[發(fā)明專利]靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器的布局圖案有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610356955.X | 申請(qǐng)日: | 2016-05-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107346770B | 公開(公告)日: | 2020-11-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 葉書瑋;吳宗訓(xùn);蘇智洺;郭有策 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 聯(lián)華電子股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/11 | 分類號(hào): | H01L27/11 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 陳小雯 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)灣*** | 國(guó)省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 靜態(tài) 隨機(jī)存取存儲(chǔ)器 布局 圖案 | ||
1.一種靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器的布局圖案,至少包含:
第一上拉晶體管(PL1)、第二上拉晶體管(PL2)、第一下拉晶體管(PD1)、第二下拉晶體管(PD2)、第一存取晶體管(PG1)以及第二存取晶體管(PG2)位于一基底上;
多個(gè)鰭狀結(jié)構(gòu)位于該基底上,該些鰭狀結(jié)構(gòu)至少包含有至少一第一鰭狀結(jié)構(gòu)、至少一第二鰭狀結(jié)構(gòu)、至少一第三鰭狀結(jié)構(gòu)以及至少一第四鰭狀結(jié)構(gòu);
J狀柵極結(jié)構(gòu),該J狀柵極結(jié)構(gòu)包含有一長(zhǎng)邊部分、一短邊部分,以及一連接該長(zhǎng)邊部分與該短邊部分的橋接部分,其中該第一下拉晶體管(PD1)至少包含該J狀柵極結(jié)構(gòu)以及該至少一第一鰭狀結(jié)構(gòu)、該至少一第二鰭狀結(jié)構(gòu)和該至少一第四鰭狀結(jié)構(gòu),其中該長(zhǎng)邊部分橫跨于該至少一第一鰭狀結(jié)構(gòu)、該至少一第二鰭狀結(jié)構(gòu)、該至少一第三鰭狀結(jié)構(gòu)以及該至少一第四鰭狀結(jié)構(gòu),而該短邊部分則跨越該至少一第一鰭狀結(jié)構(gòu);
第一存取柵極結(jié)構(gòu),位于該基底上,其中該第一存取柵極結(jié)構(gòu)與該J狀柵極結(jié)構(gòu)的該短邊部分排列方向相同,且該第一存取柵極結(jié)構(gòu)與該J狀柵極結(jié)構(gòu)的該短邊部分具有相同的一對(duì)稱軸,該第一存取柵極結(jié)構(gòu)橫跨該至少一第四鰭狀結(jié)構(gòu);以及
第一延伸接觸結(jié)構(gòu)(N1),橫跨于該至少一第一鰭狀結(jié)構(gòu)、該至少一第二鰭狀結(jié)構(gòu)、該至少一第三鰭狀結(jié)構(gòu)以及該至少一第四鰭狀結(jié)構(gòu),其中該第一延伸接觸結(jié)構(gòu)與該橋接部分不重疊。
2.如權(quán)利要求1所述的布局圖案,其中該J狀柵極結(jié)構(gòu)的該短邊部分,位于該橋接部分以及該第一存取柵極結(jié)構(gòu)之間。
3.如權(quán)利要求1所述的布局圖案,其中該J狀柵極結(jié)構(gòu)的該長(zhǎng)邊部分橫跨于該至少一第三鰭狀結(jié)構(gòu)上,組成該第一上拉晶體管(PL1)的一柵極。
4.如權(quán)利要求3所述的布局圖案,其中還包含一電壓源Vcc,與該至少一第三鰭狀結(jié)構(gòu)電連接。
5.如權(quán)利要求1所述的布局圖案,其中該第一延伸接觸結(jié)構(gòu)為連續(xù)結(jié)構(gòu)。
6.如權(quán)利要求1所述的布局圖案,其中還包含至少一字符線,與該第一存取柵極結(jié)構(gòu)電連接。
7.如權(quán)利要求1所述的布局圖案,其中該第一存取柵極結(jié)構(gòu)與該J狀柵極結(jié)構(gòu)不互相接觸。
8.如權(quán)利要求1所述的布局圖案,其中該J狀柵極結(jié)構(gòu)的該長(zhǎng)邊部分與該短邊部分沿著一第一方向排列,該橋接部分沿著一第二方向排列。
9.如權(quán)利要求1所述的布局圖案,其中還包含至少一位線,與該至少一第二鰭狀結(jié)構(gòu)電連接。
10.如權(quán)利要求1所述的布局圖案,其中還包含一電壓源Vss,與該至少一第一鰭狀結(jié)構(gòu)與該至少一第二鰭狀結(jié)構(gòu)電連接。
11.如權(quán)利要求1所述的布局圖案,其中該靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器的布局圖案位于一特定范圍內(nèi),該特定范圍具有一邊界,其中該橋接部分相鄰于該邊界。
12.如權(quán)利要求1所述的布局圖案,其中該第一延伸接觸結(jié)構(gòu)位于該J狀柵極結(jié)構(gòu)的該長(zhǎng)邊部分與該短邊部分之間。
13.如權(quán)利要求1所述的布局圖案,還包含一第二存取柵極結(jié)構(gòu),位于該基底上,其中該第二存取柵極結(jié)構(gòu)與該J狀柵極結(jié)構(gòu)的該短邊部分排列方向相同。
14.如權(quán)利要求13所述的布局圖案,其中該第二存取柵極結(jié)構(gòu)與該J狀柵極結(jié)構(gòu)的該短邊部分具有相同的一對(duì)稱軸。
15.如權(quán)利要求14所述的布局圖案,其中還包含第三存取晶體管(PG3)以及第四存取晶體管(PG4)位于該基底上。
16.如權(quán)利要求1所述的布局圖案,其中該橋接部分為一單層的多晶硅層。
17.如權(quán)利要求1所述的布局圖案,其中還包含接觸結(jié)構(gòu),位于該橋接部分與該長(zhǎng)邊部分之間,以及另一接觸結(jié)構(gòu)位于該橋接部分與該短邊部分之間,且該橋接部分為一金屬層。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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