征在于,所述第 一襯底基板與所述彩色光阻層之間設置有第一公共電極,所述第一公 共電極與所述像素電極層中的像素電極形成存儲電容;
所述彩色光阻層中各個彩色光阻之間設置有縫隙,所述縫隙與所 述第一公共電極相對,并且所述縫隙中設置有所述像素電極。
11.一種曲面顯示裝置的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
在第一襯底基板上形成彩色光阻層,在所述彩色光阻層之上形成 像素電極層;
在第二襯底基板上形成第二公共電極層;
將形成有彩色光阻層和像素電極層的第一襯底基板與形成有第二 公共電極層的第二襯底基板對盒。
12.根據權利要求11所述的曲面顯示裝置的制備方法,其特征在 于,
在形成彩色光阻層之前,所述方法還包括:在第一襯底基板上形 成第一公共電極,在所述第一公共電極之上形成存儲電容電極塊;在 形成像素電極層的過程中,所述方法還包括:使所述像素電極層中的 像素電極與所述存儲電容電極塊電連接。
13.根據權利要求12所述的曲面顯示裝置的制備方法,其特征在 于,所述的在所述第一公共電極之上形成存儲電容電極塊具體包括:
在所述第一公共電極之上形成包含有存儲電容電極塊的源漏電極 層。
14.根據權利要求11所述的曲面顯示裝置的制備方法,其特征在 于,
在形成彩色光阻層之前,所述方法還包括:在第一襯底基板上形 成第一公共電極,在所述第一公共電極之上形成與所述第一公共電極 相對的存儲電容電極塊、并使所述第一公共電極與所述存儲電容電極 塊電連接。
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