[發明專利]一種刻蝕機的晶圓傳送方法和裝置

在審

• 申請號: 201610363729.4
• 申請日: 2016-05-26
• 公開（公告）號: CN107437521A
• 公開（公告）日: 2017-12-05
• 發明（設計）人: 隋琳
• 申請（專利權）人: 北京北方華創微電子裝備有限公司
• 主分類號: H01L21/677
• 分類號: H01L21/677;H01J37/32
• 代理公司: 北京潤澤恒知識產權代理有限公司11319
• 代理人: 趙娟

1.一種刻蝕機的晶圓傳送方法，所述刻蝕機包括設備前端模組、真空傳送腔、至少一個工藝腔室以及位于所述設備前端模組和真空傳送腔之間的加鎖容器，其特征在于，所述方法包括：

當晶圓完成工藝腔室的工藝后，將所述晶圓從所述工藝腔室經由所述真空傳送腔傳送至加鎖容器；

在預設的停留時間內對所述加鎖容器持續抽氣；

對所述加鎖容器充氣，直至所述加鎖容器中的氣壓值回升至大氣壓值；

將所述晶圓從所述加鎖容器傳送至所述設備前端模組。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，還包括：

在將晶圓從所述加鎖容器傳送至所述設備前端模組后，將所述加鎖容器抽氣至預設的最小大氣壓強值。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述在預設的停留時間內對所述加鎖容器持續抽氣的步驟包括：

維持所述加鎖容器的壓強，在預設的停留時間內對所述加鎖容器持續抽氣。

4.根據權利要求1或2或3所述的方法，其特征在于，所述預設的停留時間通過以下方法生成：

獲取第一時間、第二時間、第三時間以及第四時間；所述第一時間為單個所述工藝腔室的工藝時間；所述第二時間為所述晶圓從所述工藝腔室經由所述真空傳送腔和所述加鎖容器，傳送至所述設備前端模組的傳輸時間；所述第三時間為：對所述加鎖容器抽氣至所述最小大氣壓強值的時間；所述第四時間為打開所述加鎖容器與所述真空傳送腔之間的真空端門所需的時間；

獲取工藝腔室的數量；

將所述第一時間減去所述第二時間、第三時間以及第四時間得到的值，除以所述工藝腔室的數量，得到停留時間。

5.根據權利要求1或2或3所述的方法，其特征在于，所述預設的停留時間為用戶輸入的時間。

6.一種刻蝕機的晶圓傳送裝置，所述刻蝕機包括設備前端模組、真空傳送腔、至少一個工藝腔室以及位于所述設備前端模組和真空傳送腔之間的加鎖容器，其特征在于，所述裝置包括：

第一傳送模塊，用于當晶圓完成工藝腔室的工藝后，將所述晶圓從所述工藝腔室經由所述真空傳送腔傳送至加鎖容器；

第一抽氣模塊，用于在預設的停留時間內對所述加鎖容器持續抽氣；

充氣模塊，用于對所述加鎖容器充氣，直至所述加鎖容器中的氣壓值回升至大氣壓值；

第二傳送模塊，用于將所述晶圓從所述加鎖容器傳送至所述設備前端模組。

7.根據權利要求6所述的裝置，其特征在于，還包括：

第二抽氣模塊，用于在將晶圓從所述加鎖容器傳送至所述設備前端模組后，將所述加鎖容器抽氣至預設的最小大氣壓強值。

8.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，所述抽氣模塊進一步包括：

穩壓抽氣子模塊，用于維持所述加鎖容器的壓強，在預設的停留時間內對所述加鎖容器持續抽氣。

9.根據權利要求6或7或8所述的裝置，其特征在于，所述預設的停留時間通過以下裝置生成：

時間獲取模塊，用于獲取第一時間、第二時間、第三時間以及第四時間；所述第一時間為單個所述工藝腔室的工藝時間；所述第二時間為所述晶圓從所述工藝腔室經由所述真空傳送腔和所述加鎖容器，傳送至所述設備前端模組的傳輸時間；所述第三時間為：對所述加鎖容器抽氣至所述最小大氣壓強值的時間；所述第四時間為打開所述加鎖容器與所述真空傳送腔之間的真空端門所需的時間；

腔室數量獲取模塊，用于獲取所述工藝腔室的數量；

停留時間計算模塊，用于將所述第一時間減去所述第二時間、第三時間以及第四時間得到的值，除以所述工藝腔室的數量，得到停留時間。

10.根據權利要求6或7或8所述的裝置，其特征在于，所述預設的停留時間為用戶輸入的時間。