[發(fā)明專利]石英腔體的清洗裝置及清洗方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610356861.2
• 申請日: 2016-05-25
• 公開（公告）號: CN107433275B
• 公開（公告）日: 2021-02-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 趙旭良;汪燕
• 申請（專利權(quán)）人: 上海新昇半導(dǎo)體科技有限公司
• 主分類號: B08B9/08
• 分類號: B08B9/08
• 代理公司: 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 金華

本發(fā)明提供了一種石英腔體的清洗裝置及清洗方法，所述清洗裝置包括：包括一清洗腔，設(shè)置于清洗腔底部的進(jìn)液口、排液口以及密封墊，在石英腔體的清洗過程中，所述密封墊與石英腔體的開口接觸并密封所述開口，其中，所述進(jìn)液口和排液口均位于所述開口在清洗腔底部的投影區(qū)域內(nèi)。采用本發(fā)明提供的清洗裝置對石英腔體進(jìn)行清洗時，由于密封墊可密封石英腔體的開口，因此清洗液只通入于石英腔體的內(nèi)部，從而可避免清洗液泄露出，確保石英腔體的外部不被清洗液所侵蝕。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種石英腔體的清洗裝置及清洗方法。

背景技術(shù)

石英腔體由于其含有的金屬雜質(zhì)較少，其主要物質(zhì)是高純度的二氧化硅，并且能承受較高的溫度，最高可達(dá)1200度，因此石英腔體被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造技術(shù)中。例如，在外延工藝中，是將硅片放置于石英腔體的內(nèi)部以對其進(jìn)行外延生長，即，于放置有硅片的石英腔體內(nèi)通入反應(yīng)源，所述反應(yīng)源在一定的條件下發(fā)生反應(yīng)，并于硅片表面上沉積一均勻的薄膜。然而，在此過程中，所述薄膜不僅沉積于硅片表面，同時還會沉積于石英腔體的內(nèi)壁上。從而，在經(jīng)過多次的沉積工藝之后，于石英腔體的內(nèi)壁上會形成一定厚度的薄膜層，若不及時去除該薄膜層，其不但會改變石英腔體內(nèi)部的幾何形狀而影響反應(yīng)氣流，并且該薄膜層中的顆粒物質(zhì)也可能成為石英腔體內(nèi)部的污染來源，進(jìn)而使后續(xù)于硅片上所形成的薄膜產(chǎn)生缺陷。因此，為保證石英腔體內(nèi)部的清潔度，以確保半導(dǎo)體工藝的穩(wěn)定性，需定期對該石英腔體的內(nèi)壁進(jìn)行清洗。

目前，一種清洗石英腔體的方式為浸泡式清洗，其所使用的清洗裝置如圖1所示，所述清洗裝置包括：清洗腔11、用于通入清洗液的進(jìn)液口12和用于排出清洗液的排液口13，進(jìn)液口12和排液口13均設(shè)置于清洗腔11上。當(dāng)采用以上所述的清洗裝置對石英腔體進(jìn)行清洗時，步驟如下：首先，通過進(jìn)液口12于清洗腔11內(nèi)通入清洗液，通入的清洗液的液位高于待清洗的石英腔體的高度；然后，將石英腔體浸入清洗液中，并放置一段時間；最后，通過所述排液口13排出清洗液。

在上述清洗方法中，將整個石英腔體完全浸沒于清洗液中，此時，石英腔體內(nèi)壁上的污染物會被清洗液所消融，以此達(dá)到對石英腔體的內(nèi)壁進(jìn)行清洗的目的。但是，由于上述清洗方式為整體浸泡的清洗方式，因此，對于并沒有沉積有薄膜層的石英腔體的外壁，清洗液同時也會對其造成不必要的侵蝕，從而讓石英腔體的使用壽命大大縮短，增加零件的成本。此外，整體浸泡的清洗方式勢必也造成清洗液的消耗量過大，導(dǎo)致不必要的浪費(fèi)，增加物料成本。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種石英腔體的清洗裝置及根據(jù)所述石英腔體的清洗裝置清洗石英腔體的方法，以解決現(xiàn)有的清洗裝置在對石英腔體清洗的過程中，對石英腔體的外部造成侵蝕的問題。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供石英腔體的清洗裝置，包括一清洗腔，所述清洗腔用于放置石英腔體以對其進(jìn)行清洗，其特征在于，所述清洗裝置還包括：設(shè)置于清洗腔底部的進(jìn)液口、排液口以及密封墊，在石英腔體的清洗過程中，所述密封墊與石英腔體的開口接觸并密封所述開口，其中，所述進(jìn)液口和排液口均位于所述開口在清洗腔底部的投影區(qū)域內(nèi)。

可選的，所述密封墊為環(huán)狀結(jié)構(gòu)，所述進(jìn)液口和排液口均位于所述環(huán)狀結(jié)構(gòu)所圍繞的區(qū)域內(nèi)。

可選的，所述密封墊的材質(zhì)為氟橡膠。

可選的，所述清洗裝置還包括一預(yù)壓裝置，所述預(yù)壓裝置包括預(yù)壓塊和驅(qū)動裝置，所述驅(qū)動裝置用于驅(qū)動所述預(yù)壓塊運(yùn)動，所述預(yù)壓塊與石英腔體接觸并對所述石英腔體施加一壓力。

可選的，于所述預(yù)壓塊與石英腔體接觸的一端上設(shè)置有一向內(nèi)凹陷的凹槽，所述凹槽與石英腔體的接觸面相互契合。

可選的，于所述預(yù)壓塊上還具有一與所述凹槽連通的氣體流通通路，所述氣體流通通路用于排出石英腔體內(nèi)的氣體。

可選的，所述清洗裝置還包括一攪拌裝置，所述攪拌裝置設(shè)置于所述清洗腔的底部并位于所述石英腔體的開口在清洗腔底部的投影區(qū)域內(nèi)。